JP2754420B2 - ウェーハ保持装置 - Google Patents
ウェーハ保持装置Info
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- JP2754420B2 JP2754420B2 JP16355690A JP16355690A JP2754420B2 JP 2754420 B2 JP2754420 B2 JP 2754420B2 JP 16355690 A JP16355690 A JP 16355690A JP 16355690 A JP16355690 A JP 16355690A JP 2754420 B2 JP2754420 B2 JP 2754420B2
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- Japan
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- wafer
- holding device
- charged particle
- particle beam
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空中でウェーハを高精度に保持する装置に
関するものである。
関するものである。
従来この種の装置では、ウェーハにおける電子線、イ
オンビーム線等の荷電粒子線の入射面（ウェーハ表面）
とは反対側（ウェーハ裏面側）に静電吸着装置があり、
ウェーハ裏面を吸着した後、ウェーハ表面を基準面に当
接していた。
オンビーム線等の荷電粒子線の入射面（ウェーハ表面）
とは反対側（ウェーハ裏面側）に静電吸着装置があり、
ウェーハ裏面を吸着した後、ウェーハ表面を基準面に当
接していた。
上記の如き従来の技術に於いてはウェーハは裏面から
静電吸着による力を受け、表面からはウェーハ位置決め
のための基準面から力を受けるため、表裏両面から力を
受け、ウェーハに歪が残る恐れがあった。
静電吸着による力を受け、表面からはウェーハ位置決め
のための基準面から力を受けるため、表裏両面から力を
受け、ウェーハに歪が残る恐れがあった。
あるいは、ウェーハ表面を基準面に当接する表面基準
を採用する代わりに、ウェーハの裏面を基準面に当接す
る裏面基準を採用することも考えられるが、裏面基準で
は、荷電粒子線の軸方向の位置を正確に決めることがで
きない。
を採用する代わりに、ウェーハの裏面を基準面に当接す
る裏面基準を採用することも考えられるが、裏面基準で
は、荷電粒子線の軸方向の位置を正確に決めることがで
きない。
本発明はこの様な従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、ウェーハの表面にしか力が加わらないウェーハ保持
装置を提供することを目的とする。
で、ウェーハの表面にしか力が加わらないウェーハ保持
装置を提供することを目的とする。
上記問題点の解決の為に本発明では、荷電粒子線の照
射されるウェーハを保持するウェーハ保持装置におい
て、前記荷電粒子線が入射するウェーハ表面の周縁部に
対する基準面を有すると共に、該基準面上に、薄膜で形
成した絶縁層を含む吸着手段を設けた。
射されるウェーハを保持するウェーハ保持装置におい
て、前記荷電粒子線が入射するウェーハ表面の周縁部に
対する基準面を有すると共に、該基準面上に、薄膜で形
成した絶縁層を含む吸着手段を設けた。
荷電粒子線の軸に高精度に直交する面になるよう加工
された基準面上に、薄膜で形成された絶縁層を含む吸着
手段が設けられており、薄膜の厚さのムラは10％以下の
凸凹に容易に抑えられるので少くともこの面に当接した
ウェーハの周縁部の軸方向の位置は正確に決められる。
従ってウェーハ全面はその平面度の範囲内で正しく位置
決めされる。ウェーハが正しく吸着されるか否かは、ウ
ェーハ重量と静電力との大小関係で決められる。前者よ
り後者が十分大きければよい。
された基準面上に、薄膜で形成された絶縁層を含む吸着
手段が設けられており、薄膜の厚さのムラは10％以下の
凸凹に容易に抑えられるので少くともこの面に当接した
ウェーハの周縁部の軸方向の位置は正確に決められる。
従ってウェーハ全面はその平面度の範囲内で正しく位置
決めされる。ウェーハが正しく吸着されるか否かは、ウ
ェーハ重量と静電力との大小関係で決められる。前者よ
り後者が十分大きければよい。
ウェーハ重量を50gr（８″ウェーハ）とすると、静電
力Ｆは50gr重より十分大きければよい。
力Ｆは50gr重より十分大きければよい。
従って 重を満せばよい。
100gr重/cm2の静電力が得られる場合には、1cm2以上
の面積が取れればウェーハを吸着できる。８インチウェ
ーハの周縁部で幅1mmのリング状領域を考えると、約6cm
2の面積が得られるので、吸着に必要な十分な面積が得
られる。
の面積が取れればウェーハを吸着できる。８インチウェ
ーハの周縁部で幅1mmのリング状領域を考えると、約6cm
2の面積が得られるので、吸着に必要な十分な面積が得
られる。
以下、図面に示した実施例に基づいて本発明を説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例の部分拡大断面図（第２図
