JP2024001376A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】安定して、ビームが照射される照射面に迷光が照射されることを抑制する。【解決手段】光走査装置は、ビームを出射する少なくとも１つの光源部と、回転移動が可能な反射面を有し、前記少なくとも１つの光源部から出射された前記ビームを前記反射面にて反射させる反射部材と、前記反射面によって反射された前記ビームを透過する第１Ｆθレンズと、前記第１Ｆθレンズを透過した前記ビームを透過させることで、前記ビームを照射面に導く少なくとも１つの第２Ｆθレンズと、前記ビームの光路における、前記反射部材から前記少なくとも１つの第２Ｆθレンズへ至るまでの位置に設けられた少なくとも１つの光学部材と、を備え、前記少なくとも１つの光学部材は、偏光板と、λ／４波長板とを有し、前記偏光板と、前記λ／４波長板とは、この順に前記ビームの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。【選択図】図６

Description

本開示は、光走査装置および画像形成装置に関する。

特許文献１に係る光走査装置においては、プリズムの端面のうち、ミラーと対向する端面に密着するように波長板が設けられている。波長板のうち、ミラーと対向する端面は大気と接触し、ミラーに対して傾斜するように設けられている。また、プリズムの左前方に光吸収部が設けられている。そして、ミラーに対してプリズムを介した前方に離間して、揺動させない状態のミラーと平行となるように投影面が形成されている。レーザー光源から出射されたレーザー光は、プリズムの側方からプリズムへ入射し、プリズム内の反射面にて反射し、波長板を透過してミラーにて反射し、再度、プリズム内を透過して、投影面に投影される。

ここで、波長板の硝材の屈折率と、大気の屈折率との差が大きいことから、波長板における大気と接触する端面（ミラーと対向する端面）はレーザー光を反射しやすい状態となっている。このため、プリズム内の反射面にて反射して波長板に入射したレーザー光は、波長板における大気と接触する端面において反射することで迷光となる。

しかし、特許文献１に係る光走査装置においては、波長板における大気と接触する端面が、ミラーに対して傾斜するように設けられている。このため、特許文献１によると、波長板における大気と接触する端面において反射した迷光は、波長板及びプリズムを透過した後、投影面とは異なる方向へ進行し、さらに、光吸収部にて吸収されるため、迷光が投影面に投影されることを防ぐことができるとされている。

特開２０１２‐４２８７８号公報

特許文献１に開示された光走査装置によると、プリズム及び波長板のミラーに対する傾斜角度、光吸収部の配置位置等、比較的、高い精度が要求される。このため、例えば、光走査装置に衝撃が加わる等によって、プリズム及び波長板のミラーに対する傾斜角度が少しでも変化すると、迷光が投影面に投影されてしまう場合がある。本開示は、安定して、ビームが照射される照射面に迷光が照射されることを抑制する光走査装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。

本開示の一態様に係る光走査装置は、ビームを出射する少なくとも１つの光源部と、回転移動が可能な反射面を有し、前記少なくとも１つの光源部から出射された前記ビームを前記反射面にて反射させる反射部材と、前記反射面によって反射された前記ビームを透過する第１Ｆθレンズと、前記第１Ｆθレンズを透過した前記ビームを透過させることで、前記ビームを照射面に導く少なくとも１つの第２Ｆθレンズと、前記ビームの光路における、前記反射部材から前記少なくとも１つの第２Ｆθレンズへ至るまでの位置に設けられた少なくとも１つの光学部材と、を備え、前記少なくとも１つの光学部材は、偏光板と、λ／４波長板とを有し、前記偏光板と、前記λ／４波長板とは、この順に前記ビームの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。

本開示の一態様に係る光走査装置および画像形成装置によると、安定して、ビームが照射される照射面に迷光が照射されることを抑制することができる。

図１は、実施形態に係る光走査装置を備えた画像形成装置の構成を表す断面図である。 図２は、実施形態に係る光走査装置を斜め上方から見た斜視図である。 図３は、実施形態に係る光走査装置をＸＹ平面に平行に切ったときの光走査装置の横断面図である。 図４は、図５におけるＡ１‐Ａ１切断線で光走査装置を切ったときの光走査装置の縦断面図である。 図５は、比較例に係る光走査装置において、ビームの照射面に迷光が照射されている様子を表す図である。 図６は、実施形態に係る光走査装置において、迷光が遮光されている様子を表す図である。 図７は、実施形態に係る光走査装置において、ビームの偏光方向が変化する様子を表す図である。 図８は、実施形態に係る光走査装置において、迷光の偏光方向が変化する様子を表す図である。 図９は、実施形態の変形例１に係る光走査装置の縦断面図である。 図１０は、実施形態の変形例２に係る光走査装置の縦断面図である。 図１１は、実施形態の変形例３に係る光源部の概略構成を表す図である。 図１２は、実施形態の変形例３に係る光源部によってビームが照射される照射面の様子を表す図である。 図１３は、実施形態の変形例３に係る光走査装置における、ビームの偏光方向と、偏光板及びλ／４波長板のそれぞれの透過軸との関係を表す図である。 図１４は、実施形態の変形例３に係る光走査装置における、迷光の偏光方向と、偏光板及びλ／４波長板それぞれの透過軸との関係を表す図である。

〔実施形態〕
以下、本実施形態について図面を参照しつつ説明する。図面については、同一又は同等の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された内容を不当に限定するものではない。また本実施形態で説明される構成の全てが、本開示の必須構成要件であるとは限らない。

図１は、実施形態に係る光走査装置１０を備えた画像形成装置１００の構成を表す断面図である。なお、以降に示す各図において、主走査方向をＸ方向とし、主走査方向に直交する方向である副走査方向（幅方向）をＹ方向とし、ＸＹ平面に対して直交する方向である高さ方向をＺ方向とする。

例えば、画像形成装置１００は、カラー画像またはモノクロ画像を形成する画像形成機能と、形成した画像を印刷する印刷機能とを有する装置である。画像形成装置１００は、プリンターであってもよいし、スキャナー機能付きプリンターであってもよいし、画像形成機能および印刷機能を含む種々の機能を有する複合機（ＭＦＰ：Multifunction Peripheral）であってもよい。本実施形態では、一例として、画像形成装置１００を複合機であるものとして説明する。例えば、画像形成装置１００は、カラー画像またはモノクロ画像を形成し、形成したカラー画像またはモノクロ画像を原稿に印刷する印刷機能を有する。画像形成装置１００がカラー画像を印刷する際に用いる色の種類としては、限定されるものではないが、例えば、ブラック（Ｂｋ）、シアン（Ｃｙ）、マゼンタ（Ｍｇ）、イエロー（Ｙｅ）の各色を挙げることができる。また、画像形成装置１００は、例えば、単色（例えばブラック）を用いてモノクロ画像を原稿に印刷する。

例えば、画像形成装置１００は、装置本体１０１と、装置本体１０１に開閉可能に取り付けられた装置蓋部１０２とを有する。例えば、装置蓋部１０２は、原稿を搬送するための搬送部１０２ａを含む。例えば、装置本体１０１は、画像読取装置１１０と、給紙トレイ１２０と、複数の搬送ローラと、光走査装置１０と、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄと、中間転写ベルト１５１と、ベルトクリーニング装置１５２と、２次転写装置１５３と、定着装置１５４と、排出トレイ１７０と等を有する。前記複数の搬送ローラは、原稿を搬送するための原稿搬送機構であり、例えば、ピックアップローラ１３１と、搬送ローラ１３２と、レジストローラ１３３と、排出ローラ１３４とを備える。光走査装置１０および画像形成ステーションＰａ・ＰｂＰｃ・Ｐｄは、原稿に転写（印刷）されるトナー像（印刷用の画像）を形成する画像形成機構である。また、中間転写ベルト１５１と、ベルトクリーニング装置１５２と、２次転写装置１５３と、定着装置１５４とは、前記画像形成機構が形成したトナー像（印刷用の画像）を原稿に転写する、すなわち、印刷する印刷機構である。

また、図示しないが、装置本体１０１は、ユーザーからの入力操作を受け付ける入力インターフェースである操作パネルと、画像形成装置１００の動作を統合的に制御する制御部と、各種のデータを記憶する記憶部とを有する。例えば、制御部は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等のプロセッサおよびＲＡＭ等を用いて構成することができる。また、例えば、記憶部は、ハードディスク装置またはフラッシュメモリ等の不揮発性メモリ等を用いて構成することができ、種々のデータおよびプログラムを記憶する。

画像読取装置１１０は、画像読取装置１１０上に搭載された原稿における画像を読み取り、読み取った画像を表す画像データを、図示しない記憶部に記憶する。画像読取装置１１０上に搭載される原稿は、搬送部１０２ａによって搬送されて画像読取装置１１０上に搭載されてもよいし、ユーザーによって、直接、画像読取装置１１０上に搭載されてもよい。給紙トレイ１２０には、印刷前の原稿が格納されている。給紙トレイ１２０は、例えば、引き出し可能に装置本体１０１に設けられている。

画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄは、中間転写ベルト１５１の表面に、トナー像（画像）を、転写することで形成する。画像形成ステーションＰａ・ＰｂＰｃ・Ｐｄのそれぞれは、画像形成装置１００が画像を印刷する際に使用する色の種類毎に設けられている。例えば、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄは、この順に、副走査方向（Ｙ方向）に並んで設けられている。例えば、画像形成ステーションＰａはイエローのトナー像を転写し、画像形成ステーションＰｂはマゼンタのトナー像を転写し、画像形成ステーションＰｃはシアンのトナー像を転写し、画像形成ステーションＰｄはブラックのトナー像を転写する。なお、画像形成装置１００がカラー画像ではなくモノクロ画像のみを印刷する場合、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのうち何れか１つだけ設けられていてもよい。

画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄは、それぞれ、現像装置１４１、感光体ドラム１４２、ドラムクリーニング装置１４３、および帯電器１４４等を有する。各画像形成ステーションＰａ、Ｐｂ、Ｐｃ、Ｐｄのいずれにおいても、次のようにしてトナー像が形成される。ドラムクリーニング装置１４３が、感光体ドラム１４２の表面における残留トナーを除去および回収する。その後、帯電器１４４により感光体ドラム１４２の表面が所定の電位に均一に帯電される。そして、帯電した感光体ドラム１４２の表面が、光走査装置１０（詳細は後述する）からのビームにより露光されて感光体ドラム１４２の表面に静電潜像が形成される。その後、現像装置１４１により、感光体ドラム１４２の表面に形成された静電潜像が現像される。これにより、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれが備える各感光体ドラム１４２に各色のトナー像が形成される。

中間転写ベルト１５１は、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれが備える各感光体ドラム１４２の表面と接触するように設けられている。中間転写ベルト１５１は、矢印方向Ｃに周回移動する。これにより、中間転写ベルト１５１の表面に、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれが備える各感光体ドラム１４２の表面に形成されている各色のトナー像が、中間転写ベルト１５１の表面に順次転写されていく。このようにして、中間転写ベルト１５１の表面にカラーのトナー像が形成される。そして、中間転写ベルト１５１の表面に形成されたトナー像は、中間転写ベルト１５１の表面と接触するように搬送されてきた原稿の表面に転写される。

ベルトクリーニング装置１５２は、中間転写ベルト１５１の表面をクリーニングする。ベルトクリーニング装置１５２は、中間転写ベルト１５１がトナー像を原稿に転写する位置よりも、中間転写ベルト１５１が周回移動する矢印方向Ｃの下流方向の位置において、中間転写ベルト１５１の表面と接触する。これにより、ベルトクリーニング装置１５２は、中間転写ベルト１５１の表面における残留トナーを除去および回収する。

２次転写装置１５３は、転写ローラ１５３ａを有している。転写ローラ１５３ａは、中間転写ベルト１５１との間にニップ域が形成されるように、中間転写ベルト１５１の表面と対向して設けられている。略Ｓ字状の原稿搬送経路Ｒ１（給紙トレイ１２０から排出された後、排出トレイ１７０へ至るまでの原稿の搬送経路）を通じて転写ローラ１５３ａと接触するように搬送されてきた原稿（印刷前の原稿）は、転写ローラ１５３ａと中間転写ベルト１５１との間のニップ域に挟まれて搬送されながら、中間転写ベルト１５１の表面に形成されたトナー像が転写される。この後、転写ローラ１５３ａと中間転写ベルト１５１との間のニップ域を通過した原稿（トナー像が転写された原稿）は、定着装置１５４へ搬送される。

定着装置１５４は加熱ローラ１５４ａと加圧ローラ１５４ｂとを有する。転写ローラ１５３ａと中間転写ベルト１５１とによってトナー像が転写された原稿は、加熱ローラ１５４ａと加圧ローラ１５４ｂとの間に挟み込まれて加熱および加圧される。これにより、原稿に転写されたトナー像が定着される。すなわち、原稿の表面への画像の印刷が完了する。

原稿搬送経路Ｒ１には、複数のローラである、ピックアップローラ１３１と、搬送ローラ１３２と、レジストローラ１３３と、上述した中間転写ベルト１５１および転写ローラ１５３ａと、上述した加熱ローラ１５４ａと加圧ローラ１５４ｂと、排出ローラ１３４とが、この順に設けられている。ピックアップローラ１３１は、給紙トレイ１２０に隣接するように設けられ、複数のローラのうち給紙トレイ１２０の最も近くに位置する（排出トレイ１７０から最も遠くに位置する）ローラである。排出ローラ１３４は、排出トレイ１７０に隣接するように設けられ、複数のローラのうち排出トレイ１７０の最も近くに位置する（排出トレイ１７０から最も遠くに位置する）ローラである。

給紙トレイ１２０に格納されている印刷前の原稿は、ピックアップローラ１３１により給送トレイ１８から引出されて、搬送ローラ１３２と、レジストローラ１３３とによって、原稿搬送経路Ｒ１に沿って搬送される。そして、レジストローラ１３３から排出された原稿は、中間転写ベルト１５１および転写ローラ１５３ａの間と、加熱ローラ１５４ａおよび加圧ローラ１５４ｂの間とを経由して搬送され、排出ローラ１３４を介して排出トレイ１７０へと排出される。

レジストローラ１３３は、トナー像が原稿に転写される中間転写ベルト１５１および転写ローラ１５３ａよりも、原稿搬送経路Ｒ１における直前の上流位置に設けられている。そしてレジストローラ１３３は、原稿を、中間転写ベルト１５１および転写ローラ１５３ａへ排出する前に一旦停止させて、原稿の先端を揃える。レジストローラ１３３は、原稿を一旦停止させた後、中間転写ベルト１５１と転写ローラ１５３ａとの間のニップ域でのトナー像の転写タイミングに合わせて原稿を搬送する。搬送ローラ１３２は、ピックアップローラ１３１からレジストローラ１３３への原稿の搬送を促す。

次に、図２から図４を用いて、画像形成装置１００が備える光走査装置１０について説明する。図２は、実施形態に係る光走査装置１０を斜め上方から見た斜視図である。図３は、実施形態に係る光走査装置１０をＸＹ平面に平行に切ったときの光走査装置１０の横断面図である。図４は、図３におけるＡ１‐Ａ１切断線で光走査装置１０を切ったときの光走査装置１０の縦断面図である。

光走査装置１０は、筐体２０と、各種の光学部品とを有する。筐体２０は、容器形状である筐体本体２１と、蓋部２２とを有する。各種の光学部品は、筐体２０内に収容されている。例えば、筐体２０は、樹脂を用いて形成することができる。ただし、筐体２０を形成するための材料は樹脂に限定されず、他の材料を用いて形成されていてもよい。

蓋部２２は、筐体本体２１における開放された上面を覆うように筐体本体２１上に設けられている。蓋部２２は、筐体本体２１における複数の側部のそれぞれの頭頂部によって支持されている。蓋部２２には、主走査方向（Ｘ方向）が長手方向となる複数の貫通孔２２ａ・２２ｂ・２２ｃ・２２ｄが形成されている。貫通孔２２ａ・２２ｂ・２２ｃ・２２ｄは、この順に、副走査方向（Ｙ方向）に並んで設けられている。後述する筐体２０内に設けられた複数の光源部のそれぞれから出射されたビームは、貫通孔２２ａ・２２ｂ・２２ｃ・２２ｄのそれぞれを通って、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれへ出射される。光走査装置１０が画像形成装置１００（図１参照）内に設置されたとき、例えば、貫通孔２２ａは画像形成ステーションＰａと対向して配置され、貫通孔２２ｂは画像形成ステーションＰｂと対向して配置され、貫通孔２２ｃは画像形成ステーションＰｃと対向して配置され、貫通孔２２ｄは画像形成ステーションＰｄと対向して配置される。

なお、貫通孔２２ａ・２２ｂ・２２ｃ・２２ｄのそれぞれは、筐体２０内への防塵のため、透明ガラス等によって形成された保護カバー２２ｇによって覆われる。

筐体２０内には、各種の光学部品である、光学部材３０と、ポリゴンミラーユニット５０と、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄと、複数のコリメータレンズ６２ａ・６２ｂ・６２ｃ・６２ｄと、複数の第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃ・６３ｄと、シリンドリカルレンズ６４と、第２ミラー６５と、第１Ｆθレンズ７１と、複数の第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄと、反射ミラー７３ａ１・７３ａ２と、反射ミラー７３ｂ１・７３ｂ２と、反射ミラー７３ｃ１・７３ｃ２と、反射ミラー７３ｄと等を有する。光学部材３０は、一対の偏光板３１及びλ／４波長板３２を有する。

ポリゴンミラーユニット５０は、ポリゴンミラー（反射部材）５１と、ベース部５２と、軸部Ｇとを有する。ポリゴンミラー５１は、軸部Ｇを回転中心として回転する。ポリゴンミラー５１および軸部Ｇはベース部５２に取り付けられている。ポリゴンミラー５１の各側面は、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄからのビームを反射する反射面５１ｒとなっている。各反射面５１ｒは、軸部Ｇを回転中心として軸部Ｇ周りに回転移動する。

筐体本体２１は、底部の表面から高さ方向（Ｚ方向）に突出する凸部であるポリゴンミラー収容部２１３を有する。ポリゴンミラーユニット５０は、ポリゴンミラー収容部２１３によって囲まれた内部の空間に収容されている。すなわち、ポリゴンミラー収容部２１３は、ポリゴンミラーユニット５０を覆う。ポリゴンミラー搭載板５５の縁部分は、筐体本体２１の底部にビス等を用いて固定される。これによって、ポリゴンミラーユニット５０は、ポリゴンミラー収容部２１３の内部の空間に密閉されて、ポリゴンミラー５１における各反射面５１ｒに塵および埃が付着することが抑制されている。

光走査装置１０が有する各光学部品のうち、複数のコリメータレンズ６２ａ・６２ｂ・６２ｃ・６２ｄと、複数の第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃ・６３ｄと、シリンドリカルレンズ６４と、第２ミラー６５とは、それぞれ、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄから出射されたビームをポリゴンミラー５１へ導くための入射光学部品である。また、光走査装置１０が有する各光学部品のうち、偏光板３１と、λ／４波長板３２と、第１Ｆθレンズ７１と、複数の第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄと、反射ミラー７３ａ１・７３ａ２と、反射ミラー７３ｂ１・７３ｂ２と、反射ミラー７３ｃ１・７３ｃ２と、反射ミラー７３ｄとは、ポリゴンミラー５１によって反射されたビームを、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄ（図１参照）のそれぞれの感光体ドラム１４２へと導く、結像光学部品である。

複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれは、ビームを出射する発光素子を有する。本実施形態においては、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれに、１つの発光素子のみが設けられた場合について説明する。複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれが有する発光素子としては、例えば、ビームである半導体レーザーを出射可能な半導体レーザー素子を挙げることができる。なお、光走査装置１０は、例えば、画像形成ステーションが１つのみ設けられている場合など、光源部も１つのみ設けられていてもよい。すなわち、光走査装置１０は、少なくとも１つの光源部を有していればよい。

複数のコリメータレンズ６２ａ・６２ｂ・６２ｃ・６２ｄは、例えば、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれから出射されたビームを平行光へ変換する。コリメータレンズ６２ａは光源部６１ａと対向するように配置され、コリメータレンズ６２ｂは光源部６１ｂと対向するように配置され、コリメータレンズ６２ｃは光源部６１ｃと対向するように配置され、コリメータレンズ６２ｄは光源部６１ｄと対向するように配置されている。

複数の第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃ・６３ｄのうち、第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃは、コリメータレンズ６２ａ・６２ｂ・６２ｃを透過した、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃそれぞれからの平行光を、第１ミラー６３ｄへ反射する。第１ミラー６３ｄは、複数の第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃのそれぞれからの反射光をシリンドリカルレンズ６４へ反射する。また、コリメータレンズ６２ｄを透過した光源部６１ｄからの光は、第１ミラー６３ｃの上方を通過してシリンドリカルレンズ６４へ入射する。

シリンドリカルレンズ６４は、第１ミラー６３ａ・６３ｂ・６３ｃ・６３ｄのそれぞれが反射した反射光およびコリメータレンズ６２ｄを透過した光源部６１ｄからのビームを、副走査方向に平行になるよう収束させて第２ミラー６５へ透過させる。第２ミラー６５は、シリンドリカルレンズ６４を透過した副走査方向に平行なビームを、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒに集光する。

ポリゴンミラー５１は、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれから出射されたビームを反射する。すなわち、ポリゴンミラー５１は、軸部Ｇを回転中心として高速回転しており、第２ミラー６５によって反射されたビームを、各反射面５１ｒで反射することにより、主走査方向（Ｘ方向）へ繰り返し偏向させる。ポリゴンミラー５１は、各反射面５１ｒにて、光源部６１ａから出射されたビームＬａを反射し、光源部６１ｂから出射されたビームＬｂを反射し、光源部６１ｃから出射されたビームＬｃを反射し、光源部６１ｄから出射されたビームＬｄを反射する。

そして、ポリゴンミラー５１が各反射面５１ｒで反射させたビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄ（図４参照）は、各ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に共通する第１Ｆθレンズ７１を透過した後、ビームＬａは反射ミラー７３ａ１・７３ａ２によって反射されて第２Ｆθレンズ７２ａを透過して画像形成ステーションＰａ（図１参照）の感光体ドラム１４２へ結像され、ビームＬｂは反射ミラー７３ｂ１・７３ｂ２によって反射されて第２Ｆθレンズ７２ｂを透過して画像形成ステーションＰｂ（図１参照）の感光体ドラム１４２へ結像され、ビームＬｃは反射ミラー７３ｃ１・７３ｃ２によって反射されて第２Ｆθレンズ７２ｃを透過して画像形成ステーションＰｃ（図１参照）の感光体ドラム１４２へ結像され、ビームＬｄは反射ミラー７３ｄによって反射されて第２Ｆθレンズ７２ｄを透過して画像形成ステーションＰｄ（図１参照）の感光体ドラム１４２へ結像される。

第１Ｆθレンズ７１は、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒで反射されたビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれを透過する。第１Ｆθレンズ７１は、筐体２０における底部に、主走査方向（Ｘ方向）に延びて設置されている。第１Ｆθレンズ７１は、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒで反射されたビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に設けられ、ポリゴンミラー５１に対しビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの進行方向前方に設けられている。第１Ｆθレンズ７１は、例えば樹脂を用いて形成することができるが、第１Ｆθレンズ７１の形成に用いる材料は樹脂に限定されるものではない。第１Ｆθレンズ７１は、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒで反射されたビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれを、感光体ドラム１４２（図１参照）の表面で所定のビーム径となるように集光して透過する。また、第１Ｆθレンズ７１は、ポリゴンミラー５１により主走査方向に等角速度で偏向されているビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれを、各感光体ドラム１４２における表面上を主走査方向に沿って等速度で移動するように変換する。これにより、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄは、各感光体ドラム１４２の表面を主走査方向に沿って繰り返し走査される。

光学部材３０は、詳細は図６等を用いて後述するが、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄが第２Ｆθレンズ７２ａを透過する際に発生する迷光を抑制する。偏光板３１と、λ／４波長板３２とは、互いに対向するように、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に設けられている。図３及び図４においては、偏光板３１が、他の部材を介さず第１Ｆθレンズ７１と直接対向するように、偏光板３１及びλ／４波長板３２が、第１Ｆθレンズ７１に対してビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの進行方向前方に設けられている例を示している。しかし、光学部材３０が設けられる位置は、これに限定されない。光学部材３０は、ポリゴンミラー５１から第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃへ至るまで（すなわち、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄが第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃへ入射する直前の位置まで）のビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄにおける光路のいずれの位置に設けられていてもよい。ただし、偏光板３１と、λ／４波長板３２とは、この順に、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。

また、図３及び図４においては、光学部材３０が１つのみ設けられている例を示しているが、例えば、複数の光学部材３０ａ～３０ｄ（図９）のように、光走査装置１０は複数の光学部材を有していてもよい。すなわち、光走査装置１０は、少なくとも１つの光学部材を有していればよい。

反射ミラー７３ａ１・７３ａ２、反射ミラー７３ｂ１・７３ｂ２、反射ミラー７３ｃ１・７３ｃ２、および、反射ミラー７３ｄは、主走査方向（Ｘ方向）に延びて、筐体２０内に設けられている。

反射ミラー７３ａ１と、反射ミラー７３ａ２とは、この順に、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬａの光路においてビームＬａの進行方向に並ぶように設置されている。反射ミラー７３ａ１は、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬａを反射ミラー７３ａ２へ反射するように設けられており、反射ミラー７３ａ２は、反射ミラー７３ａ１から反射されたビームＬａを第２Ｆθレンズ７２ａへ反射するように設けられている。反射ミラー７３ｂ１と、反射ミラー７３ｂ２とは、この順に、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｂの光路においてビームＬｂの進行方向に並ぶように設置されている。反射ミラー７３ｂ１は、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｂを反射ミラー７３ｂ２へ反射するように設けられており、反射ミラー７３ｂ２は、反射ミラー７３ｂ１から反射されたビームＬｂを第２Ｆθレンズ７２ｂへ反射するように設けられている。

反射ミラー７３ｃ１と、反射ミラー７３ｃ２とは、この順に、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｃの光路においてビームＬｃの進行方向に並ぶように設置されている。反射ミラー７３ｃ１は、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｃを反射ミラー７３ｃ２へ反射するように設けられており、反射ミラー７３ｃ２は、反射ミラー７３ｃ１から反射されたビームＬｃを第２Ｆθレンズ７２ｃへ反射するように設けられている。反射ミラー７３ｄは第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｄの光路においてビームＬｄの進行方向に並ぶように設置されている。反射ミラー７３ｄは、第１Ｆθレンズ７１を透過したビームＬｄを第２Ｆθレンズ７２ｄへ反射するように設けられている。

第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄを、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれの感光体ドラム１４２へ導くためのレンズである。第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄのそれぞれは、主走査方向（Ｘ方向）に延びている。第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄのそれぞれは、例えば、両端が、筐体本体２１における側部の内壁に支持されて、筐体２０の内部に設置されている。

第２Ｆθレンズ７２ａは蓋部２２における貫通孔２２ａと対向し、第２Ｆθレンズ７２ｂは蓋部２２における貫通孔２２ｂと対向し、第２Ｆθレンズ７２ｃは蓋部２２における貫通孔２２ｃと対向し、第２Ｆθレンズ７２ｄは蓋部２２における貫通孔２２ｄと対向する。第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄのそれぞれは、例えば樹脂を用いて形成することができるが、第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄのそれぞれの形成に用いる材料は樹脂に限定されるものではない。

第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄのそれぞれは、主に副走査方向（Ｙ方向）において平行光であるビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄを、各感光体ドラム１４２の表面において所定のビーム径（スポット径）となるように絞って、各感光体ドラム１４２の表面に透過する。具体的には、第２Ｆθレンズ７２ａは、第１Ｆθレンズ７１を透過し、反射ミラー７３ａ１・７３ａ２にて反射されたビームＬａを、透過して画像形成ステーションＰａにおける感光体ドラム１４２の表面（照射面）に導く。第２Ｆθレンズ７２ｂは、第１Ｆθレンズ７１を透過し、反射ミラー７３ｂ１・７３ｂ２にて反射されたビームＬｂを、透過して画像形成ステーションＰｂにおける感光体ドラム１４２の表面（照射面）に導く。第２Ｆθレンズ７２ｃは、第１Ｆθレンズ７１を透過し、反射ミラー７３ｃ１・７３ｃ２にて反射されたビームＬｃを、透過して画像形成ステーションＰｃにおける感光体ドラム１４２の表面（照射面）に導く。第２Ｆθレンズ７２ｄは、第１Ｆθレンズ７１を透過し、反射ミラー７３ｄにて反射されたビームＬｄを、透過して画像形成ステーションＰｄにおける感光体ドラム１４２の表面（照射面）に導く。

以上のように、光走査装置１０においては、ポリゴンミラー５１の回転する各反射面５１ｒによって反射されたビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれが、筐体２０内の各光路に沿って進行して、画像形成ステーションＰａ・Ｐｂ・Ｐｃ・Ｐｄのそれぞれの各感光体ドラム１４２の表面に繰り返し走査方向（Ｘ方向）へ走査される。そして、各感光体ドラム１４２が回転することにより、各感光体ドラム１４２の表面に静電潜像が形成される。

次に、図５を用いて、ビームが第２Ｆθレンズを透過する際に発生する迷光について説明する。図５は、比較例に係る光走査装置において、ビームの照射面に迷光が照射されている様子を表す図である。なお、図５において、ビームＬｚの光路における、第１Ｆθレンズ７１ｚ及び第２Ｆθレンズ７２ｚ間に設けられる各反射ミラーは省略している。

光源部から出射されたビームＬｚは、軸部Ｇｚを回転中心として回転するポリゴンミラー５１ｚが有する反射面５１ｒｚによって反射される。反射面５１ｒｚによって反射されたビームＬｚは、第１Ｆθレンズ７１ｚを透過し、第２Ｆθレンズ７２ｚへ導かれる。第２Ｆθレンズ７２ｚに導かれたビームＬｚの大部分は第２Ｆθレンズ７２ｚを透過し、ビームＬｚが照射される、感光体ドラム１４２ｚの表面である照射面１４２ｚａに照射される。

ここで、例えば、第２Ｆθレンズ７２ｚの両主面のうち照射面１４２ｚａに近い側の曲面である面Ｆ７２ｚは、第１Ｆθレンズ７１ｚの曲面よりも曲率が小さく、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒの方向へ光が反射しすい状態となっている。このため、ビームＬｚが第２Ｆθレンズ７２ｚに入射して面Ｆ７２ｚを透過する際に、ビームＬｚの一部が面Ｆ７２ｚにより反射されて発生した迷光４０ｚが、再び、第１Ｆθレンズ７１ｚを透過してポリゴンミラー５１ｚにおける反射面５１ｒｚにて反射されて、再度、第１Ｆθレンズ７１ｚを透過し、さらに、第２Ｆθレンズ７２ｚを透過して、ビームＬｚが照射される照射面１４２ｚａ内に照射されやすい。このように、迷光４０ｚが、照射面１４２ｚａ内に照射されると、迷光４０ｚが照射された箇所が帯状に高濃度になる等、感光体ドラム１４２ｚによって形成される画像の品質を低下させる原因となる。

次に、図６から図８を用いて、本実施形態に係る光走査装置１０が迷光を遮光する構造について説明する。図６は、実施形態に係る光走査装置１０において、迷光が遮光されている様子を表す図である。図７は、実施形態に係る光走査装置１０において、ビームＬの偏光方向が変化する様子を表す図である。図８は、実施形態に係る光走査装置１０において、迷光４０の偏光方向が変化する様子を表す図である。

なお、図６及び図７に示すように、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄ（図４）を区別せず、単に、ビームＬとして説明する。また、図６に示すように、第２Ｆθレンズ７２ａ・７２ｂ・７２ｃ・７２ｄ（図４）を区別せず、単に、第２Ｆθレンズ７２として説明する。また、図６から図８において、ビームＬの光路における、第１Ｆθレンズ７１及び第２Ｆθレンズ７２間に設けられる各反射ミラーは省略している。

図６及び図７に示すように、一例として、ビームＬはＳ偏光であるものとする。例えば、ポリゴンミラー５１へ近づく方向へ進行するビームＬの偏光方向Ｄ１は、鉛直方向に対して平行であるものとする。なお、ビームＬの偏光方向はＳ偏光に限定されず、例えば、偏光方向が水平方向に平行なＰ偏光など、他の偏光方向であってもよい。

偏光板３１は、偏光方向が透過軸Ｄ３１に平行な光を透過し、偏光方向が透過軸Ｄ３１に平行ではない光を反射する。透過軸Ｄ３１は、偏光板３１が透過させる光の偏光方向（言い換えると振動方向）を表す。本実施形態においては、一例として、偏光板３１は、Ｓ偏光の光を透過しＰ偏光の光を反射するものとして説明する。例えば、偏光板３１は、透過軸Ｄ３１が、偏光板３１に入射してくるビームＬの偏光方向Ｄ１に対して平行になるように設けられている。なお、例えば、偏光板３１は、Ｐ偏光の光を透過しＳ偏向の光を反射してもよい。

λ／４波長板３２は、入射してくる光の位相を４５度シフトさせる。例えば、λ／４波長板３２は、Ｓ偏光の光の位相を４５度シフトさせる。または、例えば、λ／４波長板３２は、Ｐ偏光の光の位相を４５度シフトさせる。すなわち、λ／４波長板３２は、例えば、Ｓ偏光の光を２回透過させると偏光方向をＳ偏光からＰ偏光へ変化させ、また、Ｐ偏光の光を２回透過させると偏光方向をＰ偏光からＳ偏光へ変化させる。例えば、λ／４波長板３２は、透過軸（高速軸または低速軸）Ｄ３２が、偏光板３１の透過軸Ｄ３１に対して平行になるように設けられている。

ビームＬがポリゴンミラー５１に照射されると、軸部Ｇを回転中心として回転するポリゴンミラー５１が有する反射面５１ｒにて反射される。反射面５１ｒにて反射されたビームＬは、第１Ｆθレンズ７１を透過し、偏光板３１に入射する。

偏光板３１を透過する直前のＳ偏光であるビームＬの偏光方向Ｄ１と、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは互いに平行であるため、偏光板３１に入射したＳ偏光であるビームＬは偏光板３１を透過する。偏光板３１を透過し、λ／４波長板３２に入射する直前のＳ偏光であるビームＬの偏光方向Ｄ１と、λ／４波長板３２の透過軸Ｄ３２とは互いに平行であるため、λ／４波長板３２を透過したビームＬの偏光方向Ｄ２は、λ／４波長板３２を透過する前のＳ偏光である偏光方向Ｄ１からλ／４だけずれて、Ｓ偏光＋４５度へ変化する。そして、λ／４波長板３２を透過し、Ｓ偏光＋４５度である偏光方向Ｄ２へ変化したビームＬは、第２Ｆθレンズ７２に入射する。第２Ｆθレンズ７２に入射したビームＬは、大部分が、第２Ｆθレンズ７２ｚの両主面のうち照射面１４２ｚａに近い側の曲面である面Ｆ７２を透過し、感光体ドラム１４２の表面である、ビームＬの照射面１４２ａに照射される。

ここで、上述のように、第２Ｆθレンズ７２の両主面のうち照射面１４２ａに近い側の曲面である面Ｆ７２は、第１Ｆθレンズ７１の曲面よりも曲率が小さく、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒの方向へ光が反射しすい状態となっている。このため、ビームＬが第２Ｆθレンズ７２に入射して面Ｆ７２を透過する際に、ビームＬの一部が面Ｆ７２により反射されて発生した迷光４０は、面Ｆ７２から、再び、ポリゴンミラー５１へ向かう方向へ進行する。

ここで、図６及び図８に示すように、面Ｆ７２により反射された迷光４０の偏光方向Ｄ３は、例えば、Ｓ偏光＋４５度である偏光方向Ｄ２と一致するものとする。上述のように、面Ｆ７２にて反射された迷光４０は、ポリゴンミラー５１へ向かう方向へ進行し、再び、λ／４波長板３２を透過する。λ／４波長板３２を透過した迷光４０の偏光方向Ｄ４は、λ／４波長板３２を透過する前のＳ偏光＋４５度である偏光方向Ｄ３から、さらにλ／４だけずれてＰ偏光へ変化する。そして、λ／４波長板３２を透過することでＰ偏光である偏光方向Ｄ４へ変化した迷光４０は、偏光板３１へ至る。しかし、λ／４波長板３２を透過して偏光板３１へ至ったＰ偏光である迷光４０の偏光方向Ｄ４は、Ｓ偏光の光を透過させる偏光板３１の透過軸Ｄ３１に対して平行ではないため、迷光４０は偏光板３１によって遮光されて、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒへ至ることが防止される。例えば、Ｐ偏光である偏光方向Ｄ４の迷光４０は、Ｓ偏光の光を透過させる偏光板３１によって、照射面１４２ａとは異なる方向へ反射され、照射面１４２ａには照射されない。

このように、本実施形態に係る光走査装置１０によると、ビームＬの光路における、ポリゴンミラー５１から第２Ｆθレンズ７２へ至るまでの位置に、光学部材３０が設けられている。そして光学部材３０は、偏光板３１と、λ／４波長板３２とを有し、偏光板３１と、λ／４波長板３２とは、この順に、ビームＬの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。これにより、ビームＬが反射しやすい面Ｆ７２にてビームＬの一部が反射して迷光４０が発生しても、λ／４波長板３２を透過した迷光４０の偏光方向Ｄ４は、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは平行ではないため、迷光４０は偏光板３１によって遮光され、照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。このように、本実施形態に係る光走査装置１０によると、偏光板３１及びλ／４波長板３２が、何らかの原因で、多少、ビームＬの光路方向に位置がずれたとしても、偏光板３１によって迷光４０を遮光することができる。このため、光走査装置１０によると、偏光板３１及びλ／４波長板３２の位置を比較的精密に調整しなくてもよく、より安定して、ビームＬが照射される照射面１４２ａに迷光が照射されることを抑制することができる。

また、図１に示した画像形成装置１００は、光走査装置１０と、ビームＬが照射される感光体ドラム１４２とを有するため、迷光４０が、照射面１４２ａである感光体ドラム１４２の表面に照射されることを抑制することができる。これにより、感光体ドラム１４２によって形成される画像の品質が低下することを抑制することができる。本実施形態に係る画像形成装置１００によると、偏光板３１及びλ／４波長板３２が、何らかの原因で、多少、ビームＬの光路方向に位置がずれたとしても、偏光板３１によって迷光４０を遮光することができる。このため、より安定して、ビームＬが照射される照射面１４２ａに迷光が照射されることを抑制することができる。

また、上述のように、偏光板３１を透過する前のビームＬの偏光方向Ｄ１と、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは平行であるため、ビームＬは偏光板３１を透過するが、偏光板３１を透過した後、照射面１４２ａにて発生した迷光４０の偏光方向Ｄ４は、偏光板３１に対してビームＬの進行方向前方に設けられたλ／４波長板３２を透過することにより、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは平行ではない方向となる。このように、より確実に、迷光４０の偏光方向Ｄ４が、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは平行ではない方向にすることができ、偏光板３１によって迷光４０を遮光することができる。この結果、より確実に、迷光４０が照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。

また、光学部材３０は、ビームＬの光路における、ポリゴンミラー５１と第１Ｆθレンズ７１との間に設けられていてもよいが、第１Ｆθレンズ７１と第２Ｆθレンズ７２との間に設けられていることが好ましい。ポリゴンミラー５１は、軸部Ｇを回転中心として高速回転しているため、近くに構造物を配置すると、ポリゴンミラー５１の回転により発生する気流が乱れて、騒音の原因となる場合がある。このため、上述のように、光学部材３０を、ビームＬの光路における、第１Ｆθレンズ７１と第２Ｆθレンズ７２との間に設けることにより、光学部材３０を、ポリゴンミラー５１から比較的離して設けることになり、光学部材３０に起因してポリゴンミラー５１の回転による騒音の発生を抑制することができる。

また、図３、図４、図６に示すように、光学部材３０は、複数の光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄのそれぞれが出射するビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に共通して設けられていてもよい。これにより、１つの光学部材３０を設けることによって、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの迷光４０が照射面１４２ａに照射されることを抑制することができるため、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの光路毎に光学部材を設けなくてもよく、光学部材３０の個数が少なくて済み、光学部材３０を設けることによるコスト増加を抑制することができる。

また、図３、図４、図６に示すように、光学部材３０は、偏光板３１が第１Ｆθレンズ７１と直接対向するように設けられていてもよい。これにより、光学部材３０を、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に共通して設けることができることに加え、ポリゴンミラー５１に比較的近いため、ポリゴンミラー５１に反射された直後のビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの広がりが比較的小さく、光学部材３０に必要な面積を小さくすることができる。これにより、さらに、光学部材３０を設けることによるコスト増加を抑制することができる。

図９は、実施形態の変形例１に係る光走査装置１０の縦断面図である。図９に示す光走査装置１０のように、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの光路毎に設けられた複数の光学部材を有していてもよい。光走査装置１０は、光学部材３０ａ・３０ｂ・３０ｃ・３０ｄを有する。

光学部材３０ａは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬａの光路にのみ設けられており、偏光板３１ａと、λ／４波長板３２ａとを有する。偏光板３１ａと、λ／４波長板３２ａとは、この順に、ビームＬａの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。例えば、光学部材３０ａは、ビームＬａの光路において、λ／４波長板３２ａが第２Ｆθレンズ７２ａと直接対向するように設けられている。

光学部材３０ｂは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬｂの光路にのみ設けられており、偏光板３１ｂと、λ／４波長板３２ｂとを有する。偏光板３１ｂと、λ／４波長板３２ｂとは、この順に、ビームＬｂの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。例えば、光学部材３０ｂは、ビームＬａの光路において、λ／４波長板３２ｂが第２Ｆθレンズ７２ｂと直接対向するように設けられている。

光学部材３０ｃは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬｃの光路にのみ設けられており、偏光板３１ｃと、λ／４波長板３２ｃとを有する。偏光板３１ｃと、λ／４波長板３２ｃとは、この順に、ビームＬｃの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。例えば、光学部材３０ｃは、ビームＬｃの光路において、第１Ｆθレンズ７１と反射ミラー７３ｃ１との間に設けられている。

光学部材３０ｄは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬｄの光路にのみ設けられており、偏光板３１ｄと、λ／４波長板３２ｄとを有する。偏光板３１ｄと、λ／４波長板３２ｄとは、この順に、ビームＬｄの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。例えば、光学部材３０ｄは、ビームＬｄの光路において、λ／４波長板３２ｄが第２Ｆθレンズ７２ｄと直接対向するように設けられている。

このように、複数の光学部材３０ａ・３０ｂ・３０ｃ・３０ｄのそれぞれは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの光路毎に個別に設けられていてもよい。これにより、例えば、迷光４０の反射角度を光学部材３０ａ・３０ｂ・３０ｃ・３０ｄのそれぞれ毎に微調整するなど、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの迷光４０の発生具合に応じて、光学部材３０ａ・３０ｂ・３０ｃ・３０ｄの位置又は大きさ等を調整することができる。これにより、より確実に、迷光４０が、照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。

また、図９においては、全てのビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄの光路に、光学部材３０ａ・３０ｂ・３０ｃ・３０ｄの何れかが設けられている例を示している。これにより、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのいずれに迷光４０が発生しても、確実に、迷光４０が照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。

図１０は、実施形態の変形例２に係る光走査装置１０の縦断面図である。図１０に示す光走査装置１０のように、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのそれぞれの光路のうち一部の光路にのみ設けられた光学部材を有していてもよい。

光走査装置１０は、光学部材３０ｄを有する。なお、図１０に示す例においては、光走査装置１０は、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃのそれぞれの光路には、光学部材は設けられていない。

光学部材３０ｄは、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬｄの光路にのみ設けられており、偏光板３１ｄと、λ／４波長板３２ｄとを有する。偏光板３１ｄと、λ／４波長板３２ｄとは、この順に、ビームＬｄの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている。例えば、光学部材３０ｄは、ビームＬｄの光路において、λ／４波長板３２ｄが第２Ｆθレンズ７２ｄと直接対向するように設けられている。

例えば、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・ＬｄのうちビームＬｄのみ、迷光４０が照射面１４２ａへ照射され、他のビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄは迷光４０が発生しないか、または、迷光４０が発生しても照射面１４２ａに迷光４０が照射されない場合、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃの光路に光学部材を設けなくてもよい。

この光学部材３０ｄのように、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのうち、一部の光源部が出射するビームの光路にのみ設けられていてもよい。これにより、ビームＬａ・Ｌｂ・Ｌｃ・Ｌｄのうち、迷光４０が発生して照射面１４２ａに照射されるビームの光路にのみ、光学部材を設けることにより、効率よく、光学部材を設けて、迷光４０に起因する画像の品質の低下を抑制することができる。

図１０に示す例では、光学部材３０ｄは、λ／４波長板３２ｄが第２Ｆθレンズ７２ｄと直接対向するように設けられている。これにより、光学部材３０ｄは、迷光４０が発生しやすい第２Ｆθレンズ７２ｄに比較的近いため、迷光４０が照射面１４２ａに照射されないように偏光板３１ｄ及びλ／４波長板３２ｄの角度等の位置決めがしやすい。

図１１は、実施形態の変形例３に係る光源部の概略構成を表す図である。図１２は、実施形態の変形例３に係る光源部によってビームが照射される照射面の様子を表す図である。図１１において、光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄ（図３）を区別せず、単に、光源部６１として説明する。

図１１及び図１２に示すように、光源部６１に示すように、光源部６１ａ・６１ｂ・６１ｃ・６１ｄの全てまたは何れかは、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４を有してもよい。発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４は、それぞれがビームＬを出射する光源である。そして、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれがビームＬを照射面１４２ａに照射する領域を照射領域ＬＡ１・ＬＡ２・ＬＡ３・ＬＡ４とする。発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが照射すべき照射領域ＬＡ１・ＬＡ２・ＬＡ３・ＬＡ４の副走査方向（Ｙ方向）のピッチＰｙは予め決まっている。

しかし、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が並ぶ方向を方向ＥＤとすると、方向ＥＤにおける、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４それぞれ間のピッチＰｅは、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが照射すべき照射領域ＬＡ１・ＬＡ２・ＬＡ３・ＬＡ４のそれぞれ間の副走査方向（Ｙ方向）の予め決められた所定通りのピッチＰｙとは一致しない場合がある。この場合、照射領域ＬＡ１・ＬＡ２・ＬＡ３・ＬＡ４のそれぞれ間の副走査方向（Ｙ方向）のピッチが所定通りのピッチＰｙとなるように、光源部６１は、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が並ぶ方向を方向ＥＤが鉛直方向ＶＤに対して角度αだけ傾くように回転させて設置される。これにより、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが照射面１４２ａに照射する照射領域ＬＡ１・ＬＡ２・ＬＡ３・ＬＡ４の副走査方向のピッチを、所定通りのピッチＰｙとすることができる。

ここで、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射するビームＬの偏光方向は、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が並ぶ方向ＥＤに対して平行であるとする。光源部６１を回転させて設置する場合、偏光板３１及びλ／４波長板３２のそれぞれの透過軸Ｄ３１・Ｄ３２の角度も、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射するビームＬの偏光方向に合わせる必要がある。

図１３は、実施形態の変形例３に係る光走査装置１０における、ビームＬの偏光方向と、偏光板及びλ／４波長板のそれぞれの透過軸との関係を表す図である。図１４は、実施形態の変形例３に係る光走査装置１０における、迷光４０の偏光方向と、偏光板及びλ／４波長板それぞれの透過軸との関係を表す図である。

図１３及び図１４に示すように、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射するビームＬの偏光方向Ｄ１は、鉛直方向ＶＤに対して角度αだけ傾斜しているとする。すると、偏光板３１は、透過軸Ｄ３１が、偏光板３１に入射してくるビームＬの偏光方向Ｄ１に対して平行になるように設けられている。例えば、偏光板３１は、透過軸Ｄ３１が、鉛直方向ＶＤに対して角度αだけ傾斜するように設けられている。また、例えば、λ／４波長板３２は、透過軸Ｄ３２が、偏光板３１の透過軸Ｄ３１に対して平行になるように設けられている。例えば、λ／４波長板３２は、透過軸Ｄ３２が、鉛直方向ＶＤに対して角度αだけ傾斜するように設けられている。

これにより、発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれから出射されて、ポリゴンミラー５１の反射面５１ｒによって反射されたビームＬは、偏光方向Ｄ１に対して透過軸Ｄ３１が平行となるように設けられた偏光板３１を透過し、λ／４波長板３２を透過したビームＬの偏光方向Ｄ２は、λ／４波長板３２を透過する前の偏光方向Ｄ１からλ／４だけずれる。そして、λ／４波長板３２を透過した、偏光方向Ｄ２であるビームＬは、大部分が、第２Ｆθレンズ７２ｚにおける面Ｆ７２を透過し、感光体ドラム１４２の表面である、ビームＬの照射面１４２ａに照射される。

