JP2021078199A - ステージ装置、像ぶれ補正装置及び撮像装置 - Google Patents

Abstract

【課題】可動部の並進駆動と回転駆動が可能であり、低電力での中央保持と駆動が可能なステージ装置を提供する。【解決手段】ステージ装置１０４は、ベースユニットに対してＸＹ平面内で移動可能に配置されたシフトユニットを備える。ベースユニットは、Ｘ軸に垂直なＸ１，Ｘ２平面とＹ軸に垂直なＹ１，Ｙ２平面のそれぞれにコイル２１ＸＣ、２２ＸＣ、２３ＸＣ、２４ＸＣとベース磁石２１Ｘ、２２Ｘ、２３Ｘ、２４Ｘを備え、シフトユニットはベース磁石３１Ｘ、３２Ｘ、３３Ｘ、３４Ｘと対向するシフト磁石を備える。ベース磁石とシフト磁石との磁石対向部に発生する力でベースユニットに対してシフトユニットを中央保持させる。Ｘ１，Ｘ２、Ｙ１，Ｙ２平面のうち少なくとも１つの平面において磁石対向部を少なくとも２箇所に設ける。所定のベース磁石を減磁するようにコイルを駆動することにより、シフトユニットを中央保持、並進、回転させる。【選択図】図５

Description

本発明は、ステージ装置、像ぶれ補正装置及び撮像装置に関する。

近時、デジタルカメラの多くは、撮影時の手ぶれ等による像ぶれを補正する像ぶれ補正装置を備えている。像ぶれ補正装置として、デジタルカメラの本体シャーシに固定された固定部に対して、撮像素子を実装した可動部を入射光軸と直交する面内で移動させるステージ装置を用いたものが知られている。例えば、手ぶれによる像ぶれを補正する場合には、デジタルカメラの手ぶれをジャイロセンサ等で検出し、検出情報に基づいて撮影者の意図しない手ぶれ量を求める。そして、手ぶれ量をキャンセル（相殺）するための可動部の移動量を決定し、デジタルカメラの動きに合わせてステージ装置の可動部を駆動する。可動部の駆動は、可動部に設けられた駆動部への、制御された電力の供給により行われる。

一方、像ぶれ補正を行わない場合には、常時、撮像レンズへの入射光束の中心と撮像素子の中心とを一致させる必要がある。しかし、従来のステージ装置は、撮像素子の中心と入射光束の中心を定常的に一致させる構成を備えていない。そのため、撮像素子の中心を入射光束の中心に合わせた状態で保持（以下「中央保持」という）するために、ステージ装置の駆動部を駆動している。つまり、像ぶれ補正を行わない場合であっても、撮像素子を中央保持するためにステージ装置の駆動部が電力を消費する。その結果、例えば、１個のバッテリでの撮影可能画像数が減り、また、稼働可能な時間が短くなる等の問題が生じる。

このような問題に対して、像ぶれ補正を行わない場合の駆動部による電力消費を低減させる技術が特許文献１に開示されている。特許文献１に開示されたステージ装置では、固定部又は可動部の４辺に沿って各辺に永久磁石を配置し、他方に電磁石を配置して、磁路を形成している。そして、各磁路上に電磁石を構成するコイルを１つずつ配置し、コイルへの通電により各磁路における吸引力を変化させることで、可動部の移動を可能としている。こうして、４方向からの吸引力を釣り合わせることにより、可能部の被駆動時には可動部の中央保持に必要な駆動力を低減させることができため、電力消費を低減させることが可能となる。

特許第５０８４３０８号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載されたステージ装置では、各磁路の吸引力を変化させても可動部にモーメントが発生しないため、可動部に並進運動を生じさせることは可能であっても、回転運動を生じさせることができない。また、可動部の並進駆動時には中央保持時よりも固定部と可動部が接近する。ここで、二物体間に働くクーロン力は、距離の二乗に比例して増加することが知られている。よって、可動部の中央保持のために必要な電力を削減することはできるが、可動部の並進駆動時には中央保持時よりも消費電力が大きくなってしまう。

本発明は、可動部の並進駆動と回転駆動が可能であり、且つ、低電力での中央保持と駆動が可能なステージ装置を提供することを目的とする。

本発明に係るステージ装置は、ベースユニットと、前記ベースユニットに対して第１の平面内で移動可能に配置されたシフトユニットと、を備えるステージ装置であって、前記ベースユニットは、前記第１の平面に垂直な第２の平面、前記第１の平面および前記第２の平面に垂直な第３の平面、前記第２の平面と平行な第４の平面、前記第３の平面と平行な第５の平面のそれぞれの平面に磁極面を有する複数の第１の永久磁石と、前記複数の第１の永久磁石を保持する１または複数のベース磁性体と、を有し、前記シフトユニットは、前記複数の第１の永久磁石のそれぞれと対向する第２の永久磁石と、複数の前記第２の永久磁石を保持する１または複数のシフト磁性体と、を有し、前記第２の平面、前記第３の平面、前記第４の平面および前記第５の平面のうち少なくとも１つの平面において前記第１の永久磁石と前記第２の永久磁石とが対向する対向部が少なくとも２箇所に設けられ、前記対向部のそれぞれに少なくとも１つのコイルが前記ベース磁性体または前記シフト磁性体に設けられていることを特徴とする。

本発明によれば、可動部の並進駆動と回転駆動が可能であり、且つ、低電力での中央保持と駆動が可能なステージ装置を提供することができる。

デジタルカメラの構成を示す図である。 第１実施形態に係る像ぶれ補正装置の構成を示す分解斜視図である。 第１実施形態に係る像ぶれ補正装置の背面図である。 図３に示す矢視Ａ−Ａでの断面図である。 第１実施形態に係るステージ装置の磁路の構成を説明する背面図である。 デジタルカメラでの撮影処理のフローチャートである。 第２実施形態に係るステージ装置の磁路の構成を説明する背面図である。 第２実施形態に係るステージ装置での撮像素子への流入磁束を説明する図である。 第３実施形態に係るステージ装置の磁路の構成を説明する背面図である。 第４実施形態に係るステージ装置の磁路の構成を説明する背面図である。

以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。ここでは、本発明に係るステージ装置を、撮像装置（具体的にはデジタルカメラ）の像ぶれ補正装置に適用した例について説明する。

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の実施形態に係るデジタルカメラ１００の概略構成を説明する図である。デジタルカメラ１００は、本体シャーシ１０１、撮像レンズ１０２、撮像素子ユニット１０３、ステージ装置１０４、電子ビューファインダ１０５、背面液晶１０６、制御基板１０７、バッテリ１０８、ジャイロセンサ１０９及びレリーズボタン１１０を備える。

なお、説明の便宜上、図１に示すように互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を規定する。Ｚ軸は入射光軸（撮像レンズ１０２の光軸）と平行な軸である。Ｙ軸は、Ｚ軸が水平方向と平行であるときに鉛直方向と平行となる軸であり、デジタルカメラ１００の高さ方向を表す軸である。Ｘ軸は、Ｙ軸及びＺ軸と直交する軸であり、デジタルカメラ１００の幅方向を表す軸である。なお、撮像素子ユニット１０３を構成する撮像素子３００（図２参照）の撮像面と入射光軸との接点を座標原点とする。

