JP2647053B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JP2647053B2
JP2647053B2 JP11105695A JP11105695A JP2647053B2 JP 2647053 B2 JP2647053 B2 JP 2647053B2 JP 11105695 A JP11105695 A JP 11105695A JP 11105695 A JP11105695 A JP 11105695A JP 2647053 B2 JP2647053 B2 JP 2647053B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、特にミラーペレットを有するダイシング済みウェ
ハのダイボンディング工程におけるペレットの良否の判
定方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウェハ上に回路を作り込む前加工工程に
おいて、ウェハ周辺部では回路を形成しても不良品とな
る可能性が高いため、ウェハ周辺部ペレットについては
ステッパによる露光時に露光自体を行わないのが普通で
ある。このようなペレットは、表面が平坦でありかつ表
面がパターン化されていないAl膜で覆われているた
め、光をほぼ全反射する。この種のペレットは、一般
に、ミラーペレットと呼ばれる。
【0003】このようなミラーペレットには、ペレット
の選別工程においてマーク(不良マーク)が付され、ダ
イボンディング工程においてボンディングされることが
ないように配慮されている。図3は、ミラーペレットを
有するウェハのダイボンディング工程における従来のペ
レット認識方法を示すフローチャートであり、図4は、
図3のフローチャートに従って不良マークの有無を判定
する際のウェハセンシング位置と光学画像輝度の関係を
示す図である。
【0004】ダイボンディング工程においては、図4に
示されるダイシング済みのウェハ5より良品のペレット
のみをピックアップしてダイボンドを行う。ウェハ中に
はミラーペレット1とパターン有ペレット2とが混在し
ている。フルサイズのミラーペレット(ペレットB)お
よび不良のパターン有ペレット(ペレットC)には不良
マークが付されている。
【0005】ここで、ミラーペレット1は表面全体が平
坦な金属膜で光が当たるとほぼ全反射を行い、パターン
有ペレット2とは反射率が異なっている。そのため、ミ
ラーペレット1にパターン有ペレット2に付ける不良マ
ーク3と同サイズの不良マークを付けた場合、同一照明
光量下では不良マークの検出サイズが異なり、同一のマ
ークサイズしきい値Iにおいて判定した場合には、不良
マークなしと認識され良品と判定される。
【0006】そこで、ダイボンディングの前工程におい
てミラーペレット1の不良マークを大きくし、同一照明
光量、同一しきい値で良否判定可能になるように、ミラ
ーペレット1へ不良マークの再打点を行っていた。すな
わち、フルサイズのミラーペレット1には、パターン有
ペレット2に付される不良マーク3より大きい再打点不
良マーク4が付されていた。
【0007】図3に示すように、ステップS201にお
いて、照明の光量、輝度しきい値I、マークサイズしき
い値Iを設定する。ステップS202において、その輝
度しきい値Iにより、ペレット外形・位置を認識し、そ
のペレットが外形不良であるときには、ステップS20
5に進み、外形不良でない場合には、ステップS203
へ進む。
【0008】ステップS203では、検出マークサイズ
とマークサイズしきい値Iとが比較され、検出マークサ
イズの方が大きい場合には、不良マーク有りと判定され
て、ステップS205へ進み、検出マークサイズの方が
小さい場合には不良マーク無と判定されて、ステップS
204へ進む。ステップS204において、ダイボンデ
ィングが行われた後、ステップS205へ進む。ステッ
プS205では、ウェハ中の全ペレットについて作業が
完了したか否かが判定され、完了していなければ、ステ
ップS206において、次のペレットへスキップし、完
了していれば終了する。
【0009】いま、ペレットA、B、C、Dが図4に示
すように並んでいるものとし、左から右へ判定が進行す
るものとすると、まず、ペレットAについて、判定が行
われる。ステップS202において外形不良と判定さ
れ、ステップS205、ステップS206を経てステッ
プS202に戻り、ペレットBについての判定に移る。
ステップS202では外形良品と判定され、ステップS
203において、不良マークの有無が判定される。この
とき、検出マークサイズはマークサイズしきい値Iよ
り大きいため、不良マーク有と判定され、ステップS2
05へ進む。
【0010】次に、ペレットCについての判定が行われ
る。ステップS202で外形良品と判定された後、ステ
ップS203において、不良マークの有無が判定され
る。このとき、検出マークサイズはマークサイズしき
い値Iより大きいため、不良マーク有と判定され、ステ
ップS205へ進む。次に、ペレットDについての判定
が行われる。ステップS202で外形良品と判定された
後、ステップS203において、不良マーク無と判定さ
れて、ステップS204において、ダイボンディングが
行われる。以下、同様の作業がそのウェハの全ペレット
について実施される。
【0011】また、ミラーペレットへ不良マークを付す
ことなく、照明光の光量を変化させてミラーペレットを
検出し、これを除去しつつダイボンドを行う方法も知ら
れている。図5は、このような半導体装置の製造方法を
示すフローチャートであって、これは特開平3−259
43号公報にて提案されたものである。まず、ステップ
S301において、良品ペレットが正しく認識できる光
量に照明を制御する。ステップS302ではペレットの
良否が認識される。ここで、不良のペレットにはマーキ
ングが付されている。
【0012】良品であれば、ステップS304〜ステッ
