JP2848441B2 - Cmos半導体装置 - Google Patents

Cmos半導体装置

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JP2848441B2
JP2848441B2 JP7317701A JP31770195A JP2848441B2 JP 2848441 B2 JP2848441 B2 JP 2848441B2 JP 7317701 A JP7317701 A JP 7317701A JP 31770195 A JP31770195 A JP 31770195A JP 2848441 B2 JP2848441 B2 JP 2848441B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テスト回路を有す
るCMOS半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、CMOS回路を有するCMOS半
導体装置では、高い故障検出率を得るため、様々なテス
ト回路及びテストの手法が考えられてきた。故障検出率
とは、テストの際に、CMOS半導体装置の素子及び配
線など考えられる全ての故障の中で、検出できる故障の
割合のことである。したがって、故障検出率の高いテス
トは、高い確率で不良品を選別することができる。
【0003】一般的なテスト手法としては、入力端子に
テストパターンを入力し、出力端子が、回路の論理通り
の正しい値を出力しているか判定しているものが挙げら
れる。したがって、このテストにおいて、回路に故障が
ある場合には、出力端子が期待される値とは違う値を出
力することになる。
【0004】しかし、近年、半導体プロセスの微細化が
進み、CMOS半導体装置の回路規模が大きくなるにつ
れて、前述のテストにおいて、高い故障検出率を得るた
めに、テストパターン長が増加する傾向がある。そのテ
ストパターン長の増加に伴い、テストパターンの作成に
膨大な時間が費やされるという問題点が生じてきた。
【0005】このような問題点を解決するためにIdd
qテストが考えられた。以下にIddqテストについ
て、簡単に説明する。
【0006】CMOS回路は、信号が変化する時には電
流が流れるが、通常、信号が変化しない時、即ち、定常
状態においては、電源からグラウンド(GND)へのパ
スがなく、このような定常状態では、数μAから数十μ
Aの電流しか流れない。Iddqテストとは、このよう
なCMOS回路の特性を利用し、定常状態における電流
を測定することにより、故障を発見するという手法であ
る。
【0007】最近では、複合論理ブロック等の使用によ
り、電流は流れても、電圧降下がスレッショルド電圧を
越えない程度で落ち着き、ファンクションテストでは動
作が正常になってしまうケースが増えてきている。この
場合、動作は正常だが、Iddqテストでは不良にな
る。この様なケースは、動作が正常なため問題がないと
されることもあるが、CMOS回路の低消費電力という
特徴は消えてしまう。
【0008】このように、Iddqテストは、ファンク
ションテストで検出不可能な欠陥を検出できるという特
徴をもっている。
【0009】また、ファンクションテストで発見可能な
欠陥があったとしても、その欠陥を故障として検出する
ためには、欠陥のあるトランジスタの入力を活性化する
他に、その影響を出力端子まで伝播する必要がある。こ
れに対し、Iddqテストでは、入力を活性化すること
により、その検出結果は、電源線を介して観測すること
が可能であり、その値を出力に伝播する必要がなく、ト
ランジスタを動作させるだけで良いため、ファンクショ
ンテストの補完としても使用可能である。
【0010】また、Iddqテストは、テストパターン
のある1パターンでCMOS回路の定常状態の電流を測
定すれば、そのCMOS半導体装置の全ての故障定義の
中の半分以上を検出することができる。更に、CMOS
回路の内部が変化する複数のテストパターンで定常状態
の電流を測定すれば、小さいテストパターンで効果的に
高い故障検出率を得ることが出来る。
【0011】ここで、Iddqテストにおいて注意すべ
き点として、CMOS半導体装置が、CMOS回路と、
PULL−UPバッファ又はPULL−DOWNバッフ
ァなどとの組み合わせからなる場合が挙げられる。PU
LL−UPバッファ及びPULL−DOWNバッファ