本体シャーシ１０１に取り付けられた撮像レンズ１０２を介した入射光束は、撮像素子ユニット１０３に結像する。撮像素子ユニット１０３は、被写体の光学像を電気信号に変換してデジタルデータ化する撮像素子３００と、撮像素子３００を保持する撮像素子基板３０１を有する（図２参照）。撮像素子ユニット１０３とステージ装置１０４によって像ぶれ補正装置が構成される。ステージ装置１０４は、本体シャーシ１０１に固定されている。像ぶれ補正装置の詳細については後述する。

デジタルデータ化された光学像は、本体シャーシ１０１に備えられた電子ビューファインダ１０５又は背面液晶１０６に表示される。これにより、撮影者は光学像を、常時、視認することができる。光学像のデジタルデータ化や像ぶれ補正装置の駆動制御等は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等の種々の電子部品を実装した制御基板１０７（制御部）によって行われる。像ぶれ補正装置での撮像素子ユニット１０３の駆動方向や駆動量は、本体シャーシ１０１に設けられたジャイロセンサ１０９からの入力に基づいて決定される。バッテリ１０８は、デジタルカメラ１００の動作に必要な電力をデジタルカメラ１００の各部に供給する。なお、本体シャーシ１０１には操作部材としてのレリーズボタン１１０が備えられている。

図２は、像ぶれ補正装置の構成を示す分解斜視図である。図３は、像ぶれ補正装置の背面図である。図４は、図３に示す矢視Ａ−Ａでの断面図である。図５は、ステージ装置１０４の磁路の構成を説明する背面図である。

像ぶれ補正装置を構成するステージ装置１０４は、大略的に、本体シャーシ１０１に固定されるベースユニット２と、ベースユニット２に対してＸＹ平面（第１の平面）内で移動可能に配置されるシフトユニット３から構成される。ベースユニット２は、第１ベース固定部材２００Ａ、第２ベース固定部材２００Ｂ、第１ベースユニット磁路２１、第２ベースユニット磁路２２、第３ベースユニット磁路２３及び第４ベースユニット磁路２４を有する。シフトユニット３は、シフト固定部材３０２、第１シフトユニット磁路３１、第２シフトユニット磁路３２、第３シフトユニット磁路３３及び第４シフトユニット磁路３４を有する。

シフト固定部材３０２に撮像素子基板３０１が固定されることで、撮像素子ユニット１０３とステージ装置１０４により像ぶれ補正装置が構成されている。撮像素子３００は、Ｘ軸方向に走査を行うものであり、撮像素子基板３０１に対して電気的に接続され、且つ、固定されている。

第１ベース固定部材２００Ａには複数の凹部が形成されており、それぞれの凹部に転動体４００Ａが配置され、それぞれの転動体４００Ａは第１ベース固定部材２００Ａの凹部とシフト固定部材３０２との間に挟持されている。同様に、第２ベース固定部材２００Ｂには複数の凹部が形成されており、それぞれの凹部に転動体４００Ｂが配置され、それぞれの転動体４００Ｂは第２ベース固定部材２００Ｂ凹部とシフト固定部材３０２との間に挟持されている。更に、第１ベース固定部材２００Ａと第２ベース固定部材２００Ｂは、ＸＹ平面内の四隅に配置された凸部で接触固定されている。こうして、シフト固定部材３０２は、転動体４００Ａと転動体４００Ｂを介して第１ベース固定部材２００Ａと第２ベース固定部材２００Ｂに挟まれた状態となっている。

第１ベースユニット磁路２１、第２ベースユニット磁路２２、第３ベースユニット磁路２３及び第４ベースユニット磁路２４は、第２ベース固定部材２００Ｂに固定されている。これらの磁路を構成する、以下に説明する複数のベース磁石のすべてが永久磁石（第１の永久磁石）である。

第１ベースユニット磁路２１は、Ｘ軸に垂直なＸ１平面（第２の平面）上にＳ極面２１ＸＳを有するＸ１ベース磁石２１Ｘと、Ｙ軸に垂直なＹ１平面（第３の平面）上にＮ極面２１ＹＮを有するＹ１ベース磁石２１Ｙを有する。Ｘ１ベース磁石２１ＸとＹ１ベース磁石２１Ｙは、第１ベース磁性体２１１により接続されている。第１ベース磁性体２１１の比透磁率は、例えば、１００程度である。第１ベースユニット磁路２１は、Ｘ１ベース磁石２１Ｘと隣接し、且つ、第１ベース磁性体２１１が芯となるように設けられたＸ１コイル２１ＸＣを備える。更に、第１ベースユニット磁路２１は、Ｙ１ベース磁石２１Ｙと隣接し、且つ、第１ベース磁性体２１１が芯となるように設けられたＹ１コイル２１ＹＣを備える。

第２ベースユニット磁路２２は、第１ベースユニット磁路２１とＹＺ平面に関して面対称の構成を有する。したがって、第２ベースユニット磁路２２は、Ｘ軸に垂直なＸ２平面（第４の平面）上にＳ極面２２ＸＳを有するＸ２ベース磁石２２Ｘと、Ｙ軸に垂直なＹ１平面上にＮ極面２２ＹＮを有するＹ２ベース磁石２２Ｙを有する。Ｘ２ベース磁石２２ＸとＹ２ベース磁石２２Ｙは、第２ベース磁性体２２１により接続されている。第２ベース磁性体２２１の比透磁率は、例えば、１００程度である。第２ベースユニット磁路２２は、Ｘ２ベース磁石２２Ｘと隣接し、且つ、第２ベース磁性体２２１が芯となるように設けられたＸ２コイル２２ＸＣを備える。更に、第２ベースユニット磁路２２は、Ｙ２ベース磁石２２Ｙと隣接し、且つ、第２ベース磁性体２２１が芯となるように設けられたＹ２コイル２２ＹＣを備える。

第３ベースユニット磁路２３は、第１ベースユニット磁路２１とＸＺ平面に関して面対称の構成を有し、各磁石の磁極が反転している。つまり、第３ベースユニット磁路２３は、Ｘ軸に垂直なＸ１平面上にＮ極面２３ＸＮを有するＸ１ベース磁石２３Ｘと、Ｙ軸に垂直なＹ２平面（第５の平面）上にＳ極面２３ＹＳを有するＹ２ベース磁石２３Ｙを有する。Ｘ１ベース磁石２３ＸとＹ２ベース磁石２３Ｙは、第３ベース磁性体２３１により接続されている。第３ベース磁性体２３１の比透磁率は、例えば、１００程度である。第３ベースユニット磁路２３は、Ｘ１ベース磁石２３Ｘと隣接し、且つ、第３ベース磁性体２３１が芯となるように設けられたＸ１コイル２３ＸＣを備える。更に、第３ベースユニット磁路２３は、Ｙ２ベース磁石２３Ｙと隣接し、且つ、第３ベース磁性体２３１が芯となるように設けられたＹ２コイル２３ＹＣを備える。

第４ベースユニット磁路２４は、第３ベースユニット磁路２３とＹＺ平面に関して面対称の構成を有する。つまり、第４ベースユニット磁路２４は、Ｘ軸に垂直なＸ２平面上にＮ極面２４ＸＮを有するＸ２ベース磁石２４Ｙと、Ｙ軸に垂直なＹ２平面上にＳ極面２４ＹＳを有するＹ２ベース磁石２４Ｙを有する。Ｘ２ベース磁石２４ＹとＹ２ベース磁石２４Ｙは、第４ベース磁性体２４１により接続されている。第４ベース磁性体２４１の比透磁率は、例えば、１００程度である。第４ベースユニット磁路２４は、Ｘ２ベース磁石２４Ｙと隣接し、且つ、第４ベース磁性体２４１が芯となるように設けられたＸ２コイル２４ＸＣを備える。更に、第４ベースユニット磁路２４は、Ｙ２ベース磁石２４Ｙと隣接し、且つ、第４ベース磁性体２４１が芯となるように設けられたＹ２コイル２４ＹＣを備える。

第１シフトユニット磁路３１、第２シフトユニット磁路３２、第３シフトユニット磁路３３及び第４シフトユニット磁路３４は、シフト固定部材３０２に固定されている。これらの磁路を構成する、以下に説明する複数のシフト磁石のすべてが永久磁石（第２の永久磁石）である。

第１シフトユニット磁路３１は、Ｘ１ベース磁石２１ＸのＳ極面２１ＸＳと対向する異極のＮ極面３１ＸＮを有するＸ１シフト磁石３１Ｘと、Ｙ１ベース磁石２１ＹのＮ極面２１ＹＮと対向する異極のＳ極面３１ＹＳを有するＹ１シフト磁石３１Ｙを備える。Ｘ１シフト磁石３１ＸとＹ１シフト磁石３１Ｙは、第１シフト磁性体３１１で接続されている。

第２シフトユニット磁路３２は、第１シフトユニット磁路３１とＹＺ平面に関して面対称の構成となっている。第２シフトユニット磁路３２は、Ｘ２ベース磁石２２ＸのＳ極面２２ＸＳと対向する異極のＮ極面３２ＸＮを有するＸ２シフト磁石３２Ｘと、Ｙ２ベース磁石２２ＹのＮ極面２２ＹＮと対向する異極のＳ極面３２ＹＳを有するＹ２シフト磁石３２Ｙを備える。Ｘ２シフト磁石３２ＸとＹ２シフト磁石３２Ｙは、第２シフト磁性体３２１で接続されている。

第３シフトユニット磁路３３は、第１シフトユニット磁路３１とＸＺ平面に関して面対称で、且つ、各磁石の磁極が反転した構成となっている。第３シフトユニット磁路３３は、Ｘ１ベース磁石２３ＸのＮ極面２３ＸＮと対向する異極のＳ極面３３ＸＳを有するＸ１シフト磁石３３Ｘと、Ｙ２ベース磁石２３ＹのＳ極面２３ＹＳと対向する異極のＮ極面３３ＹＮを有するＹ２シフト磁石３３Ｙを備える。Ｘ１シフト磁石３３ＸとＹ２シフト磁石３３Ｙは、第３シフト磁性体３３１で接続されている。

第４シフトユニット磁路３４は、第３シフトユニット磁路３３とＹＺ平面に関して面対称の構成となっている。第４シフトユニット磁路３４は、Ｘ２ベース磁石２４ＹのＮ極面２４ＸＮと対向する異極のＳ極面３４ＸＳを有するＸ２シフト磁石３４Ｘと、Ｙ２ベース磁石２４ＹのＳ極面２４ＹＳと対向する異極のＮ極面３４ＹＮを有するＹ２シフト磁石３４Ｙを備える。Ｘ２シフト磁石３４ＸとＹ２シフト磁石３４Ｙは、第４シフト磁性体３４１で接続されている。

ここで、Ｘ１ベース磁石２１Ｘの保磁力はＸ１シフト磁石３１Ｘの保磁力よりも小さく、Ｙ１ベース磁石２１Ｙの保磁力はＹ１シフト磁石３１Ｙの保磁力よりも小さい。また、Ｘ１ベース磁石２１Ｘの対向面幅はＸ１シフト磁石３１Ｘの対向面幅よりも大きく、Ｙ１ベース磁石２１Ｙの対向面幅はＹ１シフト磁石３１Ｙの対向面幅よりも大きい。同様に、第２ベースユニット磁路２２、第３ベースユニット磁路２３及び第４ベースユニット磁路２４のそれぞれにおいても、各磁石対向部では、ベース磁石はシフト磁石よりも保磁力が小さく、且つ、対向面幅が大きい。

撮像素子基板３０１上で、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の領域とＹ２ベース磁石２２ＹとＹ２シフト磁石３２Ｙの間の領域とのＸ方向での中間点に、Ｘホール素子３０３Ａが配置されている。Ｘホール素子３０３Ａは、ベースユニット２に対するシフトユニット３のＸ方向での相対位置を検出する。また、撮像素子基板３０１上、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の領域とＸ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の領域とのＹ方向での中間点に、Ｙ１ホール素子３０３Ｂが配置されている。Ｙ１ホール素子３０３Ｂは、ベースユニット２に対するシフトユニット３のＹ方向での相対位置を検出する。撮像素子基板３０１上で、Ｙ１ホール素子３０３ＢとＹＺ平面に関して面対称となる位置には、ベースユニット２に対するシフトユニット３のＹ方向での相対位置を検出するためのＹ２ホール素子３０３Ｃが配置されている。

次に、シフトユニット３のベースユニット２に対する中央保持のための（つまり、入射光軸と撮像素子３００の中心とを一致させた状態でシフトユニット３を保持するための）ステージ装置１０４の駆動方法について説明する。

異極で対向するＸ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間のそれぞれで、Ｘ軸方向の吸引力が発生する。同様に、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間と、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間のそれぞれで、Ｘ軸方向の吸引力が発生する。また、異極で対向するＹ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間と、Ｙ２ベース磁石２２ＹとＹ２シフト磁石３２Ｙの間のそれぞれで、Ｙ軸方向の吸引力が発生する。同様に、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３Ｙの間と、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間のそれぞれで、Ｙ軸方向の吸引力が発生する。これら８箇所の磁石対向部での吸引力の大きさが釣り合うことにより、シフトユニット３はベースユニット２に対して中央保持される。

一例として、シフトユニット３を中央保持する際に、図５上でＸ軸左方向へ外力が加わった場合のステージ装置１０４の動作について説明する。この場合、Ｘ１コイル２１ＸＣにＸ１ベース磁石２１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電し、且つ、Ｘ１コイル２３ＸＣにＸ１ベース磁石２３Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１ベース磁石２３Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。同時に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図５上でＸ軸右方向への力を誘引し、Ｘ軸左方向への外力をキャンセル（相殺）することで、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。

つまり、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面及びＹ２平面のうち、意図した駆動方向にある平面上の磁石対向部に対し、その磁石対向部と逆向きに力を発生している磁石対向部の磁石間力（ここでは、吸引力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

別の例として、シフトユニット３の中央保持の際に、図５上の原点に対して時計まわり方向の外力が発生した場合について説明する。この場合、Ｙ１コイル２１ＹＣ、Ｘ２コイル２２ＸＣ、Ｘ１コイル２３ＸＣ、Ｙ２コイル２４ＹＣそれぞれに、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ、Ｙ２ベース磁石２４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ、Ｙ２ベース磁石２４Ｙに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の吸引力と、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。また、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力と、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の吸引力も、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の吸引力に対して、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。また、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石２２ＹとＹ２シフト磁石３２Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。更に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。同様に、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図５上で反時計まわり方向のモーメントを誘引し、時計まわり方向の外力をキャンセルすることで、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。

つまり、回転方向の駆動の際には、任意の回転方向と同一方向のモーメントを発生させる。その際、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面、Ｙ２平面のいずれにおいても、モーメントの発生に寄与しない吸引力を減磁により低下させて任意の大きさのモーメントを発生させることにより、シフトユニット３を回転駆動することができる。

次に、デジタルカメラ１００での像ぶれ補正処理を伴う撮影処理のフローについて説明する。図６は、デジタルカメラ１００での撮影処理のフローチャートである。図６のフローチャートにＳ番号で示す各処理（ステップ）は、制御基板１０７に実装されているＣＰＵがＲＯＭから所定のプログラムをＲＡＭに読み出して、デジタルカメラ１００の各部の動作を統括的に制御することにより実現される。

デジタルカメラ１００の電源がオンになると、Ｓ１０１でＣＰＵは、レリーズボタン１１０が半押しされて、被写体に対するＡＦやＡＥを行うためのＳＷ１がオンになったか否かを判定する。ＣＰＵは、ＳＷ１がオンになったと判定した場合（Ｓ１０１でＹＥＳ）、処理をＳ１０２へ進め、ＳＷ１がオフのままであると判定した場合（Ｓ１０１でＮＯ）、Ｓ１０１の判定を繰り返す。

Ｓ１０２でＣＰＵは、像ぶれ補正装置（ステージ装置１０４）を駆動する。具体的には、ジャイロセンサ１０９からのデジタルカメラ１００のぶれ情報と、シフトユニット３のＸホール素子３０３ＡからのＸ軸方向位置とＹ１ホール素子３０３ＢとＹ２ホール素子３０３ＣからのＹ軸方向位置及びその差分に基づく回転位置を取得する。そして、ＣＰＵは、取得した情報に基づき、ステージ装置１０４を駆動する際のぶれ補正量を算出する。Ｓ１０３でＣＰＵは、Ｓ１０２で算出したぶれ補正量でベースユニット２に対するシフトユニット３の駆動を行う。これにより、像ぶれをキャンセルすることができる。

Ｓ１０４でＣＰＵは、レリーズボタン１１０が全押しされて撮影動作を開始するためのＳＷ２がオンになったか否かを判定する。ＣＰＵは、ＳＷ２がオンになったと判定した場合（Ｓ１０４でＹＥＳ）、処理をＳ１０５へ進め、ＳＷ２がオンになっていない判定した場合（Ｓ１０４でＮＯ）、処理をＳ１０１へ戻す。Ｓ１０５でＣＰＵは、撮像素子３００への露光を開始する。Ｓ１０６とＳ１０７でＣＰＵは、Ｓ１０２，Ｓ１０３と同様に像ぶれを補正する。Ｓ１０８でＣＰＵは露光を終了させ、これにより撮影は終了する。

次に、ステージ装置１０４の像ぶれ補正駆動（Ｓ１０３，Ｓ１０７）について説明する。ステージ装置１０４の駆動原理は、前述した中央保持の場合と同様であり、意図した駆動方向にある平面上の磁石対向部に対し、その磁石対向部と逆向きに力を発生している磁石対向部の磁石間力（ここでは、吸引力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

例えば、図５上でＸ軸左方向への手ぶれが発生した場合、Ｘ１コイル２１ＸＣとＸ１コイル２３ＸＣそれぞれに、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１ベース磁石２３Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１ベース磁石２３Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。同時に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図５上でＸ軸右方向への力を誘引し、Ｘ軸左方向への手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

また、図５上で原点に対して時計まわり方向の手ぶれが発生した場合は、以下の通りに動作させる。即ち、Ｙ１コイル２１ＹＣ、Ｘ２コイル２２ＸＣ、Ｘ１コイル２３ＸＣ、Ｙ２コイル２４ＹＣそれぞれに、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ、Ｙ２ベース磁石２４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ及びＹ２ベース磁石２４Ｙそれぞれに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の吸引力と、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力はそれぞれ、無通電時と比較して低下する。同様に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力と、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の吸引力も無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の吸引力に対して、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。また、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石２２ＹとＹ２シフト磁石３２Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。更に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。同様に、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図５上で反時計まわり方向のモーメントを誘引し、時計まわり方向の手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

次に、ステージ装置１０４が奏する効果について説明する。ステージ装置１０４では、各磁石対向部は等しい大きさの吸引力を発現するため、ベースユニット２に対する相対的な中央位置でシフトユニット３へ掛かる力が釣り合う。そのため、デジタルカメラ１００の電源が入っていない無通電の状態でも、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。そして、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持するためには、外力に対してのみコイル通電による駆動を行えばよい。よって、無通電で定常的な中央保持力が発生しない従来のステージ装置と比較して、より少ない電力でシフトユニット３を中央保持することができる。

また、ベースユニット２とシフトユニット３の各辺には対向部が２箇所ずつ備えられており、且つ、対向部ごとに減磁用のコイルが設けられているため、並進方向の駆動だけでなく、モーメントの発生による回転方向の駆動も可能である。しかも、各シフト磁石に対して各ベース磁石の保磁力が小さいため、逆磁場による減磁が容易であり、シフト磁石とベース磁石の保磁力を同じにする構成よりも、低電力での駆動が可能となる。

更に、Ｘ１コイル２１ＸＣとＹ１コイル２１ＹＣの芯を第１ベース磁性体２１１とし、Ｘ２コイル２２ＸＣとＹ２コイル２２ＹＣの芯を第２ベース磁性体２２１としている。また、Ｘ１コイル２３ＸＣとＹ２コイル２３ＹＣの芯を第３ベース磁性体２３１とし、Ｘ２コイル２４ＸＣとＹ２コイル２４ＹＣの芯を第４ベース磁性体２４１としている。ここで、コイルが発生させる磁束の大きさは、透磁率を変数とし、他のパラメータを定数とすると、下記式１の通りに表される。なお、Φ：磁束、Ｉ：電流量、μ：芯の透磁率、Ａ：芯の断面積、Ｎ：巻き数、ｌ：磁路の長さ、Ｃ：定数、であり、コイルが発生させる磁束Φが透磁率μに比例することがわかる。

比透磁率が１００の第１ベース磁性体２１１を用いた場合、比透磁率が１である空芯や磁石を芯にした場合と比較して、コイルでの発生磁束は１００倍となる。第２ベース磁性体２２１、第３ベース磁性体２３１及び第４ベース磁性体２４１についても、第１ベース磁性体２１１と同様である。よって、減磁対象の磁石を芯とする場合と比較して、より高い減磁効果を得ることが可能になることで、より少ない電力での駆動が可能になる。

また、各ベース磁石の対向面幅はそれぞれ、対向する各シフト磁石より大きい（逆に言えば、シフトユニット３を構成する磁石の幅は、ベースユニット２を構成する磁石の幅よりも小さい）。そのため、シフトユニット３が変位しても常に磁石対向面積を一定として磁石同士を対向させることができ、磁石間力は磁石間距離によってのみ変化する。その結果、ステージ装置１０４では制御量がシフトユニット３の位置に依存するが、磁石間距離のみに注目して制御量を決定することができるため、制御処理を簡単なものとすることが可能になる。

更に、ステージ装置１０４では、ベースユニット２を構成する磁石の幅よりもシフトユニット３を構成する磁石の幅を小さくしており、これにより、駆動対象であるシフトユニット３を軽量化して、駆動時の電力消費を低減することが可能となっている。また、ベースユニット２に減磁対象となる低保磁力のＸ１ベース磁石２１Ｘ等の８個の磁石を配置している。この場合、シフトユニット３に低保磁力の磁石を配置した場合よりも、デジタルカメラ１００の内部での主要な熱源の１つである撮像素子３００から低保磁力の磁石までの距離を長くすることができる。よって、熱による減磁の影響を抑制することが可能になる。

＜第２実施形態＞
図７は、第２実施形態に係るステージ装置１０４Ａの磁路の構成を説明する背面図であり、第１実施形態での図５に対応する図である。第２実施形態は、ステージ装置１０４Ａでの磁路の構成が第１実施形態と異なる。以下では、第２実施形態において、第１実施形態と共通する構成については同じ符号を付して説明を省略する。

第１実施形態でのステージ装置１０４では、ベース磁石の磁極面に対向するシフト磁石の磁極面がベース磁石の磁極面とは異極となっている。これに対して、第２実施形態に係るステージ装置１０４Ａでは、ベース磁石の磁極面に対向するシフト磁石の磁極面がベース磁石の磁極面と同極となっている。

つまり、第１シフトユニット磁路３１は、Ｘ１ベース磁石２１ＸのＳ極面２１ＸＳと同極で対向するＳ極面３１ＸＳを有するＸ１シフト磁石３１Ｘと、Ｙ１ベース磁石２１ＹのＮ極面２１ＹＮと同極で対向するＮ極面３１ＹＮを有するＹ１シフト磁石３１Ｙを備える。同様に、第２シフトユニット磁路３２は、Ｘ２ベース磁石２２ＸのＳ極面２２ＸＳと同極で対向するＳ極面３２ＸＳを有するＸ２シフト磁石３２Ｘと、Ｙ２ベース磁石２２ＹのＮ極面２２ＹＮと同極で対向するＮ極面３２ＹＮを有するＹ２シフト磁石３２Ｙを備える。第３シフトユニット磁路３３は、Ｘ１ベース磁石２３ＸのＮ極面２３ＸＮと同極で対向するＮ極面３３ＸＮを有するＸ１シフト磁石３３Ｘと、Ｙ２ベース磁石２３ＹのＳ極面２３ＹＳと同極で対向するＳ極面３３ＹＳを有するＹ２シフト磁石３３Ｙを備える。第４シフトユニット磁路３４は、Ｘ２ベース磁石２４ＹのＮ極面２４ＸＮと同極で対向するＮ極面３４ＸＮを有するＸ２シフト磁石３４Ｘと、Ｙ２ベース磁石２４ＹのＳ極面２４ＹＳと同極で対向するＳ極面３４ＹＳを有するＹ２シフト磁石３４Ｙを備える。なお、これらの磁石は、コイルが発生する逆磁場以外の外部磁場による減磁で磁束密度を失わないものが選定される。

続いて、ステージ装置１０４Ａの駆動方法の例について説明する。一例として、シフトユニット３を中央保持する場合に、図７上でＸ軸右方向へ外力が加わったとする。この場合、Ｘ１コイル２１ＸＣにＸ１ベース磁石２１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電し、且つ、Ｘ１コイル２３ＸＣにＸ１ベース磁石２３Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場によりＸ１ベース磁石２１ＸとＸ１ベース磁石２３Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。同時に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＹとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図７上でＸ軸左方向への力を誘引し、Ｘ軸右方向への外力をキャンセルすることで、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。

つまり、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面及びＹ２平面のうち、意図した駆動方向にある平面上の対向部の磁石間力（ここでは、反発力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

別の例として、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持する場合に、図７上で原点に対して反時計まわり方向の外力がシフトユニット３に作用したとする。この場合、Ｙ１コイル２１ＹＣ、Ｘ２コイル２２ＸＣ、Ｘ１コイル２３ＸＣ、Ｙ２コイル２４ＹＣにそれぞれ、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ、Ｙ２ベース磁石２４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電を行う。この磁場により、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ及びＹ２ベース磁石２４Ｙのそれぞれに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の反発力と、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。同様に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力と、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の反発力も、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の反発力に対して、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。同様に、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力に対して、Ｙ１ベース磁石２２ＹとＹ１シフト磁石３２Ｙの間の反発力が相対的に大きくなる。また、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力に対して、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３Ｙの間の反発力が相対的に大きくなる。そして、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＸとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図７上で時計まわり方向のモーメントを誘引し、反時計まわり方向の外力をキャンセルすることで、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。

つまり、回転方向の駆動の際には、任意の回転方向と同一方向のモーメントを発生させる。その際、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面、Ｙ２平面のいずれにおいても、モーメントの発生に寄与しない磁石反発力を減磁により低下させて任意の大きさのモーメントを発生させることにより、シフトユニット３を回転駆動することができる。

像ぶれ補正時のデジタルカメラ１００のぶれ情報やシフトユニット３の位置情報の検出方法は第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。像ぶれ補正時の並進駆動と回転駆動のための通電方法は、シフトユニット３の中央保持の場合と同様である。

例えば、図７上でＸ軸右方向への手ぶれが発生した場合、Ｘ１コイル２１ＸＣにＸ１ベース磁石２１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電し、Ｘ１コイル２３ＸＣにＸ１ベース磁石２３Ｘの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１ベース磁石２３Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。同時に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＸとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。その結果、図７上でＸ軸左方向への力を誘引し、Ｘ軸右方向への手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

また、図７上における原点に対して反時計回りの手ぶれが発生した場合には、以下の通りに動作させる。即ち、Ｙ１コイル２１ＹＣ、Ｘ２コイル２２ＸＣ、Ｘ１コイル２３ＸＣ、Ｙ２コイル２４ＹＣにそれぞれ、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ、Ｙ２ベース磁石２４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ１ベース磁石２１Ｙ、Ｘ２ベース磁石２２Ｘ、Ｘ１ベース磁石２３Ｘ及びＹ２ベース磁石２４Ｙのそれぞれに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の反発力と、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。同様に、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力と、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の反発力も、無通電時と比較して低下する。

その結果、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１Ｙの間の反発力に対して、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。同様に、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２Ｘの間の反発力に対して、Ｙ１ベース磁石２２ＹとＹ１シフト磁石３２Ｙの間の反発力が相対的に大きくなる。また、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３Ｘの間の反発力に対して、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３Ｙの間の反発力が相対的に大きくなる。そして、Ｙ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４Ｙの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石２４ＸとＸ２シフト磁石３４Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図７上で時計まわり方向のモーメントを誘引し、反時計まわり方向の手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

次に、ステージ装置１０４Ａが奏する効果について説明する。ステージ装置１０４Ａは、第１実施形態に係るステージ装置１０４が奏するすべての効果を奏し、且つ、新たな効果を奏する。即ち、ステージ装置１０４Ａでは、各磁石対向部は等しい大きさの反発力を発現するため、ベースユニット２に対する相対的な中央位置でシフトユニット３へ掛かる力が釣り合う。そのため、デジタルカメラ１００の電源が入っていない無通電の状態でも、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。そして、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持する場合には、外力に対してのみコイル通電による駆動を行えばよい。よって、機械要素によって定常的に中央保持力が発生する構成でないステージ装置よりも低い電力でシフトユニット３を中央保持することができる。しかも、コイルを駆動してシフトユニット３を中央位置へ移動させる際にも、シフトユニット３を中央位置へ変位させる反発力がはたらいているため、第１実施形態と比較して、より低電力での中央保持が可能となる。

ところで、一般的に、撮像素子３００が光学像から画像データを生成する過程で撮像素子３００へ磁束が流入すると、撮影画像にノイズが生じる原因となる。第２実施形態では、磁極が同極で対向しており、磁路が閉じていないため、第１実施形態に示した異極対向に比べて、撮像素子３００の内部への磁束流入が多いと考えられる。特に走査方向と平行な磁束はノイズの原因となりやすいため、Ｘ軸方向に走査を行う撮像素子３００内に磁束が流入する場合には、その磁束はＸ成分よりもＹ成分の割合を大きくする必要がある。

図８は、ステージ装置１０４Ａと撮像素子ユニット１０３からなる像ぶれ補正装置での、撮像素子３００への流入磁束を説明する図である。ステージ装置１０４Ａでは、上述の通りの磁石配置を採用することにより、撮像素子３００への流入磁束がＸ成分よりもＹ成分の割合が大きくなるようにしている。

具体的には、Ｘ１ベース磁石２１ＸとＸ１シフト磁石３１ＸのなすＳ極対向部と、Ｘ１ベース磁石２３ＸとＸ１シフト磁石３３ＸのなすＮ極対向部の間の空間に磁路Ｍ１が形成される。同様に、Ｘ２ベース磁石２２ＸとＸ２シフト磁石３２ＸのなすＳ極対向部とＸ２ベース磁石２４ＸとＸ２シフト磁石３４ＸのなすＮ極対向部の間の空間に磁路Ｍ２が形成される。

更に、Ｙ２ベース磁石２３ＹとＹ２シフト磁石３３ＹのなすＳ極対向部とＹ２ベース磁石２４ＹとＹ２シフト磁石３４ＹのなすＳ極対向部とが反発している。そのため、Ｙ１ベース磁石２１ＹとＹ１シフト磁石３１ＹのなすＮ極対向部とＹ１ベース磁石２２ＹとＹ１シフト磁石３２ＹのなすＮ極対向部の間で反発した磁束は、Ｙ軸方向を負方向に流入して磁路Ｍ３を形成する。こうして、撮像素子３００内に流入する磁束のＸ成分よりもＹ成分の割合を大きくすることができる。なお、磁石対向部の構成と配置を工夫することにより、撮像素子３００に流入する磁束の成分を任意に限定することができる。

＜第３実施形態＞
第３実施形態に係るステージ装置は、第１実施形態及び第２実施形態に係る各ステージ装置と比較すると、主にベース磁性体の構造、磁石数及びコイル数点で相違している。つまり、第１実施形態及び第２実施形態では、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面及びＹ２平面のそれぞれに２箇所ずつの磁石対向部を設けている。これに対して、第３実施形態では、１つの平面（具体的にはＹ２平面）にのみ２箇所の磁石対向部を設け、他の３つの平面では磁石対向部を１箇所ずつ設けている。その結果として、第３実施形態に係るステージ装置において形成される磁路の態様とコイルへの通電方法が、第１実施形態及び第２実施形態とは異なる。

図９は、第３実施形態に係るステージ装置１０４Ｂの磁路の構成を説明する背面図であり、第１実施形態での図５に対応する図である。

ベースユニット２のベースユニット磁路５１は、Ｘ軸に垂直なＸ１平面上にＳ極面５１ＸＳを有するＸ１ベース磁石５１Ｘと、Ｘ１平面と平行なＸ２平面上にＳ極面５２ＸＳを有するＸ２ベース磁石５２Ｘを備える。また、ベースユニット磁路５１は、Ｙ軸に垂直なＹ１平面上にＮ極面５１ＹＮを有するＹ１ベース磁石５１Ｙを備える。更に、ベースユニット磁路５１は、Ｙ１平面と平行なＹ２平面上に、Ｎ極面５３ＹＮを有するＹ２ベース磁石５３Ｙ及びＮ極面５４ＹＮを有するＹ２ベース磁石５４Ｙを備える。Ｘ１ベース磁石５１Ｘ、Ｙ１ベース磁石５１Ｙ、Ｘ２ベース磁石５２Ｘ、Ｙ２ベース磁石５３Ｙ及びＹ２ベース磁石５４Ｙは、比透磁率が１００のベース磁性体５１１で接続されている。

そして、ベース磁性体５１１を芯として、Ｘ１ベース磁石５１Ｘと隣接する位置にＸ１コイル５１ＸＣが設けられ、Ｘ２ベース磁石５２Ｘと隣接する位置にＸ２コイル５２ＸＣが設けられている。また、ベース磁性体５１１を芯として、Ｙ１ベース磁石５１Ｙと隣接する位置にＹ１コイル５１ＹＣが、Ｙ２ベース磁石５３Ｙと隣接する位置にＹ２コイル５３ＹＣが、Ｙ２ベース磁石５４Ｙと隣接する位置にＹ２コイル５４ＹＣがそれぞれ設けられている。

シフトユニット３のシフトユニット磁路６１を構成する各磁石は、ベースユニット磁路５１を構成する各磁石の磁極面と異極で対向する磁極面を有する。すなわち、シフトユニット磁路６１は、Ｓ極面５１ＸＳと対向するＮ極面６１ＸＮを有するＸ１シフト磁石６１Ｘと、Ｓ極面５２ＸＳと対向するＮ極面６２ＸＮを有するＸ２シフト磁石６２Ｘを備える。また、シフトユニット磁路６１は、Ｎ極面５１ＹＮと対向するＳ極面６１ＹＳを有するＹ１シフト磁石６１Ｙを備える。更にシフトユニット磁路６１は、Ｎ極面５３ＹＮと対向するＳ極面６３ＹＳを有するＹ２シフト磁石６３Ｙと、Ｓ極面６４ＹＳでＮ極面５４ＹＮと対向するＹ２シフト磁石６４Ｙを備える。Ｘ１シフト磁石６１Ｘ、Ｙ１シフト磁石６１Ｙ、Ｘ２シフト磁石６２Ｘ、Ｙ２シフト磁石６３Ｙ及びＹ２シフト磁石６４Ｙはシフト磁性体６１１で接続されている。そして、各磁石対向部のベース磁石は、シフト磁石よりも保磁力が小さく、且つ、対向面幅は大きい。

次に、ステージ装置１０４Ｂの駆動方法について説明する。異極で対向する５箇所の各磁石対向部において磁石間には吸引力が発生する。シフトユニット３がベースユニット２に対して中央位置を取るときに、５箇所の対向部での吸引力の大きさが釣り合うように各磁石のパラメータが設定されている。

例えば、シフトユニット３を中央保持する際に、図９上でＸ軸左方向への外力が加わった場合には、Ｘ１コイル５１ＸＣにＸ１ベース磁石５１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場を発生させる。この磁場によりＸ１ベース磁石５１Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石５２ＸとＸ２シフト磁石６２Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。その結果、図９におけるＸ軸右方向への力を誘引し、Ｘ軸左方向への外力をキャンセルすることで、シフトユニット３を中央保持することができる。

つまり、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面及びＹ２平面のうち、意図した駆動方向にある平面上の対向部に対し、その対向部と逆向きに力を発生している対向部の磁石間力（ここでは、吸引力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に並動することができる。

一方、図９上での原点に対して時計まわり方向の外力が発生した場合、Ｙ２コイル５４ＹＣにＹ２ベース磁石５４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ２ベース磁石５４Ｙに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石５３ＹとＹ２シフト磁石６３Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図９上で反時計まわり方向のモーメントを誘引し、時計まわり方向の外力をキャンセルすることで、シフトユニット３を中央保持することができる。