プS307において、そのペレットのダイボンドが行わ
れ、不良品であればステップS310へ進む。ステップ
S307において、ダイボンドが行われた後、ステップ
S308において、ウェハテーブルを1ピッチ移動さ
せ、ステップS309において、1ウェハ分のピッチ駆
動が完了しているか否かが判断され、完了していれば終
了し、完了していなければ、ステップS301に戻る。
【0013】ステップS310では、不良ペレットと判
定されたペレットについてそのペレットサイズについて
の判定が行われる。ペレットサイズが小さい場合にはス
テップS308へ移り、そうでなければ、ステップS3
11へ進む。ステップS311では、照明が予め登録し
ておいた、ミラーペレットの2値化画像データを得るの
に適した光量に制御される。
【0014】ステップS312では、ミラーペレットで
あるか否かが認識される。ステップS313において、
ミラーペレットでない場合には、ステップS308へ移
り、ミラーペレットである場合には、ステップS314
〜ステップS318においてミラーペレットをウェハか
ら除去した後、ステップS308へ移る。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】図3、図4を参照して
説明した従来のペレット認識方法では、ミラーペレット
とパターン有ペレットとに同一サイズの不良マークを付
した場合には、ミラーペレット1とパターン有ペレット
2の良品との区別ができないため、ダイボンディングの
前工程においてミラーペレット1へ不良マークの再打点
を行わなければならないという問題があった。
【0016】また、図5を参照して説明した他の従来例
のペレット認識方法では、不良品が発生する度に、照明
の光量をミラーペレット用に切り替え、その後に再びパ
ターン有ペレットに適合する光量に制御しなければなら
ないため、工数が増え作業に時間がかかるという問題が
あった。
【0017】本発明は、このような従来例の欠点に鑑み
てなされたものであって、その目的は、不良マークの再
打点や照明光量の制御などの作業を行わなくてもミラー
ペレットを識別できるようにすることであり、このこと
により全体の作業性を向上させようとするするものであ
る。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明によれば、ミラーペレットおよびマーキング
の付された不良のペレットを有するダイシング済みウェ
ハより良品のペレットをピックアップしてダイボンディ
ングを行う半導体装置の製造方法において、各ペレット
からの反射光を2種の輝度しきい値により二値化画像認
識を行い、ペレットサイズおよびマークサイズを検出し
てペレットの良否判定を行うことを特徴とする半導体装
置の製造方法、が提供される。
【0019】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施例のダイボイド工
程におけるペレット認識方法を示すフローチャートであ
り、図2は、不良マークの有無およびミラーペレットか
良品ペレットかを判定する際のウェハセンシング位置と
光学画像の輝度との関係を示す図である。
【0020】まず、ステップS101において、照明の
光量と、輝度しきい値I、IIと、マークサイズしきい値
I、IIとが設定される。輝度しきい値Iは、パターン有
ペレット2を適正に認識できるレベルに設定され、輝度
しきい値IIは、パターン有ペレット2については認識す
ることができず、かつミラーペレットを認識できるレベ
ルに設定される。また、マークサイズしきい値I<マー
クサイズしきい値IIに設定される。
【0021】ステップS102では、輝度しきい値Iに
おいて、ペレット外形と位置の検出を行い、ペレット外
形が不良の場合にはステップS106へ進み、外形良品
の場合には、ステップS103へ移る。ステップS10
3では、輝度しきい値Iにおいて検出された検出マーク
サイズとマークサイズしきい値Iとが比較される。検
出マークサイズ<マークサイズしきい値I、ならば不
良マーク3無し、すなわち良品あるいはミラーペレット
1と判定してステップS104に進み、検出マークサイ
ズ≧マークサイズしきい値I、ならば不良マーク有
り、すなわちパターン有り不良ペレットと判定して、ス
テップS106へ進む。
【0022】ステップS104では、輝度しきい値IIに
て検出された検出マークサイズとマークサイズしきい
値IIとを比較し、ミラーペレットであるか良品ペレット
であるかを判定する。すなわち、検出マークサイズ>マ
ークサイズしきい値II、であれば良品ペレットと判定し
て、ステップS105へ進み、また、検出マークサイズ
≦マークサイズしきい値II、ならばミラーペレット1
と判定して、ステップS106へ進む(輝度しきい値II
で2値化した場合、良品ペレットではペレット全面にマ
ークが付されているように認識される)。
【0023】ステップS105では、良品と判定された
ペレットをダイボンドしてステップS106へ進む。ス
テップS106では、1ウェハ分の全てのペレットにつ
いての判定が完了したか否かが判定され、完了していれ
ば終了し、そうでなければステップS107を経て次の
ペレットについて判定を実行する。
【0024】いま、ペレットA、B、C、Dが図2に示
すように並んでいるものとし、左から右へ判定が進行す
るものとすると、まず、ペレットAについて、判定が行
われる。ステップS102において外形不良と判定さ
れ、ステップS106、ステップS107を経てステッ
プS102に戻り、ペレットBについて判定が行われ
る。ステップS102では外形良品と判定され、ステッ
プS103において、不良マークの有無が判定される。
輝度しきい値Iにおいてのマーク検出では、ミラーペレ
ットのマークを検出することができないので、不良マー
ク無しと判定され、ステップS104へ進む。
【0025】ステップS104では、輝度しきい値IIに
おいて検出した検出マークサイズとマークサイズしき