は、トランジスタのパス以外に、電源及びグラウンドと
つながる抵抗を持ったバッファであり、PULL−UP
バッファにおいては出力値が0になる際に、PULL−
DOWNバッファにおいては出力値が1になる際に、電
源とグラウンドとの間に電流パスが出来る。従って、テ
ストパターンを選択する場合、上記の様に電流パスが生
じる様なテストパターンを避けて選択せねばならない。
【0012】しかしながら、これらのバッファが電流カ
ットモードを持っている場合には、電流パスをカットす
ることにより、定常状態における電源からグラウンド
(GND)へ流れる電源電流を0にすることが出来、I
ddqテストの信頼性を向上させることが出来る。従っ
て、Iddqテストを行なうCMOS半導体装置の回路
は、定常状態における電源からGNDへの電源電流を0
にする機能を持つと、高精度のテストが出来ることとな
る。
【0013】このようなCMOS半導体装置の例とし
て、従来、図4に示されるようなCMOS差動回路が挙
げられる。このCMOS差動回路は、データ入力端子1
と、データ反転入力端子2と、テスト信号入力端子3
と、及び出力端子4とを有し、差動アンプ部5と、テス
ト回路部6bと第1のインバータ7とからなる。
【0014】ここで、テスト回路部6bは、テスト信号
入力端子3に接続されテスト信号により駆動させられる
nMOSトランジスタ15bからなっており、Iddq
テスト時における第1のインバータ7への入力を制御し
ている。
【0015】この様なテスト回路を有した差動回路を用
いて、Iddqテストを行なう時には、テスト信号入力
端子3に“H”を入力し、差動アンプ部5の電源電流を
0にする。この時、テスト回路部6bのnMOSトラン
ジスタ15bはオンになるので、差動アンプ部出力11
の電位を疑似的な出力“L”に固定する。また、第1の
インバータ7の電源電流も0となるため差動回路全体の
電源電流は0になり、これにより、Iddqテストを可
能としている。この時、出力端子4の電位は“H”に固
定される。
【0016】また、テスト信号入力端子3に“L”を入
力した時は、テスト回路部6bのnMOSトランジスタ
15bがオフとなり、CMOS差動回路は通常動作をす
る。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来のCMOS差動回路において、Iddqテストを
行なう時には、即ち、テスト信号入力端子3に“H”を
入力した時には、差動アンプ部5の疑似的な出力が
“L”に固定され、それにより、第1のインバータ7
は、常に“H”を出力することになる。このため、第1
のインバータ7の出力が“L”の時の故障が検出するこ
とが出来ず、故障検出率が上がりにくいという問題があ
った。
【0018】本発明の目的は、上記の問題を解決し、I
ddqテストを行なう時においても、通常動作時と同じ
論理値を出力する差動回路を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、電源ラ
インと、データ入力端子と、該データ入力端子及び前記
電源ラインに接続されたバッファ回路と、該バッファ回
路及び前記電源ラインに接続されたCMOS回路と、該
CMOS回路に接続されたデータ出力端子と、テスト回
路と、テストを行なうことを意味するテスト信号を入力
するためのテスト信号入力端子と、該テスト信号入力端
子に接続されテスト信号入力時に該バッファ回路と前記
電源ラインとの接続を遮断するスイッチ回路とを有し、
非テスト時に、前記データ入力端子からの入力データに
よって前記データ出力端子から所定の論理値のデータを
出力する一方、テスト時に、前記データ入力端子への入
力を固定している間に前記テスト信号入力端子へ前記テ
スト信号を入力して、テストを行う様にしたCMOS半
導体装置において、前記テスト回路は、前記データ入力
端子と前記CMOS回路との間において、前記バッファ
回路と並列に接続されており、前記テスト回路は、さら
に、前記テスト信号入力端子及び前記電源ラインに接続
され、且つ、テスト時に前記入力端子より入力する前記
入力データに従ってハイレベル或いはロウレベルの信号
を出力する機能を有することを特徴とするCMOS半導
体装置が得られる。
【0020】また、本発明によれば、前記CMOS半導
体装置において、前記データ入力端子は、第1及び第2
のデータ入力端子からなり、前記第2のデータ入力端子
へ入力されるデータは、前記第1のデータ入力端子へ入
