JP2676259B2 - フィードポンプ - Google Patents
フィードポンプInfo
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- ring
- plunger
- sealing
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- sealing ring
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/56—Other sealings for reciprocating rods
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B53/00—Component parts, details or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B23/00 or F04B39/00 - F04B47/00
- F04B53/16—Casings; Cylinders; Cylinder liners or heads; Fluid connections
- F04B53/162—Adaptations of cylinders
- F04B53/164—Stoffing boxes
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/46—Sealings with packing ring expanded or pressed into place by fluid pressure, e.g. inflatable packings
- F16J15/48—Sealings with packing ring expanded or pressed into place by fluid pressure, e.g. inflatable packings influenced by the pressure within the member to be sealed
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- Fluid Mechanics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は1000バール以上の高吐出圧力で10リットル
／分以上の高容量を有するフィードポンプに関する。
／分以上の高容量を有するフィードポンプに関する。
この種のフィードポンプとして、比較的大きな軸線方
向の長さをもつシーリングリングが２つの固いバックア
ップリング間に挿入され、バックアップリングも比較的
大きな軸線方向の長さをもつ構成が知られている。円筒
形ブッシュ内でポンププランジャーが軸線方向に高速で
動かされる間、シーリング位置のバックアップリング
は、コイルばねによってシーリングリングの方向へと押
圧され、それによってシーリングリングは、その外径を
拡張するとともに、内径を縮小して、プランジャーの周
面と円筒形ボアの内壁とに液密的に係合される。プラン
ジャーがこのシーリング位置から離反すると、コイルば
ねの偏倚力が減少し、各バックアップリングはプランジ
ャーに沿って軸線方向への復帰運動を生じる。
向の長さをもつシーリングリングが２つの固いバックア
ップリング間に挿入され、バックアップリングも比較的
大きな軸線方向の長さをもつ構成が知られている。円筒
形ブッシュ内でポンププランジャーが軸線方向に高速で
動かされる間、シーリング位置のバックアップリング
は、コイルばねによってシーリングリングの方向へと押
圧され、それによってシーリングリングは、その外径を
拡張するとともに、内径を縮小して、プランジャーの周
面と円筒形ボアの内壁とに液密的に係合される。プラン
ジャーがこのシーリング位置から離反すると、コイルば
ねの偏倚力が減少し、各バックアップリングはプランジ
ャーに沿って軸線方向への復帰運動を生じる。
〔発明が解決しようとする課題〕 特に、10リットル／分の数倍の高容量で、1000バール
以上の吐出圧力、特に、1400バール以上の吐出圧力が要
求されると、フィードポンプは満足すべき稼動を直ちに
停止してしまうことが知られている。
以上の吐出圧力、特に、1400バール以上の吐出圧力が要
求されると、フィードポンプは満足すべき稼動を直ちに
停止してしまうことが知られている。
