JP2020516065A - シリコンウェーハ吸着装置、シリコンウェーハ搬送装置、シリコンウェーハ搬送システム、及び搬送方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記搬送装置本体は上面と底面を有し、前記シリコンウェーハ支持装置は中心に第2タイプの孔を有する円筒体であり、前記第1タイプの孔のそれぞれに1つの前記シリコンウェーハ支持装置を収容し、前記シリコンウェーハ支持装置は前記搬送装置本体の上面から露出し、前記シリコンウェーハ吸着装置の前記第1開口は前記第1スカート構造が前記シリコンウェーハ支持装置の上に位置するように各前記シリコンウェーハ支持装置にかぶせられ、
前記シーリング装置は前記搬送装置本体の底面に設けられ、前記溝構造は、前記第1タイプの孔と第2タイプの孔及び第1スカート構造で囲まれた空間によってガス通路を形成する。
前記シリコンウェーハ搬送装置は前記マニピュレーター上に固定され、前記マニピュレーターは前記シリコンウェーハ搬送装置を前記シリコンウェーハ保管装置に入るようにしてシリコンウェーハのピックアンドプレースを行い、前記マニピュレーターは前記シリコンウェーハ搬送装置が前記シリコンウェーハを搬送するようにする。
第1固定装置を押圧することにより、シリコンウェーハ吸着装置をシリコンウェーハ搬送装置に固定するステップと、
前記シリコンウェーハ搬送装置をシリコンウェーハの下方に放置し、シリコンウェーハ吸着装置を上向きにし、シリコンウェーハをシリコンウェーハ吸着装置の第1スカート構造上に放置するステップと、
前記シリコンウェーハー搬送装置におけるガス通路内のガスを抽出して、前記ガス通路を真空空間に形成するステップと、
前記第1スカート構造が変形し、前記第1スカート構造は前記シリコンウェーハがシリコンウェーハ支持装置に接触するまでその外側根元の溝構造で変形し続けるステップと、を含む。
Claims (37)
- 吸着装置本体と吸盤装置とを含み、
前記吸着装置本体は第1開口を有し、
前記吸盤装置は第1スカート構造を含み、前記第1スカート構造は前記吸着装置本体の一側に位置されて、且つ前記第1開口と連結され、前記第1スカート構造と前記第1開口との連結部に溝構造が形成され、前記溝構造は前記第1スカート構造の外側に位置されることを特徴とするシリコンウェーハ吸着装置。 - 前記第1開口の形状は円形であり、前記吸着装置本体の外形は中空の円筒形であることを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1開口の直径は8.2mm〜9.0mmの範囲であることを特徴とする請求項2に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記吸着装置本体の外径は13.0mm〜17.0mmの範囲であり、前記吸着装置本体の高さは0.4mm〜0.6mmの範囲であることを特徴とする請求項2に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1スカート構造の外形は円錐台形であり、前記溝構造が前記吸着装置本体の表面に形成される形状はトーラス状であることを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1スカート構造の外径は15.0mm〜17.0mmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1スカート構造の高さは0.8mm〜1.6mmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1スカート構造の外側面と前記吸着装置本体の上面との間の角度が18°〜24°の範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1スカート構造の内側面と前記吸着装置本体の上面との間の角度は16°〜23°の範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記溝構造の深さは0.2mm〜0.3mmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記溝構造の内径は9.8mm〜10.6mmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記溝構造の底面の幅は0.3mm〜0.5mmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記溝構造は第1側壁及び第2側壁を含み、前記第1側壁は前記第1開口に近接し、前記第2側壁は前記第1開口から離れることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第1側壁の中心領域は前記第1開口の方向に凹まれて、トーラス状の外面形状を形成することを特徴とする請求項13に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 前記第2側壁は前記第1開口から離れる方向に傾斜し、傾斜角は90°〜180°であることを特徴とする請求項14に記載のシリコンウェーハ吸着装置。
- 搬送装置本体体と、請求項1〜15のいずれか一項に記載の複数のシリコンウェーハ吸着装置とを含み、複数の前記シリコンウェーハ吸着装置は何れも前記搬送装置本体に固定されることを特徴とするシリコンウェーハ搬送装置。
- 複数のシリコンウェーハ支持装置とシーリング装置とをさらに含み、
前記搬送装置本体上に円形の複数の第1タイプの孔を有し、前記搬送装置本体の底面に溝構造を有し、前記溝構造は複数の前記第1タイプの孔と連通し、
前記搬送装置本体は上面と底面を有し、前記シリコンウェーハ支持装置は中心に第2タイプの孔を有する円筒体であり、前記第1タイプの孔のそれぞれに1つの前記シリコンウェーハ支持装置を収容し、前記シリコンウェーハ支持装置は前記搬送装置本体の上面から露出し、前記シリコンウェーハ吸着装置の前記第1開口は前記第1スカート構造が前記シリコンウェーハ支持装置の上に位置するように各前記シリコンウェーハ支持装置にかぶせられ、