力されるデータを反転した値を持つデータであり、前記
バッファ回路は、前記第1及び第2のデータ入力端子に
接続された差動アンプであり、前記CMOS回路は、第
1のインバータであることを特徴とするCMOS半導体
装置が得られる。
【0021】本発明によれば、特に、前記CMOS半導
体装置において、前記テスト回路は、前記第1のデータ
入力端子に接続され前記第1のデータ入力端子に入力さ
れたデータを反転する第2のインバータと、該第2のイ
ンバータの出力端子及び前記テスト信号入力端子に接続
された二入力ナンド回路と、該二入力ナンド回路の出力
端子に接続され該二入力ナンド回路の出力により駆動さ
せられるpMOSトランジスタと、前記第1のデータ入
力端子及び前記テスト信号入力端子に接続された二入力
アンド回路と、該二入力アンド回路の出力端子に接続さ
れ該二入力アンド回路の出力により駆動させられるnM
OSトランジスタとからなり、前記pMOSトランジス
タ及び前記nMOSトランジスタは、前記電源ラインと
グラウンドとの間に直列に接続され、更に、前記pMO
Sトランジスタと前記nMOSトランジスタとの共通接
続部分の電位が前記第1のインバータの入力となること
を特徴とするCMOS半導体装置が得られる。
【0022】更に、本発明によれば、前記CMOS半導
体装置において、前記テスト回路は、前記第2のデータ
入力端子及び前記テスト信号入力端子に接続された二入
力ナンド回路と、該二入力ナンド回路の出力端子に接続
され該二入力ナンド回路の出力により駆動させられるp
MOSトランジスタと、前記第1のデータ入力端子及び
前記テスト信号入力端子に接続された二入力アンド回路
と、該二入力アンド回路の出力端子に接続され該二入力
アンド回路の出力により駆動させられるnMOSトラン
ジスタとからなり、前記pMOSトランジスタ及び前記
nMOSトランジスタは、前記電源ラインとグラウンド
との間に直列に接続され、更に、前記pMOSトランジ
スタと前記nMOSトランジスタとの共通接続部分の電
位が前記第1のインバータの入力となることを特徴とす
るCMOS半導体装置が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態のCM
OS差動回路を図面を用いて説明する。
【0024】(第1の実施の形態)本発明の第1の実施
の形態のCMOS差動回路は、図1に示すような回路構
成をしている。即ち、本発明の第1の実施の形態のCM
OS差動回路は、データ入力端子1、データ反転入力端
子2、及びテスト信号入力端子3を有しており、差動ア
ンプ部5、テスト回路部6a、第1のインバータ7とか
らなる。
【0025】また、テスト回路部6aは、データ入力端
子1に接続されデータ入力端子1に入力されたデータを
反転する第2のインバータ16と、第2のインバータ1
6の出力端子及びテスト信号入力端子3に接続された二
入力ナンド回路17と、二入力ナンド回路17の出力端
子に接続され二入力ナンド回路17の出力により駆動さ
せられるpMOSトランジスタ14と、データ入力端子
1及びテスト信号入力端子3に接続された二入力アンド
回路18と、二入力アンド回路18の出力端子に接続さ
れ二入力アンド回路18の出力により駆動させられるn
MOSトランジスタ15aとから構成されている。ここ
で、pMOSトランジスタ14及びnMOSトランジス
タ15aは、電源12とグラウンド13との間に直列に
接続されている。更に、pMOSトランジスタ14とn
MOSトランジスタ15aとの共通接続部分は第1のイ
ンバータ7に接続されており、Iddqテスト時には、
pMOSトランジスタ14とnMOSトランジスタ15
aとの共通接続部分の電位が第1のインバータ7への入
力信号、即ち、差動アンプ部出力11の疑似的出力とな
る。
【0026】このような回路構成を持つ本発明の第1の
実施の形態のCMOS差動回路の回路動作を、図2に示
す様な、タイミングチャートを用いて説明する。
【0027】図2における(a)〜(h)は、図1に示
す第1の実施の形態のCMOS差動回路における各節点
のタイミングチャートを示している。ここで、(a)は
データ入力端子1への入力信号のタイミングチャートで
あり、(b)はデータ反転入力端子2への入力信号のタ
イミングチャートであり、(c)はテスト信号入力端子
3への入力信号のタイミングチャートであり、(d)は
出力端子4からの出力信号のタイミングチャートであ