この発明は、ポンプ機能を簡単な手段で改良して、そ
の稼動性を長期間にわたり、2000バールまたはそれ以上
の高吐出圧力でも持続させることのできるフィードポン
プの提供を目的としている。
の稼動性を長期間にわたり、2000バールまたはそれ以上
の高吐出圧力でも持続させることのできるフィードポン
プの提供を目的としている。
この目的を達成するために、この発明の一実施例によ
れば、薄いスペーサディスクの層がシーリングリングの
両サイドに設けられることによって、支持リングのため
のバイアスばねを使用しなくとも、長期間にわたって十
分な稼動性が得られ、吐出圧力が1400バール以上の場合
でもフィードポンプが使用できる。
れば、薄いスペーサディスクの層がシーリングリングの
両サイドに設けられることによって、支持リングのため
のバイアスばねを使用しなくとも、長期間にわたって十
分な稼動性が得られ、吐出圧力が1400バール以上の場合
でもフィードポンプが使用できる。
この発明において、プランジャーがシーリング位置に
あるとき、スペーサディスクが互いに離反されて小さな
空間を作る事から、主として圧力差の発生によって、プ
ランザー内端面に面するスペーサディスクの層が自動的
にその軸線方向の幅を拡張する。プランジャーに装着さ
れているその他の挿入体は、この薄いスペーサディスク
の層に邪魔されて、プランジャー上で軸線方向にわずか
に移動するにすぎない。従って、プランジャーの発熱は
従来のフィードポンプの発熱に比較して大きく減少し、
そのため、プランジャーまたは円筒形ブッシュ内での冷
却水通路が不要となる。
あるとき、スペーサディスクが互いに離反されて小さな
空間を作る事から、主として圧力差の発生によって、プ
ランザー内端面に面するスペーサディスクの層が自動的
にその軸線方向の幅を拡張する。プランジャーに装着さ
れているその他の挿入体は、この薄いスペーサディスク
の層に邪魔されて、プランジャー上で軸線方向にわずか
に移動するにすぎない。従って、プランジャーの発熱は
従来のフィードポンプの発熱に比較して大きく減少し、
そのため、プランジャーまたは円筒形ブッシュ内での冷
却水通路が不要となる。
シーリングリングやスペーサディスクが、使用可能な
挿入体、たとえば、圧力分散ブッシュ、スラストリン
グ、バックアップリングと同様に、軸線方向に僅かに拡
張される構成としてもよい。この構成では、プランジャ
ー自体およびプランジャーに沿って移動可能な挿入体の
往復運動に必要な機械エネルギーは少なくて足り、その
結果、運動エネルギーが軽減される。これらのリングの
軸線方向の拡張は、リングの外径および内径の差よりも
大きくてはならない。数百の平行に並ぶスペーサディス
クにより形成される層を使用し、ディスクの薄さを0.1m
m〜1mmの間で、特に、0.1mm〜0.5mmの間で選択するとよ
い。スペーサディスクはステンレス鋼、プラスチックの
いずれかから成形するとよい。
挿入体、たとえば、圧力分散ブッシュ、スラストリン
グ、バックアップリングと同様に、軸線方向に僅かに拡
張される構成としてもよい。この構成では、プランジャ
ー自体およびプランジャーに沿って移動可能な挿入体の
往復運動に必要な機械エネルギーは少なくて足り、その
結果、運動エネルギーが軽減される。これらのリングの
軸線方向の拡張は、リングの外径および内径の差よりも
大きくてはならない。数百の平行に並ぶスペーサディス
クにより形成される層を使用し、ディスクの薄さを0.1m
m〜1mmの間で、特に、0.1mm〜0.5mmの間で選択するとよ
い。スペーサディスクはステンレス鋼、プラスチックの
いずれかから成形するとよい。
発明の好ましい実施例によれば、圧力分散ブッシュ
は、プランジャー内端面に面するスペーサディスクの層
とシーリングリングとの間に挿入されている。この圧力
分散ブッシュは、圧力分散ブッシュの外径方向外方か
ら、スラストリングと隣接している端面にかけて、圧力
を圧力補償通路によって補償している。このスラストリ
ングに環形突起が形成され、この突起はシーリングリン
グの対応する環形溝内にのびている。プランジャー内端
面での圧力が増大すると、この圧力は、半径方向に離反
したスラストリングの一部にプランジャー周面から圧力
補償通路を介して伝達される。
は、プランジャー内端面に面するスペーサディスクの層
とシーリングリングとの間に挿入されている。この圧力
分散ブッシュは、圧力分散ブッシュの外径方向外方か
ら、スラストリングと隣接している端面にかけて、圧力
を圧力補償通路によって補償している。このスラストリ
ングに環形突起が形成され、この突起はシーリングリン
グの対応する環形溝内にのびている。プランジャー内端
面での圧力が増大すると、この圧力は、半径方向に離反
したスラストリングの一部にプランジャー周面から圧力
補償通路を介して伝達される。
以下の条件の下で、スラストリングの突起はシーリン
グリングの環形溝に押圧される。つまり、シーリングリ
ングを半径方向で外方および内方に拡張させて、突起と
環形溝との環に付加的な拡張が生じるため、シーリング
機能がさらに改良される。そのためには、シーリングリ
ングが半径方向に拡張されるように、突起の横断面が溝
よりも大きくなければならない。
グリングの環形溝に押圧される。つまり、シーリングリ
ングを半径方向で外方および内方に拡張させて、突起と
環形溝との環に付加的な拡張が生じるため、シーリング
機能がさらに改良される。そのためには、シーリングリ
ングが半径方向に拡張されるように、突起の横断面が溝
よりも大きくなければならない。
以下、図面を参照しながら、この発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
第１図に示すように、フィードポンプはプランジャー
１を具備し、プランジャー１は、一方サイドに内端面1b
を、他方サイドにカラー1aを備えている。プランジャー
１は駆動機構（図示しない）によって円筒形ブッシュ２
の内部を矢視のように軸線方向に往復動される。円筒形
ブッシュ２はプランジャー１および挿入体（４〜９）の
ための円筒形ボア2aを有して形成されている。プランジ
ャー１がＡ方向に移動されると、たとえば水のような液
体が流路2bを介して、円筒形ボア2a内に流れ込む。円筒
形ブッシュ２の外周面は、カラー形状の段部2dを有し、
この段部に、コイルばねの保持リング（図示しない）が
押圧されている。挿入体（４〜９）が既に装着されてい
れば、円筒形ブッシュ２は、シーリングフランジ３によ
って通路2bから離反した端に隣接して位置し、シーリン
グフランジ３は、円筒形ブッシュ２の右端でボルト（図
示しない）によって固定されている。
１を具備し、プランジャー１は、一方サイドに内端面1b
を、他方サイドにカラー1aを備えている。プランジャー
１は駆動機構（図示しない）によって円筒形ブッシュ２
の内部を矢視のように軸線方向に往復動される。円筒形
ブッシュ２はプランジャー１および挿入体（４〜９）の
ための円筒形ボア2aを有して形成されている。プランジ
ャー１がＡ方向に移動されると、たとえば水のような液
体が流路2bを介して、円筒形ボア2a内に流れ込む。円筒
形ブッシュ２の外周面は、カラー形状の段部2dを有し、
この段部に、コイルばねの保持リング（図示しない）が
押圧されている。挿入体（４〜９）が既に装着されてい
れば、円筒形ブッシュ２は、シーリングフランジ３によ
って通路2bから離反した端に隣接して位置し、シーリン
グフランジ３は、円筒形ブッシュ２の右端でボルト（図
示しない）によって固定されている。
一方の限界位置で、コーン形状の環形の当接部材４が
円筒形ブッシュ２の内面でボア2aの円錐台面に係合して
いる。円筒形ブッシュ２の円筒形内壁2cとプランジャー
１の円筒形周面との間で、次の挿入体が、コーン形状の
当接部材４に加えて配置されている。
円筒形ブッシュ２の内面でボア2aの円錐台面に係合して
いる。円筒形ブッシュ２の円筒形内壁2cとプランジャー
１の円筒形周面との間で、次の挿入体が、コーン形状の
当接部材４に加えて配置されている。
コーン形状の当接部材４に隣接して、ステンレス鋼の
薄い第１のスペーサディスク６が層状に重ねられ、スペ
ーサディスクの厚さは0.1mm、0.2mm、0.5mmとなってい
る。この第１のスペーサディスクの層は約500枚のスペ
ーサディスクら成り、各スペーサディスクは互いに平行
にかつプランジャーの軸線に対して直角に配置されてい
る。
薄い第１のスペーサディスク６が層状に重ねられ、スペ
ーサディスクの厚さは0.1mm、0.2mm、0.5mmとなってい
る。この第１のスペーサディスクの層は約500枚のスペ
ーサディスクら成り、各スペーサディスクは互いに平行
にかつプランジャーの軸線に対して直角に配置されてい
る。
第2a図、第2b図に示すように、スペーサディスク６の
次に、圧力分散ブッシュ９が続き、このブッシュは青
銅、プラスチックまたはステンレス鋼で成形されてい
る。ブッシュ９は半径方向の通路9a、軸線方向の通路9b
を備え、これらの通路は周面からその一方の端面への圧
力補償通路となっている。軸線方向の通路9bが内径、外
径のほぼ中央で開口する端面で、圧力分散ブッシュ９が
スラストリング７に接触している。突起7aが、スラスト
リング７の他方の端面に形成され、この突起は断面三角
形の環形をしている。
次に、圧力分散ブッシュ９が続き、このブッシュは青
銅、プラスチックまたはステンレス鋼で成形されてい
る。ブッシュ９は半径方向の通路9a、軸線方向の通路9b
を備え、これらの通路は周面からその一方の端面への圧
力補償通路となっている。軸線方向の通路9bが内径、外
径のほぼ中央で開口する端面で、圧力分散ブッシュ９が
スラストリング７に接触している。突起7aが、スラスト
リング７の他方の端面に形成され、この突起は断面三角
形の環形をしている。
突起7aの突出したスラストリング７の端面は、シーリ
ングリング８に接触し、シーリングリングはスラストリ
ングサイドの端面に対応する環形の溝8aを持ち、第2b図
に示すように、突起7aがこの溝8aに係合される。そし
て、圧力分散通路、つまり、半径方向の通路9a、軸線方
向の通路9bを介して生じる圧力は、シーリングリング８
を軸線方向でスラストリング７に押圧し、それと同時
に、シーリングリング８は突起7aによって半径方向にも
拡げられる。
ングリング８に接触し、シーリングリングはスラストリ
ングサイドの端面に対応する環形の溝8aを持ち、第2b図
に示すように、突起7aがこの溝8aに係合される。そし
て、圧力分散通路、つまり、半径方向の通路9a、軸線方
向の通路9bを介して生じる圧力は、シーリングリング８
を軸線方向でスラストリング７に押圧し、それと同時
に、シーリングリング８は突起7aによって半径方向にも
拡げられる。
これに対して、第2a図に示す通常位置では、スラスト
リング７とシーリングリング８との間にスペースが存在
し、これら２つのリングと円筒形ブッシュ２の内壁2cと
の間に環形のギャップ10がそれぞれ残されている。ギャ
ップ10は、以下の理由から、第2b図に示すシーリング位
置で消滅する。つまり、スラストリング７がシーリング
リング８に密着させられるだけでなく、シーリングリン
グが、一方で、ブッシュ２およびプランジャー１に対し
てシーリングロケーション11でシーリング状態（シーリ
ング位置）となり、他方、スラストリング７自体もシー
リングロケーション11でシーリング状態となる。なぜな
ら、この発明の実施例によれば、スラストリング７は、
シーリングリング８と同様な弾性材から成形されて、半
径方向に拡げられるからである。
リング７とシーリングリング８との間にスペースが存在
し、これら２つのリングと円筒形ブッシュ２の内壁2cと
の間に環形のギャップ10がそれぞれ残されている。ギャ
ップ10は、以下の理由から、第2b図に示すシーリング位
置で消滅する。つまり、スラストリング７がシーリング
リング８に密着させられるだけでなく、シーリングリン
グが、一方で、ブッシュ２およびプランジャー１に対し
てシーリングロケーション11でシーリング状態（シーリ
ング位置）となり、他方、スラストリング７自体もシー
リングロケーション11でシーリング状態となる。なぜな
ら、この発明の実施例によれば、スラストリング７は、
シーリングリング８と同様な弾性材から成形されて、半
径方向に拡げられるからである。
シーリングリング８に隣接して、バックアップリング
５が配設され、スペーサディスク６の第２の層が続いて
いる。
５が配設され、スペーサディスク６の第２の層が続いて
いる。
軸線方向に隣接した形で、別のバックアップリング
５、薄いスペーサディスク６の第３の層が順次続き、こ
のスペーサディスクの最後の層がシーリングフランジ３
の内側面に接触している（第１図参照）。
５、薄いスペーサディスク６の第３の層が順次続き、こ
のスペーサディスクの最後の層がシーリングフランジ３
の内側面に接触している（第１図参照）。
第2a図に概略的に示す通常位置から容易に推測される
ように、水のような吐出対象物から通路2bを介して円筒
形ボア2aに流れ込むと、圧力がプランジャー１、円筒形
ブッシュ２間のスペースに生じる。水は、スペーサディ
スク６の第１の層で満たされたそのスペースに流れ込
み、スペーサディスク間に小さなギャップを形成するこ
とによってこのスペースはファンのように機能する。す
ると、圧力分散ブッシュ９をＡ方向へ移動させ、それに
よって、スラストリング７も、シーリングリング８に接
するまで同一方向に移動する。さらに、その圧力はシー
リングリング８を拡張させ、スラストリング７も半径方
向に拡張させ、第2b図に示すシーリングロケーション11
を形成する。
ように、水のような吐出対象物から通路2bを介して円筒
形ボア2aに流れ込むと、圧力がプランジャー１、円筒形
ブッシュ２間のスペースに生じる。水は、スペーサディ
スク６の第１の層で満たされたそのスペースに流れ込
み、スペーサディスク間に小さなギャップを形成するこ
とによってこのスペースはファンのように機能する。す
ると、圧力分散ブッシュ９をＡ方向へ移動させ、それに
よって、スラストリング７も、シーリングリング８に接
するまで同一方向に移動する。さらに、その圧力はシー
リングリング８を拡張させ、スラストリング７も半径方
向に拡張させ、第2b図に示すシーリングロケーション11
を形成する。
一方、吐出されるべき対象物が円筒形ブッシュ２から
通路2bを介してＢ方向へ流出すると、スペーサディスク
６の第１の層が占めるスペースに真空状態が生じ、その
結果、スラストリング７が圧力補償ブッシュ９と共にＢ
方向へ後退する。シーリングリング８とスラストリング
７とは、環形ギャップ10の形成される通常配置へ再び戻
される。
通路2bを介してＢ方向へ流出すると、スペーサディスク
６の第１の層が占めるスペースに真空状態が生じ、その
結果、スラストリング７が圧力補償ブッシュ９と共にＢ
方向へ後退する。シーリングリング８とスラストリング
７とは、環形ギャップ10の形成される通常配置へ再び戻
される。
スペーサディスク６がスチール製スプリング、もしく
は類似の弾性のある素材で必ずしも成形しない場合で
も、シーリングリング８の逆（右）サイドにある他のス
ペーサディスク６の層も、ある種の“ばね作用”の機能
を持つ。
は類似の弾性のある素材で必ずしも成形しない場合で
も、シーリングリング８の逆（右）サイドにある他のス
ペーサディスク６の層も、ある種の“ばね作用”の機能
を持つ。
この発明によるフィードポンプは極めて有用であり、
このフィードポンプは安価な構成部材から構成でき、性
能の面においても高い機械的安定性を持ち、高周波数で
の大きな動的サイクルの変動や、長時間の連続操作に耐
えられる。また一方、プランジャー１は不適切な高温に
まで加熱されない。
このフィードポンプは安価な構成部材から構成でき、性
能の面においても高い機械的安定性を持ち、高周波数で
の大きな動的サイクルの変動や、長時間の連続操作に耐
えられる。また一方、プランジャー１は不適切な高温に
まで加熱されない。
その他のスペーサディスク６を、少なくとも数ダー
ス、好ましくは、数百のスペーサディスク６から構成し
てもよい。
ス、好ましくは、数百のスペーサディスク６から構成し
てもよい。
シーリングリング８の材質として、ポリアミド、中で
もMOS2（硫化モリブデン）より成るPA6.6が好ましく、
このポリアミドは「NYLATRON」の商標で販売されてい
る。スラストリング７も同じ材質にするとよい。青銅、
黒鉛、グラスファイバーといった特殊な添加物により、
高温に対する耐久性が得られる。「TEFLON」の商標で知
られるポリテトラフルオロエチレンや、テトラフルオロ
エチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体でも
同様の効果が得られる。アラマイド（Aramides）も適材
である。「PEEK」の商標で知られる複合体エーテル（po
lyether）のエーテルケトン（ether ketone）を材質と
しても顕著な成果が得られる。グラスファイバーもしく
はグラファイトで満たされた、ポリアミド基の鋳型混合
物（moulding compounds）、たとえば、「KINEL」の商
標で販売されているものもシーリングリング８あるいは
スラストリング７の素材として使用できる。
もMOS2（硫化モリブデン）より成るPA6.6が好ましく、
このポリアミドは「NYLATRON」の商標で販売されてい
る。スラストリング７も同じ材質にするとよい。青銅、
黒鉛、グラスファイバーといった特殊な添加物により、
高温に対する耐久性が得られる。「TEFLON」の商標で知
られるポリテトラフルオロエチレンや、テトラフルオロ
エチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体でも
同様の効果が得られる。アラマイド（Aramides）も適材
である。「PEEK」の商標で知られる複合体エーテル（po
lyether）のエーテルケトン（ether ketone）を材質と
しても顕著な成果が得られる。グラスファイバーもしく
はグラファイトで満たされた、ポリアミド基の鋳型混合
物（moulding compounds）、たとえば、「KINEL」の商
標で販売されているものもシーリングリング８あるいは
スラストリング７の素材として使用できる。
フィードポンプの使用の際に、水の代わりに、その他
の液体、たとえば、油を使用してもよい。しかし、吐出
される作動流体は実務的に圧縮不可のものでなければな
らない。端面から発生した圧力がＡ方向へ伝わり、スペ
ーサディスク６の第１の層と圧力分散ブッシュ９へと伝
達されて、スラストリング７とシーリングリング８とに
ラムのような働きをする。これによってシーリングリン
グ８は完全なシール状態を形成する。作動流体の圧力が
下がると、スペーサディスクの層が拡がり、シーリング
状態が解除される。
の液体、たとえば、油を使用してもよい。しかし、吐出
される作動流体は実務的に圧縮不可のものでなければな
らない。端面から発生した圧力がＡ方向へ伝わり、スペ
ーサディスク６の第１の層と圧力分散ブッシュ９へと伝
達されて、スラストリング７とシーリングリング８とに
ラムのような働きをする。これによってシーリングリン
グ８は完全なシール状態を形成する。作動流体の圧力が
下がると、スペーサディスクの層が拡がり、シーリング
状態が解除される。
上述した実施例は、この発明を説明するためのもので
あり、この発明を何等限定するものではなく、この発明
の技術範囲内で変形、改造等の施されたものも全てこの
発明に包含されることはいうまでもない。
あり、この発明を何等限定するものではなく、この発明
の技術範囲内で変形、改造等の施されたものも全てこの
発明に包含されることはいうまでもない。
上記のように、この発明によれば、薄いスペーサディ
スクから成る少なくとも１つ層が、シーリングリングの
通常位置（非シーリング位置）で軸線方向に移動可能に
シーリングリングの両サイドでプランジャーに装着され
ている。このような構成では、吐出対象物、たとえば水
が流れ込むと、圧力がプランジャー、円筒形ブッシュ間
のスペースに生じ、スペーサディスク間に小さなギャッ
プを形成し、ギャップはファンとして機能する。そのた
め、スペーサディスクに押されてシーリングリングが拡
大されて、シーリング位置が設定される。そして、水が
流出すると、真空圧が生じてスペーサディスクをシーリ
ング位置から離反させて、シーリングリングは後退し、
通常位置に戻される。
スクから成る少なくとも１つ層が、シーリングリングの
通常位置（非シーリング位置）で軸線方向に移動可能に
シーリングリングの両サイドでプランジャーに装着され
ている。このような構成では、吐出対象物、たとえば水
が流れ込むと、圧力がプランジャー、円筒形ブッシュ間
のスペースに生じ、スペーサディスク間に小さなギャッ
プを形成し、ギャップはファンとして機能する。そのた
め、スペーサディスクに押されてシーリングリングが拡
大されて、シーリング位置が設定される。そして、水が
流出すると、真空圧が生じてスペーサディスクをシーリ
ング位置から離反させて、シーリングリングは後退し、
通常位置に戻される。
スペーサディスクに押されて、シーリングリングを半
径方向で外方および内方に拡張させることによって、突
起と環形溝との間に付加的な拡張が生じるため、シーリ
ング機能がさらに改良される。
径方向で外方および内方に拡張させることによって、突
起と環形溝との間に付加的な拡張が生じるため、シーリ
ング機能がさらに改良される。
薄いスペーサディスクの層がシーリングリングの両サ
イドに設けられることによって、支持リングのためのば
ねを使用しなくとも、長期間にわたって十分な稼動性が
得られ、吐出圧力が1400バール以上の場合でもフィード
ポンプが使用できる。
イドに設けられることによって、支持リングのためのば
ねを使用しなくとも、長期間にわたって十分な稼動性が
得られ、吐出圧力が1400バール以上の場合でもフィード
ポンプが使用できる。
また、プランジャーがシーリング位置にあるとき、ス
ペーサディスクが互いに離反されて小さな空間を作る事
から、主として圧力差の発生によって、プランジャー内
端面に面するスペーサディスクの層が自動的にその軸線
方向の幅を拡張する。プランジャーに装着されているそ
の他の挿入体は、この薄いスペーサディスクの層に邪魔
されて、プランジャー上で軸線方向にわずかに移動する
にすぎない。従って、プランジャーの発熱は従来のフィ
ードポンプの発熱に比較して大きく減少し、そのため、
プランジャーまたは円筒形ブッシュ内での冷却水通路が
不要となる。
ペーサディスクが互いに離反されて小さな空間を作る事
から、主として圧力差の発生によって、プランジャー内
端面に面するスペーサディスクの層が自動的にその軸線
方向の幅を拡張する。プランジャーに装着されているそ
の他の挿入体は、この薄いスペーサディスクの層に邪魔
されて、プランジャー上で軸線方向にわずかに移動する
にすぎない。従って、プランジャーの発熱は従来のフィ
ードポンプの発熱に比較して大きく減少し、そのため、
プランジャーまたは円筒形ブッシュ内での冷却水通路が
不要となる。
第１図は、フィードポンプが概略的な縦断面図、 第2a図は、スラストリングがシーリングリングに対して
軸線方向に離間された通常位置でのフィードポンプの部
分拡大断面図、 第2b図は、シーリング位置における、第2a図と同様の、
フィードポンプの部分拡大断面図である。 1:プランジャー、2:円筒形ブッシュ、2a:円筒形ボア、2
b:通路、3:シーリングフランジ、5:バックアップリン
グ、6:スペーサディスク、7:スラストリング、7a:突
起、8:シーリングリング、8a:環形溝、9:圧力分散ブッ
シュ、9a,9b:圧力補償流路、10:環形ギャップ、11:シー
リングロケーション
軸線方向に離間された通常位置でのフィードポンプの部
分拡大断面図、 第2b図は、シーリング位置における、第2a図と同様の、
フィードポンプの部分拡大断面図である。 1:プランジャー、2:円筒形ブッシュ、2a:円筒形ボア、2
b:通路、3:シーリングフランジ、5:バックアップリン
グ、6:スペーサディスク、7:スラストリング、7a:突
起、8:シーリングリング、8a:環形溝、9:圧力分散ブッ
シュ、9a,9b:圧力補償流路、10:環形ギャップ、11:シー
リングロケーション
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 999999999 パトリック ロウジェル フランス国、エフ‐67 340 リヒタン ベール、リュ デュ ゾルストック（番 地なし) (73)特許権者 999999999 フランシーヌ シュネデール フランス国、エフー67 340 アンウィ エ、リュ デ ポワリエ 10 (73)特許権者 999999999 シャルル ロウジェル ジュニア フランス国、エフ‐67 340 リヒタン ベール、リュ デュ シャトー 27 (72)発明者 シャルル ロウジェル シニア フランス国、エフ‐67 340 リヒタン ベール、リュ デ コッシュ（番地な し) (72)発明者 イザベル デュール フランス国、エフ‐67 340 アンウィ エ、ラ リュ デ ポワリエ（番地な し) (72)発明者 シルヴィー レシェール フランス国、エフ‐67 340 アンウィ エ、 リュ デュ ガル グロー 115 (72)発明者 パトリック ロウジェル フランス国、エフ‐67 340 リヒタン ベール、リュ デュ ゾルストック（番 地なし) (72)発明者 フランシーヌ シュネデール フランス国、エフー67 340 アンウィ エ、リュ デ ポワリエ 10 (72)発明者 シャルル ロウジェル ジュニア フランス国、エフ‐67 340 リヒタン ベール、リュ デュ シャトー 27 (56)参考文献 特開 平１−262377（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】円筒形ブッシュ内で軸線方向に移動し、円
筒形ブッシュとの間の空間にバックアップリングの内蔵
されたプランジャーと、 軸線方向に移動可能にプランジャーに装着されたスラス
トリングと、 バックアップリング、スラストリングの間でプランジャ
ーに装着され、その通常位置で、プランジャーと円筒形
ブッシュの内壁との間にスペースを残し、そのシーリン
グ位置で拡張されることにより、プランジャー、円筒形
ブッシュの内壁の双方に係合されて、前記スペースを満
たす少なくとも１つのシーリングリングと、 を具備し、薄いスペーサディスクを多数重ねてスペーサ
ディスクの層を成形し、このスペーサディスクの層が、
バックアップリング、シーリングリング、スラストリン
グを挟んで、通常位置で軸線方向に移動可能に、プラン
ジャーに両側から装着されている、1000バール以上の高
吐出圧力で10リットル／分以上の高容量を有するフィー
ドポンプ。 - 【請求項２】プランジャー内端面に面するシーリングリ
ングの端面において、圧力分散ブッシュが、スラストリ
ングを押圧するように通常位置で軸線方向に移動可能
に、スペーサディスクの層、スラストリングの間でプラ
ンジャーに装着され、この圧力分散ブッシュは、前記プ
ランジャー内端面に面するスペーサディスクの層とスペ
ーサディスクに面するシーリングリングの端面との間に
圧力補償通路を有している請求項１記載のフィードポン
プ。 - 【請求項３】シーリングリングが一端面に環形溝を備
え、プランジャーに装着されたスラストリングの環形突
起がこの環形溝に、シーリング位置で、係合される請求
項１または２記載のフィードポンプ。 - 【請求項４】スラストリングが、シーリングリング、圧
力分散ブッシュ間に配置されている請求項３記載のフィ
ードボンプ。 - 【請求項５】バックアップリングによって二分された二
層のスペーサリングが、プランジャー内端面から離反し
たシーリングリングの一方サイドで、プランジャーの装
着されている請求項１ないし４のいずれか記載のフィー
ドポンプ。 - 【請求項６】シーリング位置にあるスラストリングがシ
ーリング手段としても機能する請求項１ないし５のいず
れか記載のフィードポンプ。 - 【請求項７】シーリングリング、スラストリングの少な
くとも一方が、弾性のあるプラスチックより成形されて
いる請求項１ないし６のいずれか記載のフィードポン
プ。 - 【請求項８】スペーサディスクがステンレス鋼、プラス
チックのいずれかから成形されている請求項１ないし７
のいずれか記載のフィードポンプ。 - 【請求項９】スペーサディスクが0.1mm〜1mmの薄さで環
形に成形されている請求項１ないし８のいずれか記載の
フィードポンプ。 - 【請求項１０】圧力分散ブッシュの圧力補償通路が、軸
線方向のボアを備え、このボアが、スラストリングの突
起とは逆サイドのスラストリング端面で、開口している
請求項３ないし９のいずれか記載のフィードポンプ。 - 【請求項１１】圧力分散ブッシュの圧力補償通路が、軸
線方向のボアに連通するとともに、内周面から外周面に
貫通した半径方向のボアを有している請求項10のフィー
ドポンプ。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3834610.9 | 1988-10-11 | ||
| DE3834610A DE3834610A1 (de) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | Pumpenaggregat |
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|---|---|
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| JP2676259B2 true JP2676259B2 (ja) | 1997-11-12 |
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| JP (1) | JP2676259B2 (ja) |
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| CA (1) | CA1309896C (ja) |
| DE (2) | DE3834610A1 (ja) |
| ES (1) | ES2072880T3 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1989-10-03 ES ES89118313T patent/ES2072880T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-03 EP EP89118313A patent/EP0363788B1/de not_active Expired - Lifetime
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| DE3834610A1 (de) | 1990-04-12 |
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