つまり、回転方向の駆動の際には、任意の回転方向と同一方向のモーメントを発生させる。その際、Ｙ２コイル５３ＹＣとＹ２コイル５４ＹＣのうち、モーメントの発生に寄与しない吸引力を減磁により低下させて任意のモーメントを発生させることにより、シフトユニット３を回転駆動することができる。

像ぶれ補正時のデジタルカメラ１００のぶれ情報やシフトユニット３の位置情報の検出方法は第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。像ぶれ補正時の並進駆動と回転駆動のための通電方法は、シフトユニット３の中央保持の場合と同様である。つまり、意図した駆動方向にある平面上の対向部に対し、その対向部と逆向きに力を発生している対向部の磁石間力（ここでは、吸引力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

例えば、図９上でＸ軸左方向への手ぶれが発生した場合、Ｘ１コイル５１ＸＣにＸ１ベース磁石５１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場を発生させる。この磁場により、Ｘ１ベース磁石５１Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の吸引力に対して、Ｘ２ベース磁石５２ＸとＸ２シフト磁石６２Ｘの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図９上でＸ軸右方向への力を誘引し、Ｘ軸左方向への手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能になる。

また、図９上で原点に対して時計回りの手ぶれが発生した場合、Ｙ２コイル５４ＹＣにＹ２ベース磁石５４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ２ベース磁石５４Ｙに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の吸引力は、無通電時と比較して低下する。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の吸引力に対して、Ｙ２ベース磁石５３ＹとＹ２シフト磁石６３Ｙの間の吸引力が相対的に大きくなる。こうして、図９上で反時計まわり方向のモーメントを誘引し、時計まわり方向の手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

次に、第３実施形態に係るステージ装置１０４Ｂが奏する効果について説明する。なお、第３実施形態では、第１実施形態に係るステージ装置１０４が奏するすべての効果を奏し、且つ、新たな効果を奏する。即ち、ステージ装置１０４Ｂでは、少なくとも一辺（具体的にはＹ２平面）に磁石対向部を２箇所設け、各磁石対向部にコイルを備えているため、１箇所でコイルを駆動することにより、回転方向の駆動が可能となっている。また、他の辺（具体的には、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面）に１箇所ずつ磁石対向部を設けることで、第１実施形態でのステージ装置１０４と比較して、磁石及びコイルの部品点数を減らすことができる。

＜第４実施形態＞
図１０は、第４実施形態に係るステージ装置１０４Ｃの磁路の構成を説明する背面図であり、第１実施形態での図５に対応する図である。第４実施形態は、ステージ装置１０４Ｃでの磁路の構成が第３実施形態と異なる。以下では、第４実施形態において、第３実施形態と共通する構成については同じ符号を付して説明を省略する。

第３実施形態でのステージ装置１０４Ｂでは、ベース磁石の磁極面に対向するシフト磁石の磁極面がベース磁石の磁極面とは異極となっている。これに対して、第４実施形態に係るステージ装置１０４Ｃでは、ベース磁石の磁極面に対向するシフト磁石の磁極面がベース磁石の磁極面と同極となっている。

つまり、ステージ装置１０４Ｃのベースユニット磁路５１の構成は、ステージ装置１０４Ｂのベースユニット磁路５１の構成と同じである。そのため、ステージ装置１０４Ｃのベースユニット磁路５１の構成について、ここでの説明を省略する。

一方、シフトユニット磁路６１は、Ｓ極面５１ＸＳと同極で対向するＳ極面６１ＸＳを有するＸ１シフト磁石６１Ｘと、Ｓ極面５２ＸＳと同極で対向するＳ極面６２ＸＳを有するＸ２シフト磁石６２Ｘを備える。また、シフトユニット磁路６１は、Ｎ極面５１ＹＮと同極で対向するＮ極面６１ＹＮを有するＹ１シフト磁石６１Ｙを備える。更に、シフトユニット磁路６１は、Ｎ極面５３ＹＮと同極で対向するＮ極面６３ＹＮを有するＹ２シフト磁石６３Ｙと、Ｎ極面５４ＹＮと同極で対向するＮ極面６４ＹＮを有するＹ２シフト磁石６４Ｙを備える。

Ｘ１シフト磁石６１Ｘ、Ｙ１シフト磁石６１Ｙ、Ｘ２シフト磁石６２Ｘ、Ｙ２シフト磁石６３Ｙ及びＹ２シフト磁石６４Ｙは、シフト磁性体６１１で接続されている。そして、各磁石対向部において、ベース磁石はシフト磁石よりも保磁力が小さく、且つ、対向面幅が大きい。

次に、ステージ装置１０４Ｃの駆動方法について説明する。同極で対向する５箇所の各磁石対向部において磁石間には反発力が発生する。シフトユニット３がベースユニット２に対して中央位置を取るときに、５箇所の対向部での反発力の大きさが釣り合うように各磁石のパラメータが設定されている。

例えば、シフトユニット３を中央保持する際に、図１０上でＸ軸右方向への外力が加わった場合、Ｘ１コイル５１ＸＣにＸ１ベース磁石５１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場を発生させる。この磁場により、Ｘ１ベース磁石５１Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。その結果、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石５２ＸとＸ２シフト磁石６２Ｘ間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図１０上でＸ軸左方向への力を誘引し、Ｘ軸右方向への外力をキャンセルすることでシフトユニット３を中央保持することができる。

つまり、Ｘ１平面、Ｘ２平面、Ｙ１平面及びＹ２平面のうち、意図した駆動方向にある平面上の磁石対向部の磁石間力を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

また、図１０上で原点に対して反時計まわり方向の外力が発生した場合、Ｙ２コイル５４ＹＣにＹ２ベース磁石５４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ２ベース磁石５４Ｙに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。その結果、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の反発力に対して、Ｙ２ベース磁石５３ＹとＸ２シフト磁石３４ＸとＹ２シフト磁石６３Ｙ間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図１０上で時計まわり方向のモーメントを誘引し、反時計まわり方向の外力をキャンセルすることで、シフトユニット３を中央保持することができる。

つまり、回転方向の駆動の際には、任意の回転方向と同一方向のモーメントを発生させる。その際、Ｙ２コイル５３ＹＣとＹ２コイル５４ＹＣのうち、モーメントの発生に寄与しない磁石反発力を減磁により低下させて任意のモーメントを発生させることにより、シフトユニット３を中央保持することができる。

像ぶれ補正時のデジタルカメラ１００のぶれ情報やシフトユニット３の位置情報の検出方法は第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。また、像ぶれ補正時の並進駆動と回転駆動のための通電方法は、シフトユニット３の中央保持の場合と同様である。つまり、意図した駆動方向にある平面上の磁石対向部の磁石間力（ここでは、反発力）を減磁作用により低下させる。こうして、シフトユニット３全体に作用する力を調整することにより、シフトユニット３を任意の方向に駆動することができる。

例えば、図１０上でＸ軸右方向への手ぶれが発生した場合、Ｘ１コイル５１ＸＣにＸ１ベース磁石５１Ｘの磁極方向と逆向きの磁場を発生させる。この磁場により、Ｘ１ベース磁石５１Ｘに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。その結果、Ｘ１ベース磁石５１ＸとＸ１シフト磁石６１Ｘの間の反発力に対して、Ｘ２ベース磁石５２ＸとＸ２シフト磁石６２Ｘの間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図１０上でＸ軸左方向への力を誘引し、Ｘ軸右方向への手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