る。また、(e)は差動アンプ部出力11のタイミング
チャートであり、(f)はテスト回路部6aのpMOS
トランジスタゲート9のタイミングチャートであり、
(g)はテスト回路部6aのnMOSトランジスタゲー
ト10のタイミングチャートである。更に(h)は電源
12の電流のタイミングチャートを示している。
【0028】最初、時刻t0 において、データ入力端子
1に“L”((a)参照)、データ反転入力端子2に
“H”((b)参照)、テスト信号入力端子3に“L”
((c)参照)を入力すると、差動アンプ部出力11が
“H´”(H>H´)となり((e)参照)、第1のイ
ンバータ7に“H´”の信号が入力され、出力端子4か
らの出力は“L”となる((d)参照)。この時、差動
アンプ部5及び第1のインバータ7に電源電流が生じる
((h)参照)。
【0029】次に、時刻t1 において、データ入力端子
1への入力が“L”から“H”に((a)参照)、デー
タ反転入力端子2への入力が“H”から“L”に
((b)参照)変化すると、差動アンプ部出力11が
“H´”から“L´”に((e)参照)、出力端子4か
らの出力が“L”から“H”に((d)参照)変化す
る。この時、時刻t0 の時と同様、差動アンプ部5及び
第1のインバータ7には、電源電流が生じている
((h)参照)。
【0030】次に、時刻t2 において、テスト信号入力
端子3への入力が“L”から“H”に変化すると
((c)参照)、差動アンプ部5のpMOSトランジス
タ8がオフになり、テスト回路部6aが動作し、テスト
回路部6aのnMOSトランジスタゲート10が“L”
から“H”に変化し((g)参照)、テスト回路部6a
のnMOSトランジスタ15aがオンし、差動アンプ部
出力11は、“L´”から疑似的な出力“L”に変化す
る((e)参照)。しかし、出力端子4からの出力は、
“H”のままである((d)参照)。ここで、電源電流
は、差動アンプ部5のpMOSトランジスタ8がオフに
なり、差動アンプ部5は切り離されるため、“0”に変
化する((h)参照)。この時、CMOS差動回路の出
力端子4における出力論理値は通常動作時の出力論理値
のまま、電源電流は0になり、Iddqテストが可能と
なる。
【0031】次に、時刻t3 において、テスト信号入力
端子3への入力が“H”から“L”に変化すると
((c)参照)、テスト回路部6aのnMOSトランジ
スタゲート15aは、“H”から“L”に変化し
((g)参照)、差動アンプ部出力11は、疑似的な出
力“L”から実際の出力“L´”へと変化する((e)
参照)。しかし、出力端子4からの出力は、“H”のま
まである((d)参照)。また、差動アンプ部5のpM
OSトランジスタ8がオンになり、差動アンプ部5に電
源電流が生じ((h)参照)、CMOS差動回路は、通
常動作に戻る。
【0032】次に、時刻t4 において、データ入力端子
1への入力が“H”から“L”に((a)参照)、デー
タ反転入力端子2への入力が“L”から“H”に
((b)参照)変化すると、差動アンプ部出力11が
“L”から“H”に((e)参照)、出力端子4からの
出力が“H”から“L”に((d)参照)変化する。こ
の時、時刻t1 と同様に、差動アンプ部5及び第1のイ
ンバータ7には電源電流が生じる((h)参照)。
【0033】次に、時刻t5 において、テスト信号入力
端子3への入力が“L”から“H”へと変化すると
((c)参照)、差動アンプ部5のpMOSトランジス
タ8がオンからオフになり、テスト回路部6aが動作
し、テスト回路部6aのpMOSトランジスタゲート9
が“H”から“L”に変化し((f)参照)、テスト回
路部6aのpMOSトランジスタ14がオフからオンに
変化する。これにより、差動アンプ部出力11は、“H
´”から疑似的な出力“H”になる((e)参照)。し
たがって、出力端子4からの出力は“L”のままとなる
((d)参照)。また、電源電流は、時刻t2 と同様
に、“0”となる。この時、CMOS差動回路の出力端
子4における出力論理値は、通常動作時の出力論理値の
まま、電源電流は0になり、Iddqテストが可能とな
る。
【0034】次に、時刻t6 において、テスト信号入力
端子3への入力が“H”から“L”へと変化すると
((c)参照)、テスト回路部6aのpMOSトランジ
スタゲート9は、“L”から“H”へと変化し((f)
参照)、差動アンプ部出力11は、疑似的な出力“H”
から実際の出力“H´”へと変化する((e)参照)。
この時、出力端子4からの出力は、“L”のままである
((d)参照)。また、差動アンプ部5のpMOSトラ
ンジスタ8がオフからオンになり、差動アンプ部5に電
源電流が生じ((h)参照)、CMOS差動回路は、通
常動作に戻る。
【0035】このようにして、第1の実施の形態のCM
OS差動回路は、差動アンプ部5と電源との間を遮断
し、電源電流を0にし、CMOS差動回路のIddqテ
ストを行なうと共に、差動アンプ部出力を疑似的に作り
出し、通常動作と同じ論理値を出力することを可能とし
ている。
【0036】(第2の実施の形態)本発明の第2の実施
の形態のCMOS差動回路を図面を用いて説明する。
【0037】第2の実施の形態のCMOS差動回路は、
図3に示す様な回路構成をしている。図3を参照する
と、ほぼ第1の実施の形態のCMOS差動回路とその回
路構成が同じであるが、テスト回路部6aは、異なって
いることが分かる。
【0038】第2の実施の形態のCMOS差動回路にお
けるテスト回路部6aは、データ反転入力端子2及びテ
スト信号入力端子3に接続された二入力ナンド回路17
と、二入力ナンド回路17の出力端子に接続され二入力
ナンド回路17の出力により駆動させられるpMOSト
ランジスタ14と、データ入力端子1及びテスト信号入
力端子3に接続された二入力アンド回路18と、二入力
アンド回路18の出力端子に接続され二入力アンド回路
18の出力により駆動させられるnMOSトランジスタ
15aとから構成されている。ここで、pMOSトラン
ジスタ14及びnMOSトランジスタ15aは、電源1
2とグラウンド13との間に直列に接続されている。更
に、pMOSトランジスタ14とnMOSトランジスタ
15aとの共通接続部分は第1のインバータ7に接続さ
れており、Iddqテスト時には、pMOSトランジス
タ14とnMOSトランジスタ15aとの共通接続部分
の電位が第1のインバータ7の入力信号、即ち、差動ア
ンプ部出力11の疑似的出力となる。
【0039】この第2の実施の形態のCMOS差動回路
は、pMOSトランジスタのゲート9の信号となる二入
力ナンド回路17の入力において、第1の実施の形態の
CMOS差動回路の様に、データ入力端子1からの入力
を第2のインバータ16に通してから二入力ナンド回路
17に入力するのではなく、データ反転入力端子2から
の入力を直接二入力ナンド回路17に入力することとし
ている。これにより、第1の実施の形態のCMOS差動
回路に比べ、第2のインバータ16が1つ減るため、回
路面積が小さくなるという利点を有している。
【0040】尚、回路の各節点におけるタイミングチャ
ートは、第1の実施の形態のCMOS差動回路と同じで
ある。
【0041】
【発明の効果】以上説明してきた様に、本発明によれ
ば、Iddqテストを行なう際に、故障検出率を低下さ
せることなく、高精度のテストを行なうことを容易にす
るCMOS半導体装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のCMOS差動回路
を示す回路図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態のCMOS差動回路
の各節点におけるタイミングチャートを示す図である。
【図3】本発明の第2の実施の形態のCMOS差動回路
を示す回路図である。
【図4】従来のCMOS差動回路を示す回路図である。
【符号の説明】
1 データ入力端子 2 データ反転入力端子 3 テスト信号入力端子 4 出力端子 5 差動アンプ部 6a テスト回路部(本発明) 6b テスト回路部(従来) 7 第1のインバータ 8 差動アンプ部のpMOSトランジスタ 9 テスト回路部のpMOSトランジスタゲート 10 テスト回路部のnMOSトランジスタゲート 11 差動アンプ部出力 12 電源 13 グラウンド(GND) 14 テスト回路部のpMOSトランジスタ 15a テスト回路部のnMOSトランジスタ 15b テスト回路部のnMOSトランジスタ 16 第2のインバータ 17 二入力ナンド回路 18 二入力アンド回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01R 31/28 - 31/3193 G01R 31/26 H01L 21/8238 H01L 27/04 H03K 19/00