（ｂ）の一点鎖線Ｂ円の部分）であり、第２図（ａ）、
（ｂ）は上記一実施例の全体を概略的に示した図であ
り、第２図（ａ）は平面図、第２図（ｂ）は第２図
（ａ）のＡ−Ａ′矢視断面図である。
（ｂ）の一点鎖線Ｂ円の部分）であり、第２図（ａ）、
（ｂ）は上記一実施例の全体を概略的に示した図であ
り、第２図（ａ）は平面図、第２図（ｂ）は第２図
（ａ）のＡ−Ａ′矢視断面図である。
基準ブロック１は、中央部に円形の開口1aを形成され
た上板部1bと、上板部1bを支える横断面形状がコ字形
（第２図（ａ）参照）の脚部1cとを有する。脚部1cの開
口部1dはウェーハ10の挿脱孔として機能し、従って、対
向する脚部1cの間隔及び、奥行きは当然ウェーハ10の外
径よりも大きく設計してある。また、上板部1bの開口1a
の径は、ウェーハ10の外径より若干小さく設計してあ
る。
た上板部1bと、上板部1bを支える横断面形状がコ字形
（第２図（ａ）参照）の脚部1cとを有する。脚部1cの開
口部1dはウェーハ10の挿脱孔として機能し、従って、対
向する脚部1cの間隔及び、奥行きは当然ウェーハ10の外
径よりも大きく設計してある。また、上板部1bの開口1a
の径は、ウェーハ10の外径より若干小さく設計してあ
る。
そして、上板部1bの下面には、開口1aに隣接して数mm
幅のリング状の基準面２が形成さており、この基準面２
はウェーハ10の表面周辺部に対する取付基準面として機
能する。そのため、この基準面２は、荷電粒子線の軸に
高精度に直交する面として加工されている。
幅のリング状の基準面２が形成さており、この基準面２
はウェーハ10の表面周辺部に対する取付基準面として機
能する。そのため、この基準面２は、荷電粒子線の軸に
高精度に直交する面として加工されている。
基準面２以外の基準ブロック１のほぼ全表面には、帯
電防止のために、チタンの蒸着膜３が形成されている。
電防止のために、チタンの蒸着膜３が形成されている。
また、基準面２の表面には、真空蒸着等で電極4a、4b
を形成する金属の薄膜が幅約1mm、厚さ0.2μｍ程度で形
成されている。荷電粒子線の軸に直交する面内で見た
（平面図）第２図（ａ）に表われているように、電極4
a、4bは、周辺を２分割するように形成されている。
を形成する金属の薄膜が幅約1mm、厚さ0.2μｍ程度で形
成されている。荷電粒子線の軸に直交する面内で見た
（平面図）第２図（ａ）に表われているように、電極4
a、4bは、周辺を２分割するように形成されている。
そして、これら電極4a、4bにはそれぞれ導線5a、5bが
接続され、導線5a、5bは基準ブロック１の内側面に沿っ
て導かれた後、シール材6a、6b等を介して基準ブロック
１の内部から外部に導出される。
接続され、導線5a、5bは基準ブロック１の内側面に沿っ
て導かれた後、シール材6a、6b等を介して基準ブロック
１の内部から外部に導出される。
このようにして外部に導出された導線5a、5bには、そ
れぞれ＋100V、−100Vが印加される。
れぞれ＋100V、−100Vが印加される。
また、電極4a、4bの表面及び基準面２の表面には、真
空蒸着によってアルミナ（Al2O3）の絶縁膜７が厚さ３
μｍ程度で形成されている。
空蒸着によってアルミナ（Al2O3）の絶縁膜７が厚さ３
μｍ程度で形成されている。
ウェーハ搬送用の静電吸着装置９の基台90は、平面形
状がほぼ円形であり、その上面には電極91とアルミナ等
の絶縁膜92とが形成されており、このような静電吸着装
置９は周知の構成のものである。
状がほぼ円形であり、その上面には電極91とアルミナ等
の絶縁膜92とが形成されており、このような静電吸着装
置９は周知の構成のものである。
このような構成であるから、静電吸着装置９によっ
て、上板部1bと脚部1cで囲まれた空間内に運ばれた後、
開口1aの中心とほぼ中心を合わせられたウェーハ10は、
静電吸着装置９の上昇によって、基準面２の蒸着膜３に
当接する。静電吸着装置９の上昇用モータの負荷増等に
より上記当接を検出すると、この検出信号によって、電
極4a、4bにそれぞれ＋100V、−100Vが印加され、その
後、静電吸着装置９の電極91への通電が切られ、静電吸
着装置９が下降して停止する。
て、上板部1bと脚部1cで囲まれた空間内に運ばれた後、
開口1aの中心とほぼ中心を合わせられたウェーハ10は、
静電吸着装置９の上昇によって、基準面２の蒸着膜３に
当接する。静電吸着装置９の上昇用モータの負荷増等に
より上記当接を検出すると、この検出信号によって、電
極4a、4bにそれぞれ＋100V、−100Vが印加され、その
後、静電吸着装置９の電極91への通電が切られ、静電吸
着装置９が下降して停止する。
電極4a、4bにはそれぞれ＋100V、−100Vが印加されて
いるから、ウェーハ10は基準ブロック１に静電吸着され
ることになる。
いるから、ウェーハ10は基準ブロック１に静電吸着され
ることになる。
このとき、電極4a、4b及び絶縁膜７の厚みは3.2μｍ
程度であり、これらの厚みムラは10％以下であるので、
少くともウェーハ10の周縁部は正確に位置決めができ
る。従って、ウェーハ10の全表面は、その平坦度範囲内
に正しく位置決めができる。
程度であり、これらの厚みムラは10％以下であるので、