また、図１０上で原点に対して反時計まわり方向の手ぶれが発生した場合、Ｙ２コイル５４ＹＣにＹ２ベース磁石５４Ｙの磁極方向と逆向きの磁場が発生するように通電する。この磁場により、Ｙ２ベース磁石５４Ｙに減磁作用がはたらく。この作用により、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の反発力は、無通電時と比較して低下する。その結果、Ｙ２ベース磁石５４ＹとＹ２シフト磁石６４Ｙの間の反発力に対して、Ｙ２ベース磁石５３ＹとＹ２シフト磁石６３Ｙの間の反発力が相対的に大きくなる。こうして、図１０上で時計まわり方向のモーメントを誘引し、反時計まわり方向の手ぶれをキャンセルすることで、手ぶれによる像ぶれを補正した状態での撮像が可能となる。

次に、ステージ装置１０４Ｃが奏する効果について説明する。なお、ステージ装置１０４Ｃは、第３実施形態に係るステージ装置１０４Ｂが奏するすべての効果を奏し、且つ、新たな効果を奏する。即ち、ステージ装置１０４Ｃでは、各磁石対向部は等しい大きさの反発力を発現するため、シフトユニット３へ掛かる力は、ベースユニット２に対する中央位置で釣り合う。そのため、デジタルカメラ１００の電源が入っていない無通電の状態でも、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持することができる。そして、シフトユニット３をベースユニット２に対して中央保持する場合には、外力に対してのみコイル通電による駆動を行えばよい。よって、機械要素によって定常的に中央保持力が発生する構成でないステージ装置よりも低い電力でシフトユニット３を中央保持することができる。しかも、コイルを駆動してシフトユニット３を中央位置へ移動させる際にも、シフトユニット３を中央位置へ変位させる反発力がはたらいているため、第１実施形態と比較して、より低電力での中央保持が可能となる。

以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて詳述してきたが、本発明はこれら特定の実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の様々な形態も本発明に含まれる。更に、上述した各実施形態は本発明の一実施形態を示すものにすぎず、各実施形態を適宜組み合わせることも可能である。

例えば、上記の各実施形態において、各転動体をバネに代えて、シフトユニット３をＺ軸方向に付勢した構成としてもよい。また、各転動体を磁石に代えて、シフトユニット３をＺ軸方向に付勢してもよい。更に、各ベース磁性体と各シフト磁性体には、比透磁率が１以上であればどのような値のものを用いてもよい。

ベースユニット２を構成する各磁石の対向面幅は、シフトユニット３を構成する各磁石の対向面幅より小さくしてもよいし、ベースユニット２に対してシフトユニット３の相対位置を検出する手段には、変位計やエンコーダを用いてもよい。また、シフトユニットを軽量化するためにベースユニットにコイルを配置した構成について説明したが、シフトユニット３にコイルを配置した構成とすることも可能である。磁石対向部は、１辺に少なくとも２箇所設けられていれば、他の辺上の配置数は１以上の幾つであってもよい。

上記実施形態では、ステージ装置１０４により撮像素子３００を駆動する像ぶれ補正装置について説明したが、ステージ装置１０４はＸＹ平面の中心部が空洞となっているため、シフトレンズを駆動する像ぶれ補正装置への適用も可能である。そして、ステージ装置１０４の構成は、撮像装置の像ぶれ補正装置への応用に限定されず、所望する駆動対象をＸＹ平面内で移動させる種々の用途に適用することができる。

２ ベースユニット
３ シフトユニット
２１Ｘ，２１Ｙ，２２Ｘ，２２Ｙ，２３Ｘ，２３Ｙ，２４Ｘ，２４Ｙ，５１Ｘ，５１Ｙ，５２Ｘ，５３Ｙ，５４Ｙ ベース磁石
２１ＸＣ，２１ＹＣ，２２ＸＣ，２２ＹＣ，２３ＸＣ，２３ＹＣ，２４ＸＣ，２４ＹＣ，５１ＸＣ，５１ＹＣ，５２ＸＣ，５３ＹＣ，５４ＹＣ コイル
３１Ｘ，３１Ｙ，３２Ｘ，３２Ｙ，３３Ｘ，３３Ｙ，３４Ｘ，３４Ｙ，６１Ｘ，６１Ｙ，６２Ｘ，６３Ｙ，６４Ｙ シフト磁石
１００ デジタルカメラ
１０１ 本体シャーシ
１０３ 撮像素子ユニット
１０４，１０４Ａ，１０４Ｂ，１０４Ｃ ステージ装置
２１１ 第１ベース磁性体
２２１ 第２ベース磁性体
２３１ 第３ベース磁性体
２４１ 第４ベース磁性体
３００ 撮像素子
３１１ 第１シフト磁性体
３２１ 第２シフト磁性体
３３１ 第３シフト磁性体
３４１ 第４シフト磁性体
５１１ ベース磁性体
６１１ シフト磁性体

Claims (10)

1. ベースユニットと、
   前記ベースユニットに対して第１の平面内で移動可能に配置されたシフトユニットと、を備えるステージ装置であって、
   前記ベースユニットは、
   前記第１の平面に垂直な第２の平面、前記第１の平面および前記第２の平面に垂直な第３の平面、前記第２の平面と平行な第４の平面、前記第３の平面と平行な第５の平面のそれぞれの平面に磁極面を有する複数の第１の永久磁石と、
   前記複数の第１の永久磁石を保持する１または複数のベース磁性体と、を有し、
   前記シフトユニットは、
   前記複数の第１の永久磁石のそれぞれと対向する第２の永久磁石と、
   複数の前記第２の永久磁石を保持する１または複数のシフト磁性体と、を有し、
   前記第２の平面、前記第３の平面、前記第４の平面および前記第５の平面のうち少なくとも１つの平面において前記第１の永久磁石と前記第２の永久磁石とが対向する対向部が少なくとも２箇所に設けられ、前記対向部のそれぞれに少なくとも１つのコイルが前記ベース磁性体または前記シフト磁性体に設けられていることを特徴とするステージ装置。
2. 前記第１の永久磁石と前記第２の永久磁石とは、対向するすべての対向部において同極で対向していることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記第１の永久磁石と前記第２の永久磁石とは、対向するすべての対向部において異極で対向していることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
4. 前記コイルは、前記ベース磁性体または前記シフト磁性体が芯となるように設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。
5. 前記対向部において、前記第１の永久磁石の幅は前記第２の永久磁石の幅よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
6. 前記コイルが設けられている前記ベース磁性体または前記シフト磁性体の比透磁率は１より大きいことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。
7. 前記コイルが設けられている前記ベースユニットまたは前記シフトユニットの永久磁石を減磁するように前記コイルを動作させる制御手段を備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のステージ装置。
8. 前記減磁の対象となる磁石の保磁力が、対向する磁石の保磁力より小さいことを特徴とする請求項７に記載のステージ装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載のステージ装置と、
   前記ステージ装置のシフトユニットに配置された撮像素子と、を備え、
   前記ステージ装置は、前記第１の平面が前記撮像素子の撮像面と平行となるように配置されていることを特徴とする像ぶれ補正装置。
10. 請求項９に記載の像ぶれ補正装置を備える撮像装置であって、
    前記像ぶれ補正装置を構成するステージ装置のベースユニットを固定する固定手段と、
    前記撮像素子に光学像を結像させるレンズと、
    前記撮像装置のぶれを検出するぶれ検出手段と、
    前記ぶれ検出手段により検出されたぶれをキャンセルするように前記像ぶれ補正装置を駆動する制御手段と、を備えることを特徴とする撮像装置。

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