い値IIとが比較され、検出マークサイズ≦マークサイ
ズしきい値IIであるため、ミラーペレットと判定され、
ステップS106へ進む。そして、ステップS107を
経て次のペレットCについての判定が開始される。
【0026】ペレットCについて、ステップS102に
おいて外形良品と判定され、ステップS103におい
て、不良マークの有無が判定される。輝度しきい値Iに
おいて検出された検出マークサイズとマークサイズし
きい値Iとが比較され、検出マークサイズ≧マークサ
イズしきい値I、であるので、パターン有ペレットで不
良マーク有りと判定され、ステップS106、ステップ
S107を経て、次のペレットDの判定へと進む。
【0027】ペレットDについて、ステップS102で
外形良品と判定された後、ステップS103において、
不良マーク無と判定されて、ステップS104に移る。
ステップS104では、輝度しきい値IIでは、検出マー
クサイズ>マークサイズしきい値II、であるため、良品
ペレットと判定され、ステップS105にてダイボンド
が行われる。以下、同様の作業がそのウェハの全ペレッ
トについて実施される。
【0028】上記の実施例では、ミラーペレットに不良
マーク3を付し、ステップS104において、その検出
マークサイズとマークサイズしきい値IIとを比較してし
ていたが、これを次のように変更してもよい。すなわ
ち、ミラーペレットに不良マークを付すのを廃止する。
しかし、ステップS103、ステップS104では、実
施例の場合と同様の判定を行う。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ダイボ
ンディング時のペレットの良否の判定工程において、2
種の輝度しきい値を設定し、これに基づいてペレットサ
イズ、マークサイズを検出するものであるので、ダイボ
ンディングの前工程においてミラーペレットへの不良マ
ークの再打点を行ったり、ダイボンディング時に照明の
光量を調整したりする必要がなくなり、2種の輝度しき
い値に基づく二値化認識のみによりペレットの良品判定
が可能になり、効率的なダイボンド作業が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のペレットの良否判定の作業
流れを示すフローチャート。
【図2】本発明の一実施例を説明するためのウェハセン
ジング位置とペレットの光学画像輝度との関係を示す
図。
【図3】従来のペレットの良否判定の作業流れを示すフ
ローチャート。
【図4】従来例を説明するためのウェハセンジング位置
とペレットの光学画像輝度との関係を示す図。
【図5】他の従来例のペレットの良否判定の流れを示す
フローチャート。
【符号の説明】
1 ミラーペレット 2 パターン有ペレット 3 不良マーク 4 再打点不良マーク 5 ダイシング済みウェハ

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ミラーペレットおよび不良マークが付さ
    れた不良のペレットを有するダイシング済みウェハより
    良品のペレットをピックアップしてダイボンディングを
    行う半導体装置の製造方法において、各ペレットからの
    反射光を2種の輝度しきい値により二値化画像認識を行
    い、ペレットサイズおよびマークサイズを検出してペレ
    ットの良否判定を行うことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 前記2種の輝度しきい値が、パターンを
    有するペレットの非マーク部を認識できる第1の輝度し
    きい値と、パターンを有するペレットの非マーク部を認
    識することができず、かつ、ミラーペレットの非マーク
    部を認識できる第2の輝度しきい値であることを特徴と
    する請求項1記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第1の輝度しきい値により得た二値
    化画像データに基づいて検出したペレットサイズが所定
    の範囲内にあるか否かおよび同様にして得たマークサイ
    ズが第1の所定値より小さいか否かを判定する第1の判
    定過程と、前記第2の輝度しきい値により得た二値化画
    像データに基づいて当該ペレットがミラーペレットであ
    るか否かを判定する第2の判定過程と、を有することを
    特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 ミラーペレットには不良マークが付され
    ており、かつ、前記第1の輝度しきい値により得た二値
    化画像データに基づいて検出したペレットサイズが所定
    の範囲内にあるか否かおよび同様にして得たマークサイ
    ズが第1の所定値より小さいか否かを判定する第1の判
    定過程と、前記第2の輝度しきい値により得た二値化画
    像データに基づいて検出したマークサイズが第2の所定
    値より大きいか否かを判定する第2の判定過程と、を有
    することを特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造
    方法。
JP11105695A 1995-04-13 1995-04-13 半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP2647053B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4676315B2 (ja) * 2005-11-16 2011-04-27 日本電産トーソク株式会社 ボンディング装置
JP2007141980A (ja) * 2005-11-16 2007-06-07 Nidec Tosok Corp ボンディング装置

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