少くともウェーハ10の周縁部は正確に位置決めができ
る。従って、ウェーハ10の全表面は、その平坦度範囲内
に正しく位置決めができる。
そして、矢印Ｃ方向からウェーハ10上に荷電粒子線の
照射が行なわれる。
照射が行なわれる。
以上の実施例によれば、 （１）約50grのウェーハを約500gr重の力で吸着固定
しているので、Siウェーハを上面に吸着固定できる、
（２）構造が簡単で、静電チャック電圧は±100Vで動作
し、ロードアンロード用電源と兼用できる、（３）静電
チャック用の電極と絶縁層の形成は蒸着やスパッタで可
能なので簡単に作れ、信頼性がある、（４）表面基準で
あるので、ウェーハの厚みムラ等があってもウェーハ面
の荷電粒子線の軸方向の変動がない、（５）基準ブロッ
クがSiCの如き高価なセラミックスでなく、アルミナと
いう安価な材料でできるので安価である、という効果が
得られる。
しているので、Siウェーハを上面に吸着固定できる、
（２）構造が簡単で、静電チャック電圧は±100Vで動作
し、ロードアンロード用電源と兼用できる、（３）静電
チャック用の電極と絶縁層の形成は蒸着やスパッタで可
能なので簡単に作れ、信頼性がある、（４）表面基準で
あるので、ウェーハの厚みムラ等があってもウェーハ面
の荷電粒子線の軸方向の変動がない、（５）基準ブロッ
クがSiCの如き高価なセラミックスでなく、アルミナと
いう安価な材料でできるので安価である、という効果が
得られる。
〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、ウェーハの表面にしか
力が加わらないので、ウェーハに歪が残ることがなく、
正確に位置決めができる。
力が加わらないので、ウェーハに歪が残ることがなく、
正確に位置決めができる。
第１図は本発明の一実施例の部分拡大断面図（第２図
（ｂ）の一点鎖線Ｂで囲った円の部分）、第２図
（ａ）、（ｂ）は上記一実施例の全体を概略的に示した
図であり、第２図（ａ）は平面図、第２図（ｂ）は第２
図（ａ）のＡ−Ａ′矢視断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２……基準面、4a、4b……電極、 ７……アルミナ膜。
（ｂ）の一点鎖線Ｂで囲った円の部分）、第２図
（ａ）、（ｂ）は上記一実施例の全体を概略的に示した
図であり、第２図（ａ）は平面図、第２図（ｂ）は第２
図（ａ）のＡ−Ａ′矢視断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２……基準面、4a、4b……電極、 ７……アルミナ膜。
Claims (1)
- 【請求項１】荷電粒子線の照射されるウェーハを保持す
るウェーハ保持装置において、 前記荷電粒子線が入射するウェーハ表面の周縁部に対す
る基準面を有すると共に、該基準面上に、薄膜で形成し
た絶縁層を含む吸着手段を備えたことを特徴とするウェ
ーハ保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355690A JP2754420B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | ウェーハ保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355690A JP2754420B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | ウェーハ保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0454880A JPH0454880A (ja) | 1992-02-21 |
| JP2754420B2 true JP2754420B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=15776146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16355690A Expired - Fee Related JP2754420B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | ウェーハ保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2754420B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06326175A (ja) * | 1993-04-22 | 1994-11-25 | Applied Materials Inc | 集積回路処理装置において使用されるウエハサポートの誘電材への保護被覆とその形成方法 |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16355690A patent/JP2754420B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0454880A (ja) | 1992-02-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |