JP2656785B2 - 光デイスク - Google Patents
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はレーザー光で情報を再生する再生専用のビデ
オディスクやコンパクトディスク、又は記録再生(消
去)のできるディスクメモリー等の光ディスクに関する
ものである。
オディスクやコンパクトディスク、又は記録再生(消
去)のできるディスクメモリー等の光ディスクに関する
ものである。
<従来技術とその解決課題> 従来、ビデオディスク、コンパクトディスク、ディス
クメモリー等の光ディスク基板は、メチルメタアクリレ
ート、ポリカーボネートの如き硬質性のプラスチックが
用いられている。
クメモリー等の光ディスク基板は、メチルメタアクリレ
ート、ポリカーボネートの如き硬質性のプラスチックが
用いられている。
光ディスク基板は、一方の表面に記録面及び金属反射
膜を形成し、該反射膜を対向させて、全面或いは外周部
及び内周部にスペーサーを介在させて、接着剤にて貼り
合されている。
膜を形成し、該反射膜を対向させて、全面或いは外周部
及び内周部にスペーサーを介在させて、接着剤にて貼り
合されている。
しかして、これまで光ディスクの貼り合せに用いられ
る接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤等の溶剤型
接着剤、熱賦活型接着剤、二成分縮合型常温硬化性シリ
コーンゴム系接着剤などが知られているが、溶剤型は基
板自体及び反射膜を侵したりするという問題以外に、完
全硬化するまで長時間均一加圧静止状態を保持しなけれ
ばいけないので大量生産には不向きであるという問題が
あり、また熱賦活型は活性後の固化は短時間であるとい
う利点を有する反面、活性化するための熱によって基板
に熱歪を与え、基板の変形を誘因し、ディスクの回転時
にブレが発生し正確な情報が得られないという問題があ
る。
る接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤等の溶剤型
接着剤、熱賦活型接着剤、二成分縮合型常温硬化性シリ
コーンゴム系接着剤などが知られているが、溶剤型は基
板自体及び反射膜を侵したりするという問題以外に、完
全硬化するまで長時間均一加圧静止状態を保持しなけれ
ばいけないので大量生産には不向きであるという問題が
あり、また熱賦活型は活性後の固化は短時間であるとい
う利点を有する反面、活性化するための熱によって基板
に熱歪を与え、基板の変形を誘因し、ディスクの回転時
にブレが発生し正確な情報が得られないという問題があ
る。
また、近時、光ディスクを高温度下で長時間保存して
も品質の低下のないように、70℃×85%R.H.×2000時間
で耐湿熱テストを行っても、10kg/cm2以上の剪断接着力
と0.7kg/20mm以上の剥離力とを有することが要求されて
いるが、未だ充分なものが開発されていないのが実情で
ある。
も品質の低下のないように、70℃×85%R.H.×2000時間
で耐湿熱テストを行っても、10kg/cm2以上の剪断接着力
と0.7kg/20mm以上の剥離力とを有することが要求されて
いるが、未だ充分なものが開発されていないのが実情で
ある。
<発明の目的> 従って本発明の第1の目的は、基板等を侵すことがな
く、量産化に向き、しかも熱歪のない製法による光ディ
スクを提供することにある。
く、量産化に向き、しかも熱歪のない製法による光ディ
スクを提供することにある。
第二の目的は、前記耐湿熱テストを行っても、充分な
剪断接着力と剥離力とを有する光ディスクを提供するこ
とにある。
剪断接着力と剥離力とを有する光ディスクを提供するこ
とにある。
<課題を解決するための手段> かかる本発明の目的は、片面に記録面及び金属反射膜
を順次有する一対のディスク基板を前記反射膜が相対す
るように対向させ、SiO2単位とR3SiO0.5単位(RはC数
4以下のアルキル基又はアルケニル基或いはアリール
基)とから本質的になるコポリマー樹脂とR2SiO単位
(RはC数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いは
アリール基)とから本質的になるジオルガノポリシロキ
サンとの混合或いは縮合物からなる表面が平滑なシリコ
ーン製両面感圧性接着部材で貼り合せること、及び片面
に記録面及び金属反射膜を順次有する一対のディスク基
板を前記反射膜が相対するように対向させると共に該基
板間の外周部及び内周部にスペーサーを介在させ、該基
板とスペーサー間とを、SiO2単位とR3SiO0.5単位(Rは
C数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いはアリー
ル基)とから本質的になるコポリマー樹脂とR2SiO単位
(RはC数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いは
アリール基)とから本質的になるジオルガノポリシロキ
サンとの混合或いは縮合物からなる表面が平滑なシリコ
ーン製両面感圧性接着部材で接着することによりそれぞ
れ達成される。
を順次有する一対のディスク基板を前記反射膜が相対す
るように対向させ、SiO2単位とR3SiO0.5単位(RはC数
4以下のアルキル基又はアルケニル基或いはアリール
基)とから本質的になるコポリマー樹脂とR2SiO単位
(RはC数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いは
アリール基)とから本質的になるジオルガノポリシロキ
サンとの混合或いは縮合物からなる表面が平滑なシリコ
ーン製両面感圧性接着部材で貼り合せること、及び片面
に記録面及び金属反射膜を順次有する一対のディスク基
板を前記反射膜が相対するように対向させると共に該基
板間の外周部及び内周部にスペーサーを介在させ、該基
板とスペーサー間とを、SiO2単位とR3SiO0.5単位(Rは
C数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いはアリー
ル基)とから本質的になるコポリマー樹脂とR2SiO単位
(RはC数4以下のアルキル基又はアルケニル基或いは
アリール基)とから本質的になるジオルガノポリシロキ
サンとの混合或いは縮合物からなる表面が平滑なシリコ
ーン製両面感圧性接着部材で接着することによりそれぞ
れ達成される。
<発明の構成> 第1図は本発明の実例を示すもので、1、1′はメチ
ルメタアクリレート、ポリカーボネートなどの硬質プラ
スチックからなるディスク基板、2、2′は記録面、
3、3′は金属反射膜、4、4′は必要に応じて設けら
れる反射膜保護層、5は表面が平滑なシリコーン製両面
感圧性接着部材である。
ルメタアクリレート、ポリカーボネートなどの硬質プラ
スチックからなるディスク基板、2、2′は記録面、
3、3′は金属反射膜、4、4′は必要に応じて設けら
れる反射膜保護層、5は表面が平滑なシリコーン製両面
感圧性接着部材である。
第2図は他の実例を示すもので、6は基板1と同材質
で構成される外周部スペーサー、7は内周部スペーサ
ー、8はスペーサー6及び7の間に形成された中空部で
ある。
で構成される外周部スペーサー、7は内周部スペーサ
ー、8はスペーサー6及び7の間に形成された中空部で
ある。
第3図は、前記コポリマー樹脂とオルガノポリシロキ
サンとからなるシリコーン製感圧性接着部材5で、該部
材9の表面には表面粗さが1μm以下の極めて平滑な低
接着性の表面を具備したフィルム又はシート9が仮着さ
れており、該フィルム又はシート9の基材としてはポリ
エステルフィルム、ポリプロピレン等が用いられる。し
かして、前記部材5は、シリコーン製感圧性接着剤単独
で構成してもよいが、例えばポリエステルフィルム、ポ
リオレフィンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルサルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトン
フィルム、ポリフェニレンサルファイト等の透明なプラ
スチックフィルムを部材5の芯材として用いることもで
きる。
サンとからなるシリコーン製感圧性接着部材5で、該部
材9の表面には表面粗さが1μm以下の極めて平滑な低
接着性の表面を具備したフィルム又はシート9が仮着さ
れており、該フィルム又はシート9の基材としてはポリ
エステルフィルム、ポリプロピレン等が用いられる。し
かして、前記部材5は、シリコーン製感圧性接着剤単独
で構成してもよいが、例えばポリエステルフィルム、ポ
リオレフィンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルサルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトン
フィルム、ポリフェニレンサルファイト等の透明なプラ
スチックフィルムを部材5の芯材として用いることもで
きる。
前記部材5を構成するシリコーン製感圧性接着剤につ
いて説明する。
いて説明する。
コポリマー樹脂は、SiO2単位と、トリメチルシロキサ
ン、トリエチルシロキサン、メチルビニルプロピルシロ
キサン、ジビニルメチルシロキサン、フェニルジメチル
シロキサン、ジフェニールシロキサンの如きR3SiO0.5単
位との2成分で、モル比でSiO2単位:R3SiO0.5単位=1:
0.3〜1:1.2の割合で構成される。
ン、トリエチルシロキサン、メチルビニルプロピルシロ
キサン、ジビニルメチルシロキサン、フェニルジメチル
シロキサン、ジフェニールシロキサンの如きR3SiO0.5単
位との2成分で、モル比でSiO2単位:R3SiO0.5単位=1:
0.3〜1:1.2の割合で構成される。
R3SiO0.5単位で示されるトリオルガノシロキサンの有
機基は、メチル基、エチル基、プロピル基の如きC数が
4以下のアルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基で構
成される。
機基は、メチル基、エチル基、プロピル基の如きC数が
4以下のアルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基で構
成される。
ジオルガノポリシロキサンは、ジメチルシロキサン、
ジエチルシロキサン、エチルメチルシロキサン、プロピ
ルメチルシロキサン、ビニールメチルシロキサンなどの
R2SiO単位から本質的になり、分子鎖末端が水酸基で終
るシロキサンで、本発明の目的を達成するには25℃で10
0000C。S.以上、好ましくは500000〜3000000C。S.の粘
度を有することである。
ジエチルシロキサン、エチルメチルシロキサン、プロピ
ルメチルシロキサン、ビニールメチルシロキサンなどの
R2SiO単位から本質的になり、分子鎖末端が水酸基で終
るシロキサンで、本発明の目的を達成するには25℃で10
0000C。S.以上、好ましくは500000〜3000000C。S.の粘
度を有することである。
R2SiO単位で示されるシロキサンの有機基は、メチル
基、エチル基、プロピル基の如きC数が4以下のアルキ
ル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニ
ル基、ナフチル基などのアリケール基などで構成される
が、好ましくは有機基中に少なくとも5モル%のアリー
ル基(特にフェニル基)を含むものである。
基、エチル基、プロピル基の如きC数が4以下のアルキ
ル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニ
ル基、ナフチル基などのアリケール基などで構成される
が、好ましくは有機基中に少なくとも5モル%のアリー
ル基(特にフェニル基)を含むものである。
しかして、シロキサンゴムの有機基中にメチル基とフ
ェニル基とを含み、且つメチル基とフェニル基との割合
が95〜75モル%:5〜25モル%、好ましくは90〜80モル
%:10〜20モル%の範囲のものが、前述の耐湿熱テスト
において10kg/cm2以上の剪断接着力と1kg/20mm以上の剥
離力とを確実に得られるので好ましいものである。
ェニル基とを含み、且つメチル基とフェニル基との割合
が95〜75モル%:5〜25モル%、好ましくは90〜80モル
%:10〜20モル%の範囲のものが、前述の耐湿熱テスト
において10kg/cm2以上の剪断接着力と1kg/20mm以上の剥
離力とを確実に得られるので好ましいものである。
かかるコポリマー樹脂とジオルガノポリシロキサンと
は、前者:後者=70〜15:30〜85(重量比)、好ましく
は60〜25:40〜75の範囲で用いられ、常法により有機過
酸化物、カルボン酸などの金属塩等を用いて混合又は縮
合され、常態ですぐれた接着性及び凝集性を有するシリ
コーン感圧性接着剤とされる。該接着剤には必要に応じ
て充填剤、可塑剤、着色剤、その他の添加剤を適量配合
することができる。
は、前者:後者=70〜15:30〜85(重量比)、好ましく
は60〜25:40〜75の範囲で用いられ、常法により有機過
酸化物、カルボン酸などの金属塩等を用いて混合又は縮
合され、常態ですぐれた接着性及び凝集性を有するシリ
コーン感圧性接着剤とされる。該接着剤には必要に応じ
て充填剤、可塑剤、着色剤、その他の添加剤を適量配合
することができる。
このように構成された感圧性接着剤は、例えば前記平
滑な低接着性の表面を具備したフィルム又はシート状の
表面に、10〜300μmの厚みを有するようにラミネート
して、ロール状に捲回するか或いは接着剤層面に同様の
フィルム又はシート状物を被覆して平板状とされる。接
着剤層の層間に前記芯材を介在させる場合の一方の接着
剤層の厚みは前記の約半分が目安とされる。
滑な低接着性の表面を具備したフィルム又はシート状の
表面に、10〜300μmの厚みを有するようにラミネート
して、ロール状に捲回するか或いは接着剤層面に同様の
フィルム又はシート状物を被覆して平板状とされる。接
着剤層の層間に前記芯材を介在させる場合の一方の接着
剤層の厚みは前記の約半分が目安とされる。
このようにロール状又は平板状とされた感圧性接着テ
ープ又はシートからは、例えばロール状の場合巻き戻し
て接着剤層のみをハーフカットして円形状の接着部材を
等間隔で形成して不要部分を除去するか(第1図の光デ
ィスクを製造する場合)、或いは同様にハーフカットし
てドーナッ状の大型接着リング(外周部スペーサー用)
とドーナッ状の小径接着リング(内周部スペーサー用)
とを同心円上で形成すると共に小径接着リングの内径部
分のフィルム又はシート状物を同時に打ち抜くかして
(第2図の光ディスクを製造する場合)、表面が平滑な
感圧性接着部材を得る。平板状の場合も略同様で一方の
フィルム又はシート状物の剥離は、加工前であっても加
工後であってもよい。
ープ又はシートからは、例えばロール状の場合巻き戻し
て接着剤層のみをハーフカットして円形状の接着部材を
等間隔で形成して不要部分を除去するか(第1図の光デ
ィスクを製造する場合)、或いは同様にハーフカットし
てドーナッ状の大型接着リング(外周部スペーサー用)
とドーナッ状の小径接着リング(内周部スペーサー用)
とを同心円上で形成すると共に小径接着リングの内径部
分のフィルム又はシート状物を同時に打ち抜くかして
(第2図の光ディスクを製造する場合)、表面が平滑な
感圧性接着部材を得る。平板状の場合も略同様で一方の
フィルム又はシート状物の剥離は、加工前であっても加
工後であってもよい。
光ディスクは、フィルム又はシート状物の表面に等間
隔で配置された感圧性接着部材を、一方のディスク基材
の金属反射膜側に、空気を抱き込むことがないように、
例えば一端側からロール等でしごくように順番に貼り付
けると共にフィルム又はシート状物を剥離し、次いでも
う一方のディスク基板を貼り付けることによって作られ
る。
隔で配置された感圧性接着部材を、一方のディスク基材
の金属反射膜側に、空気を抱き込むことがないように、
例えば一端側からロール等でしごくように順番に貼り付
けると共にフィルム又はシート状物を剥離し、次いでも
う一方のディスク基板を貼り付けることによって作られ
る。
<発明の効果> 本発明の光ディスクは以上のように構成されているの
で、感圧性接着部材によって基板等が浸されることな
く、また加熱を必要としないので熱歪が起生せず、しか
も量産化できると共に、得られる光ディスクは、苛酸な
耐湿熱テストを行っても充分な剪断接着力と剥離力とを
有しドロップアウトノイズが生じることがないという特
徴を有する。
で、感圧性接着部材によって基板等が浸されることな
く、また加熱を必要としないので熱歪が起生せず、しか
も量産化できると共に、得られる光ディスクは、苛酸な
耐湿熱テストを行っても充分な剪断接着力と剥離力とを
有しドロップアウトノイズが生じることがないという特
徴を有する。
<実施例> 以下本発明の実施例を示す。
実施例1 ポリカーボネート樹脂をインジエクション成形して作
製した光ディスク用基板原板の一方の表面に記録面を形
成すると共に、この面上に金属反射膜としてのアルミニ
ウム膜を真空蒸着法にて約1000Åの厚みに形成して、光
ディスク基板を作成した。
製した光ディスク用基板原板の一方の表面に記録面を形
成すると共に、この面上に金属反射膜としてのアルミニ
ウム膜を真空蒸着法にて約1000Åの厚みに形成して、光
ディスク基板を作成した。
一方、SiO2単位と全有機基の少なくとも85モル%がメ
チル基であるR3SiO0.5単位を1.0:0.55(モル比)の割合
で構成したコポリマー樹脂50重量部と、15モル%のフェ
ニル基と85モル%のメチル基とを含有するR2SiO単位か
らなるジオルガノシロキサン(25℃で800000C。S)50
重量部とから本質的になるシリコーン感圧性接着剤を用
意し、該接着剤を厚さ25μmのポリエステルフィルムの
両面に夫々30μmの厚みとなるように常法により形成
し、この両面に離型処理を施して表面を平滑な低接着性
となしたポリエステルフィルムを貼り合せて、平板状の
接着剤を得た。
チル基であるR3SiO0.5単位を1.0:0.55(モル比)の割合
で構成したコポリマー樹脂50重量部と、15モル%のフェ
ニル基と85モル%のメチル基とを含有するR2SiO単位か
らなるジオルガノシロキサン(25℃で800000C。S)50
重量部とから本質的になるシリコーン感圧性接着剤を用
意し、該接着剤を厚さ25μmのポリエステルフィルムの
両面に夫々30μmの厚みとなるように常法により形成
し、この両面に離型処理を施して表面を平滑な低接着性
となしたポリエステルフィルムを貼り合せて、平板状の
接着剤を得た。
この平板状の接着剤を前記ディスク基板と同一形状に
打ち抜いて、一方のポリエステルフィルムを剥離して、
前記ディスク基板の金属反射膜面側に貼り合せると共に
他方のポリエステルフィルムを剥離してディスク基板を
貼り付け、全体を均一に加圧して光ディスクを得た。
打ち抜いて、一方のポリエステルフィルムを剥離して、
前記ディスク基板の金属反射膜面側に貼り合せると共に
他方のポリエステルフィルムを剥離してディスク基板を
貼り付け、全体を均一に加圧して光ディスクを得た。
得られた光ディスクは、全体的にも全く変形がなく、
6ケ月放置しても反射膜の腐食は全くみられななかっ
た。
6ケ月放置しても反射膜の腐食は全くみられななかっ
た。
さらに、この光ディスクを70℃×85%R.H.×2000時間
放置した後、剪断接着力及び剥離力を測定したところ、
15kg/cm2及び1.1kg/20mmであり、ドロップアウトノイズ
は生じないものであった。
放置した後、剪断接着力及び剥離力を測定したところ、
15kg/cm2及び1.1kg/20mmであり、ドロップアウトノイズ
は生じないものであった。
実施例2 実施例1において、有機基の全部がメチル基であるジ
オルガノポリシロキサンを用いたほかは実施例1と同様
の操作で光ディスクを得た。
オルガノポリシロキサンを用いたほかは実施例1と同様
の操作で光ディスクを得た。
この光ディスクは、変形及び腐食はなく、耐湿熱テス
トの後の剪断接着力及び剥離力はそれぞれ13kg/cm2及び
0.8kg/20mmであった。
トの後の剪断接着力及び剥離力はそれぞれ13kg/cm2及び
0.8kg/20mmであった。
以上、実施例1及び2から明らかな如く、ジオルガノ
ポリシロキサンとして、有機基の中にフェニル基を含有
すると、より高い信頼性を有する光ディスクが得られる
ことが明らかである。
ポリシロキサンとして、有機基の中にフェニル基を含有
すると、より高い信頼性を有する光ディスクが得られる
ことが明らかである。
なお、剪断接着力及び剥離力の測定は以下のようにし
て行った。
て行った。
剪断接着力:厚さ1mm、幅25mm、長さ125mmのポリカー
ボネート板(PC板)の端部に25mm角の接着部材の片面を
貼り付けると共に、この部材面にもう一枚のPC板の端部
をPC板が重なり合わないように貼り合せて5kgの荷重を1
5分間加えた。この試験体を70℃×85%R.H×2000時間で
保存後室温で2時間以上放冷し、PC板の両端を反対方向
に200mm/分の速度で引っ張って測定した。
ボネート板(PC板)の端部に25mm角の接着部材の片面を
貼り付けると共に、この部材面にもう一枚のPC板の端部
をPC板が重なり合わないように貼り合せて5kgの荷重を1
5分間加えた。この試験体を70℃×85%R.H×2000時間で
保存後室温で2時間以上放冷し、PC板の両端を反対方向
に200mm/分の速度で引っ張って測定した。
剥離力:厚さ1mm、幅40mm、長さ125mmのPC板に、片面
にポリエステルフィルムを貼り付けた幅20mmの接着部材
の他方の面を貼り合せ、2kgのゴムロールで1往復圧着
する。この試験体を30分間室温で放置後、70℃×85%R.