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源ラインと、データ入力端子と、該デ
    ータ入力端子及び前記電源ラインに接続されたバッファ
    回路と、該バッファ回路及び前記電源ラインに接続され
    たCMOS回路と、該CMOS回路に接続されたデータ
    出力端子と、テスト回路と、テストを行なうことを意味
    するテスト信号を入力するためのテスト信号入力端子
    と、該テスト信号入力端子に接続されテスト信号入力時
    に該バッファ回路と前記電源ラインとの接続を遮断する
    スイッチ回路とを有し、非テスト時に、前記データ入力
    端子からの入力データによって前記データ出力端子から
    所定の論理値のデータを出力する一方、テスト時に、前
    記データ入力端子への入力を固定している間に前記テス
    ト信号入力端子へ前記テスト信号を入力して、テストを
    行う様にしたCMOS半導体装置において、 前記テスト回路は、前記データ入力端子と前記CMOS
    回路との間において、前記バッファ回路と並列に接続さ
    れており、 前記テスト回路は、さらに、前記テスト信号入力端子及
    び前記電源ラインに接続され、且つ、テスト時に前記入
    力端子より入力する前記入力データに従ってハイレベル
    或いはロウレベルの信号を出力する機能を有することを
    特徴とするCMOS半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1のCMOS半導体装置におい
    て、 前記データ入力端子は、第1及び第2のデータ入力端子
    からなり、 前記第2のデータ入力端子へ入力されるデータは、前記
    第1のデータ入力端子へ入力されるデータを反転した値
    を持つデータであり、 前記バッファ回路は、前記第1及び第2のデータ入力端
    子に接続された差動アンプであり、 前記CMOS回路は、第1のインバータであることを特
    徴とするCMOS半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のCMOS半導体装置に
    おいて、 前記テスト回路は、前記第1のデータ入力端子に接続さ
    れ前記第1のデータ入力端子に入力されたデータを反転
    する第2のインバータと、該第2のインバータの出力端
    子及び前記テスト信号入力端子に接続された二入力ナン
    ド回路と、該二入力ナンド回路の出力端子に接続され該
    二入力ナンド回路の出力により駆動させられるpMOS
    トランジスタと、前記第1のデータ入力端子及び前記テ
    スト信号入力端子に接続された二入力アンド回路と、該
    二入力アンド回路の出力端子に接続され該二入力アンド
    回路の出力により駆動させられるnMOSトランジスタ
    とからなり、 前記pMOSトランジスタ及び前記nMOSトランジス
    タは、前記電源ラインとグラウンドとの間に直列に接続
    され、更に、前記pMOSトランジスタと前記nMOS
    トランジスタとの共通接続部分の電位が前記第1のイン
    バータの入力となることを特徴とするCMOS半導体装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項2に記載のCMOS半導体装置に
    おいて、 前記テスト回路は、前記第2のデータ入力端子及び前記
    テスト信号入力端子に接続された二入力ナンド回路と、
    該二入力ナンド回路の出力端子に接続され該二入力ナン
    ド回路の出力により駆動させられるpMOSトランジス
    タと、前記第1のデータ入力端子及び前記テスト信号入
    力端子に接続された二入力アンド回路と、該二入力アン
    ド回路の出力端子に接続され該二入力アンド回路の出力
    により駆動させられるnMOSトランジスタとからな
    り、 前記pMOSトランジスタ及び前記nMOSトランジス
    タは、前記電源ラインとグラウンドとの間に直列に接続
    され、更に、前記pMOSトランジスタと前記nMOS
    トランジスタとの共通接続部分の電位が前記第1のイン
    バータの入力となることを特徴とするCMOS半導体装
    置。
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