JP2751742B2 - 自動レイアウト用セル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路のマス
クパタン設計に関し、特にスタンダードセル型半導体集
積回路の自動レイアウト用セルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、スタンダード型半導体集積回路の
自動レイアウト用のプリミティブセルは、セルの外形が
一定で、セル内部に含まれる電源，グランド配線の巾も
一定であった。

【０００３】図４は、従来の半導体集積回路ブロックの
自動レイアウトの結果である。配線領域３は、セル領域
３間の配線を行うため一般的に中央部に配線が密集して
おり、配線領域３の高さは、その密集した部分によって
決定される。また、セル領域３の高さは一定である。ま
た、セル領域３の両端に電源配線１及びグランド配線２
が設けられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたような、自
動レイアウト用のプリミティブセルは、セルの外形が一
定で、セル内部に含まれる電源配線，グランド配線の巾
が一定であった。また、電源及びグランドはセル領域の
両端から提供される。

【０００５】今、同一セル列上に並べるセルのうち両端
部は、内側のセルに電源，グランドを供給する必要があ
るため、電源配線及びグランド配線は太くする必要があ
る。しかし、中央部のセルにおいては、他のセルに電
源，グランドを供給する必要性が低いため、電源配線及
びグランド配線は細くても良いにもかかわらず、両端と
同じ太さになっている。

【０００６】したがって、結果的に場所、特に中央部に
よっては、電源配線及びグランド配線が必要以上太くな
っていることとなり、半導体集積回路ブロックの高さ方
向が大きくなる。

【０００７】このようにして面積が増えると、半導体集
積回路のコストアップになるという問題点があった。

【０００８】本発明の目的は、集積度を向上させた自動
レイアウト用セルを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る自動レイアウト用セルは、複数のプリ
ミティブセルを組合せてなるスタンダードセル型半導体
集積回路の自動レイアウト用セルであって、プリミティ
ブセルは、電源配線及びグランド配線を有し、該電源及
びグランド配線の太さは、前記プリミティブセル配置位
置により決まる前記電源配線及びグランド配線の最小電
流容量に応じて設定したものである。

【００１０】

【作用】プリミティブセル内の電源及びグランド配線の
太さをプリミティブセル配置時に決まる前記電源及びグ
ランド配線の最小電流容量に応じて変化させる。

【００１１】

【実施例】次に本発明について、図面を用いて説明す
る。

【００１２】（実施例１）図１は、本発明の自動レイア
ウト用セルの実施例１を示すレイアウト図である。

【００１３】図１において、プリミティブセルとして、
同一機能で、電源配線１，グランド配線２の巾が異なる
ものとして、タイプＳ，タイプＭ，タイプＬの３種類が
容易されており、プリミティブセル内の電源配線１及び
グランド配線２の太さは、プリミティブセルの配置位置
により決まる電源配線１及びグランド配線２の最小電流
容量に応じて設定してある。

【００１４】したがって、プリミティブセルの配置され
る位置により、適切なプリミティブセルが選定される。
また、電源配線１及びグランド配線２の巾に応じてプリ
ミティブセルのサイズが異なっている。

【００１５】図２は、本発明の自動レイアウト用プリミ
ティブセルを用いてブロックの自動レイアウトを行った
結果である。電源，グランドは、両端から供給されるた
め、両端付近のセルは、自分より内側にあるセルに対し
て電源，グランドを供給する必要がある。

【００１６】したがって、電源配線及びグランド配線幅
は、内側にあるセルに比べ太いタイプＬを使用する。逆
に中央付近のセルは、他者に電源，グランドを供給する
必要がないため、電源，グランド幅が細くなっており、
その分セルサイズが小さくてよいタイプＳを使用する。

【００１７】図２の例では、同一列のセル領域のうち両
端１／６にはタイプＬのプリミティブセルを配置し、同
じく中央部１／３にはタイプＳのプリミティブセルを配
置し、タイプＬとタイプＳにはさまれた領域には、タイ
プＭのプリミティブセルを配置する。

【００１８】ここで、特記すべきことは、プリミティブ
セルサイズとは逆に配線領域４においては、中央部の方
が、両端付近より密集しているという事実である。これ
は、各々のプリミティブセルを最短距離で結線しようと
した場合、配線は両端付近に比べ中央部を通過する率が
高いことに起因する。一般に配線領域４の高さは、中央
部の横方向配線の数により決定されるため、中央部のプ
リミティブセルサイズが、小さくなることにより、確実
にブロックの面積は縮小する。

【００１９】このように、常にプリミティブセルの配置
される座標（両端からの距離）によって、複数個存在す
るプリミティブセルの中から、座標によって決められた
サイズのプリミティブセルを配置し配線することによ
り、集積度の高いレイアウトを実現できる。

【００２０】（実施例２）図３は、本発明の実施例２を
示すレイアウト図である。

【００２１】本実施例では、同一機能で、電源配線１及
びグランド配線２の巾が異なるプリミティブセルが複数
個用意されており、配置される位置により、適切なプリ
ミティブセルが選定される。

【００２２】本実施例は、実施例１と異なりプリミティ
ブセルのサイズは同一であるが、プリミティブセル内に
横方向配線が可能な領域をもっており、結果的には配線
領域を補うことが可能である。

【００２３】また、実施例１と異なりプリミティブセル
のサイズ自体は変らないため、自動レイアウトツール
が、高さの異なるセルを配置できない場合でも、使用で
きるという利点がある。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように本発明の自動レイア
ウト用セルは、プリミティブセル内の電源配線及びグラ
ンド配線の太さを配置条件に応じて変化させてあるた
め、特性の劣化を招くことなく、不必要に太い電源配線
及びグランド配線をなくし、半導体集積回路における素
子密度を向上でき、コストアップを防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１を示すレイアウト図である。

【図２】本発明の実施例１のプリミティブセルを用いて
レイアウトした状態を示す図である。

【図３】本発明の実施例２を示すレイアウト図である。

【図４】従来例のレイアウトした状態を示す図である。

【符号の説明】 １ 電源配線 ２ グランド配線 ３ セル領域 ４ 配線領域

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のプリミティブセルを組合せてなる
   スタンダードセル型半導体集積回路の自動レイアウト用
   セルであって、 プリミティブセルは、電源配線及びグランド配線を有
   し、 該電源及びグランド配線の太さは、前記プリミティブセ
   ル配置位置により決まる前記電源配線及びグランド配線
   の最小電流容量に応じて設定したものであることを特徴
   とする自動レイアウト用セル。