H.×2000時間で保存し、取り出して室温で2時間以上放
冷し、180度引き剥がしテスト(引張速度300mm/分)を
行って測定した。
にポリエステルフィルムを貼り付けた幅20mmの接着部材
の他方の面を貼り合せ、2kgのゴムロールで1往復圧着
する。この試験体を30分間室温で放置後、70℃×85%R.
H.×2000時間で保存し、取り出して室温で2時間以上放
冷し、180度引き剥がしテスト(引張速度300mm/分)を
行って測定した。
第1図は本発明の実例を示す断面図、第2図は他の実例
を示す断面図、第3図は本発明に使用したシリコーン系
感圧接着部材の原反の部分側面部である。 1、1′……光ディスク、2、2′……記録面、 3、3′……金属反射膜、5……感圧性接着剤、 6……外周部スペーサー、7……内周部スペーサー、 8……中空部
を示す断面図、第3図は本発明に使用したシリコーン系
感圧接着部材の原反の部分側面部である。 1、1′……光ディスク、2、2′……記録面、 3、3′……金属反射膜、5……感圧性接着剤、 6……外周部スペーサー、7……内周部スペーサー、 8……中空部
Claims (4)
- 【請求項1】片面に記録面及び金属反射膜を順次有する
一対のディスク基板を前記反射膜が相対するように対向
させ、SiO2単位とR3SiO0.5単位(RはC数4以下のアル
キル基又はアルケニル基或いはアリール基)とから本質
的になるコポリマー樹脂とR2SiO単位(RはC数4以下
のアルキル基又はアルケニル基或いはアリール基)とか
ら本質的になるジオルガノポリシロキサンとの混合或い
は縮合物からなる表面が平滑なシリコーン製両面感圧性
接着部材で貼り合せたことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項2】片面に記録面及び金属反射膜を順次有する
一対のディスク基板を前記反射膜が相対するように対向
させると共に該基板間の外周部及び内周部にスペーサー
を介在させ、該基板とスペーサー間とを、SiO2単位とR3
SiO0.5単位(RはC数4以下のアルキル基又はアルケニ
ル基或いはアリール基)とから本質的になるコポリマー
樹脂とR2SiO単位(RはC数4以下のアルキル基又はア
ルケニル基或いはアリール基)とから本質的になるジオ
ルガノポリシロキサンとの混合或いは縮合物からなる表
面が平滑なシリコーン製両面感圧性接着部材で接着した
ことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項3】R2SiO単位で示されるシロキサンの有機基
中のアリール基が少なくとも5モル%含有する請求項1
〜2項の何れかに記載の光ディスク。 - 【請求項4】R2SiO単位で示されるシロキサンの粘度が2
5℃で少なくとも500000C.S.である請求項1〜3項の何
れかに記載の光ディスク。
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-
1989
- 1989-02-23 EP EP19890103177 patent/EP0330197A3/en not_active Withdrawn
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