JP2021034647A - 保護膜被覆装置、及び保護膜被覆装置を備えたレーザー加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
光源 :YAGレーザー
波長 :355nm
出力 :3.0W
繰り返し周波数 :20kHz
パルス幅 :0.1ns
集光スポット径 :φ0.5μm
4:操作手段
6:表示手段
8:ウエーハカセット
9:カセット昇降手段
10:搬出入手段
12:仮置き手段
16:第1搬送手段
18:保持手段
181:チャックテーブル
182:クランプ
183:X軸方向可動板
184:Y軸方向可動板
185:支柱
186:カバー板
20:アライメント手段
22:撮像手段
24:レーザー光線照射手段
28:集光器
29:第2搬送手段
30:保護膜被覆装置
31:スピンナーテーブル
32:液状樹脂塗布手段
32a:立設部
32b:アーム部
32c:ノズル部
33:チャンバー
34:筒体
34a:内壁
34b:螺旋状ガイド部
35:内壁洗浄手段
35a:噴射孔
36:保護膜洗浄手段
36a:立設部
36b:アーム部
36c:ノズル部
37:ドレーンホース
38:クランプ
40:スピンナーモータ
42:回転軸
50:加工送り手段
60:液状樹脂(保護膜)
70:洗浄液(純水)
W:ウエーハ
D:デバイス
L:分割予定ライン
F:フレーム
T:ダイシングテープ
Claims (6)
- 被加工物の表面に保護膜を被覆する保護膜被覆装置であって、
被加工物を保持し回転可能なスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブルに保持された被加工物の表面に液状樹脂を塗布する液状樹脂塗布手段と、該スピンナーテーブルの回転によって飛散する液状樹脂を受け止めるチャンバーと、を含み、
該チャンバーは、該スピンナーテーブルを収容する筒体と、該筒体の内壁に配設され該内壁に沿って洗浄液を噴射して、液状樹脂を被加工物に塗布した際に内壁に飛散した液状樹脂を除去して該内壁を洗浄する内壁洗浄手段と、
から少なくとも構成される保護膜被覆装置。 - 該筒体の内壁は、逆円錐状に形成され、該内壁洗浄手段が噴射した洗浄液が該内壁に沿って螺旋状に流下する請求項1に記載の保護膜被覆装置。
- 該逆円錐状に形成された内壁には、内壁洗浄手段から噴射された洗浄液をガイドする螺旋状ガイド部が形成される請求項2に記載の保護膜被覆装置。
- 該内壁洗浄手段は、該筒体の内壁に複数配設される請求項1乃至3のいずれかに記載された保護膜被覆装置。
- 被加工物に被覆された保護膜を除去する保護膜洗浄手段が配設された請求項1乃至4のいずれかに記載された保護膜被覆装置。
- 被加工物を保持する保持手段と、該保持手段に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、該保持手段と該レーザー光線照射手段とを相対的に加工送りする加工送り手段と、請求項1乃至5のいずれかに記載された保護膜被覆装置と、を備えたレーザー加工装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114289362A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-08 | 重庆市科诚电机制造有限公司 | 一种电机壳体的内外壁清洁装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04322420A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-12 | Fujitsu Ltd | レジスト塗布装置とその洗浄方法 |
JPH0521327A (ja) * | 1991-01-25 | 1993-01-29 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
JPH09270376A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転塗布装置および回転塗布方法 |
JPH09290199A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | カップ洗浄装置および回転式基板処理装置 |
JPH1066919A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Sony Corp | レジスト塗布装置 |
JP2000292932A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Seiko Epson Corp | レジスト処理装置 |
JP2002143749A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-21 | Sony Corp | 回転塗布装置 |
JP2002205021A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-07-23 | Seiko Epson Corp | スピンコーターカップの洗浄方法 |
US20020197400A1 (en) * | 2001-06-20 | 2002-12-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Spin-coater with self-cleaning cup and method of using |
JP2004322168A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2011086826A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
-
2019
- 2019-08-28 JP JP2019155699A patent/JP2021034647A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0521327A (ja) * | 1991-01-25 | 1993-01-29 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
JPH04322420A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-12 | Fujitsu Ltd | レジスト塗布装置とその洗浄方法 |
JPH09270376A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転塗布装置および回転塗布方法 |
JPH09290199A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | カップ洗浄装置および回転式基板処理装置 |
JPH1066919A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Sony Corp | レジスト塗布装置 |
JP2000292932A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Seiko Epson Corp | レジスト処理装置 |
JP2002143749A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-21 | Sony Corp | 回転塗布装置 |
JP2002205021A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-07-23 | Seiko Epson Corp | スピンコーターカップの洗浄方法 |
US20020197400A1 (en) * | 2001-06-20 | 2002-12-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Spin-coater with self-cleaning cup and method of using |
JP2004322168A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2011086826A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114289362A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-08 | 重庆市科诚电机制造有限公司 | 一种电机壳体的内外壁清洁装置 |
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