また、面Ｆ７２により反射された迷光４０は、例えば、偏光方向Ｄ２と一致する偏光方向Ｄ３から、λ／４波長板３２を透過することでさらにλ／４だけずれて偏光方向Ｄ４となる。偏光方向Ｄ４であるでビームＬが偏光板３１へ至っても、偏光方向Ｄ４は、偏光板３１の透過軸Ｄ３１に対して平行ではないため、迷光４０は偏光板３１によって遮光される。例えば、偏光方向Ｄ４である迷光４０は、偏光板３１によって、照射面１４２ａとは異なる方向へ反射され、照射面１４２ａには照射されない。

このように、少なくとも１つの光源部は、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４を有してもよい。複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４は、それぞれがビームＬを出射する光源である。そして、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射するビームＬの偏光方向Ｄ１は互いに平行であることが好ましい。これにより、１つの光源部に、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が設けられた構成であっても、偏光板３１及びλ／４波長板３２を設けることにより、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射したビームＬに発生する迷光４０を、偏光板３１によって遮光することができる。この結果、迷光４０が照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。

また、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が並ぶ方向ＥＤは鉛直方向ＶＤに対して傾斜しており、偏光板３１及びλ／４波長板３２のそれぞれの透過軸Ｄ３１・Ｄ３２は、鉛直方向ＶＤに対して傾斜しており、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４のそれぞれが出射するビームＬの偏光方向Ｄ１に対して平行であることが好ましい。

これにより、１つの光源部に、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が設けられた構成であっても、各発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４から出射される、偏光板３１を透過する前のビームＬの偏光方向Ｄ１と、偏光板３１の透過軸Ｄ３１及びλ／４波長板３２の透過軸Ｄ３２とは平行であるため、ビームＬは偏光板３１を透過してλ／４波長板３２を透過することにより、偏光方向Ｄ２は、偏光板を透過する前の偏光方向Ｄ１からλ／４だけずれる。そして、照射面１４２ａにて発生した、迷光４０は、再びλ／４波長板３２を透過することにより、λ／４波長板３２を透過する前の偏光方向Ｄ３からλ／４だけずれて偏光方向Ｄ４となる。偏光方向Ｄ４は、偏光板３１の透過軸Ｄ３１とは平行ではないため、迷光４０を、偏光板３１によって遮光することができる。この結果、１つの光源部に、複数の発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が設けられた構成においても、各発光素子Ｅ１・Ｅ２・Ｅ３・Ｅ４が出射するビームＬに起因して発生する迷光４０が、照射面１４２ａに照射されることを抑制することができる。

なお、前述した実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。

１０：光走査装置、２０：筐体、３０・３０ａ～３０ｄ：光学部材、３１・３１ａ～３１ｄ：偏光板、３２・３２ａ～３２ｄ：波長板、４０・４０ｚ：迷光、５０：ポリゴンミラーユニット、５１・５１ｚ：ポリゴンミラー（反射部材）、５１ｒ・５１ｒｚ：反射面、６１・６１ａ～６１ｄ：光源部、６２ａ～６２ｄ：コリメータレンズ、６３ａ～６３ｄ：第１ミラー、６４：シリンドリカルレンズ、６５：第２ミラー、７１・７１ｚ：第１Ｆθレンズ、７２・７２ａ～７２ｄ・７２ｚ：第２Ｆθレンズ、７３ａ１・７３ａ２：反射ミラー、７３ｂ１・７３ｂ２：反射ミラー、７３ｃ１・７３ｃ２：反射ミラー、７３ｄ：反射ミラー、１００：画像形成装置、１４２・１４２ｚ：感光体ドラム、１４２ａ・１４２ｚａ：照射面、２１３：ポリゴンミラー収容部、Ｄ１～Ｄ４：偏光方向、Ｄ３１：透過軸、Ｄ３２：透過軸、Ｅ１～Ｅ４：発光素子、Ｆ７２・Ｆ７２ｚ：面、Ｇ・Ｇｚ：軸部、Ｌ・Ｌａ～Ｌｄ・Ｌｚ：ビーム、Ｐａ～Ｐｄ：画像形成ステーション

Claims (11)

1. ビームを出射する少なくとも１つの光源部と、
   回転移動が可能な反射面を有し、前記少なくとも１つの光源部から出射された前記ビームを前記反射面にて反射させる反射部材と、
   前記反射面によって反射された前記ビームを透過する第１Ｆθレンズと、
   前記第１Ｆθレンズを透過した前記ビームを透過させることで、前記ビームを照射面に導く少なくとも１つの第２Ｆθレンズと、
   前記ビームの光路における、前記反射部材から前記少なくとも１つの第２Ｆθレンズへ至るまでの位置に設けられた少なくとも１つの光学部材と、を備え、
   前記少なくとも１つの光学部材は、偏光板と、λ／４波長板とを有し、前記偏光板と、前記λ／４波長板とは、この順に前記ビームの進行方向に沿って並び、互いに対向するように設けられている光走査装置。
2. 前記偏光板を透過する前の前記ビームの偏光方向と、前記偏光板の透過軸とは平行である、請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記少なくとも１つの光学部材は、前記ビームの光路における、第１Ｆθレンズと第２Ｆθレンズとの間に設けられている請求項１または２に記載の光走査装置。
4. 前記少なくとも１つの光源部は、複数の光源部を含み、
   前記少なくとも１つの光学部材は１つの光学部材により構成されており、
   前記１つの光学部材は、前記複数の光源部のそれぞれが出射する前記ビームの光路に共通して設けられている請求項１または２に記載の光走査装置。
5. 前記少なくとも１つの光学部材は、前記偏光板が前記第１Ｆθレンズと直接対向するように設けられている、請求項１または２に記載の光走査装置。
6. 前記少なくとも１つの光源部は、複数の光源部を含み、
   前記少なくとも１つの光学部材は、複数の光学部材を含み、
   前記複数の光学部材のそれぞれは、前記複数の光源部のそれぞれが出射する前記ビームの光路毎に個別に設けられている請求項１または２に記載の光走査装置。
7. 前記少なくとも１つの光源部は、複数の光源部を含み、
   前記少なくとも１つの光学部材は、前記複数の光源部のうち、一部の光源部が出射する前記ビームの光路にのみ設けられている請求項１または２に記載の光走査装置。
8. 前記少なくとも１つの光学部材は、前記λ／４波長板が前記少なくとも１つの第２Ｆθレンズと直接対向するように設けられている、請求項１または２に記載の光走査装置。
9. 前記少なくとも１つの光源部は、それぞれが前記ビームを出射する複数の発光素子を有し、
   前記複数の発光素子のそれぞれが出射する前記ビームの偏光方向は互いに平行である、請求項１または２に記載の光走査装置。
10. 前記複数の発光素子が並ぶ方向は鉛直方向に対して傾斜しており、
    前記偏光板及び前記λ／４波長板のそれぞれの透過軸は、前記鉛直方向に対して傾斜しており、前記複数の発光素子のそれぞれが出射する前記ビームの偏光方向に対して平行である、請求項１に記載の光走査装置。
11. 請求項１または２に記載の光走査装置と、前記ビームが照射される感光体ドラムとを有する画像形成装置。

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