前記シーリング装置は前記搬送装置本体の底面に設けられ、前記溝構造は、前記第1タイプの孔と第2タイプの孔及び第1スカート構造で囲まれた空間によってガス通路を形成することを特徴とする請求項16に記載のシリコンウェーハ搬送装置。 - 前記シリコンウェーハ吸着装置及び前記シリコンウェーハ支持装置の数は3つよりも多く、且つ同数であり、複数の前記シリコンウェーハ支持装置の連結線は多角形を形成することを特徴とする請求項17に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ搬送装置がシリコンウェーハを搬送する時、複数の前記第1スカート構造は共にシリコンウェーハを積載し、前記シリコンウェーハの重心は前記多角形の内側に位置することを特徴とする請求項18に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ搬送装置は排気装置をさらに含み、前記シリコンウェーハ搬送装置がシリコンウェーハを搬送する時、前記排気装置は前記ガス通路が真空空間になるように前記ガス通路内のガスを抽出することを特徴とする請求項17に記載のウェーハ搬送装置。
- 各前記シリコンウェーハ支持装置は何れも第1端部及び第2端部を備え、前記第1端部の直径は前記第1タイプの孔の直径より大きく、前記第2端部の直径は前記第1タイプの孔の直径より小さく、前記第1開口は第1端部上にかぶせられ、前記第1端部の上面は前記搬送装置本体の表面より高く、前記第2端部の底面は前記搬送装置本体の表面より低いことを特徴とする請求項17に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記ガス通路が真空空間を形成した後、前記シリコンウェーハは前記第1スカート構造の変形によって前記シリコンウェーハ支持装置に接触することを特徴とする請求項17に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハが前記シリコンウェーハ支持装置に接触する時、前記シリコンウェーハの重量は前記シリコンウェーハに対する前記第1スカート構造の支持力よりも大きいことを特徴とする請求項22に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ吸着装置は第1固定装置をさらに含み、複数の前記シリコンウェーハ吸着装置は何れも前記第1固定装置によって前記搬送装置本体上に固定され、前記吸着装置本体は正面及び背面を有し、前記第1スカート構造は前記吸着装置本体の正面に位置し、前記第1固定装置は前記吸着装置本体の背面に位置することを特徴とする請求項16に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記第1固定装置は第2スカート構造及び第3スカート構造を含み、
前記第2スカート構造及び前記第3スカート構造は何れも前記吸着装置本体に連結され、前記第2スカート構造は前記第1開口の周りを囲み、前記第3スカート構造は前記第2スカート構造の周りを囲み、前記第2スカート構造及び前記第3スカート構造は「V」字状の溝構造を形成することを特徴とする請求項24に記載のシリコンウェーハ搬送装置。 - 前記第1固定装置は吸盤底面をさらに含み、前記吸盤底面は前記第2スカート構造と前記第3スカート構造との間に位置し、前記シリコンウェーハ搬送装置がシリコンウェーハを搬送する時、前記第2スカート構造、前記第3スカート構造及び前記吸盤底面は前記搬送装置本体に付着されることを特徴とする請求項25に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ搬送装置がシリコンウェーハを搬送する時、前記吸着装置本体の形状はシート状であることを特徴とする請求項26に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記搬送装置本体は前記第1タイプの孔の周りを囲む吸着面と本体面とをさらに含み、前記吸着面の高さは前記本体面の高さより小さく、前記吸着面の形状はトーラス状であり、前記シリコンウェーハ搬送装置がシリコンウェーハを搬送する時、前記第2スカート構造、前記第3スカート構造及び前記吸盤底面は前記吸着面上に付着されることを特徴とする請求項26に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記第2スカート構造が前記吸着面に吸着される時、その内径は前記第1端部の直径より大きく、前記第3スカート構造が前記吸着面に吸着される時、その外径は前記吸着面の外径より小さいことを特徴とする請求項28に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 複数の前記シリコンウェーハ吸着装置は第2固定装置によって前記搬送装置本体に固定され、前記第2固定装置は加圧構造を含み、前記加圧構造は第2開口を有し、前記第2開口は前記第1開口と整列され、且つ前記第1開口より大きく、前記加圧構造は前記吸着装置本体を前記搬送装置本体上に加圧することを特徴とする請求項16に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記第2固定装置は複数のボルトをさらに含み、複数の前記ボルトは前記加圧構造を前記搬送装置本体に固定することを特徴とする請求項30に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ吸着装置の材料はシリコンゴムであり、前記シリコンウェーハ吸着装置の表面は粒度を小さくする処理が施されていることを特徴とする請求項16〜31のいずれか一項に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 前記シリコンウェーハ吸着装置の材料は、ショア硬度が45HS〜55HSであることを特徴とする請求項16〜31のいずれか一項に記載のシリコンウェーハ搬送装置。
- 請求項16〜33のいずれか一項に記載のシリコンウェーハ搬送装置、マニピュレーター及びシリコンウェーハ保管装置を含み、
前記シリコンウェーハ搬送装置は前記マニピュレーター上に固定され、前記マニピュレーターは前記シリコンウェーハ搬送装置を前記シリコンウェーハ保管装置に入るようにしてシリコンウェーハのピックアンドプレースを行い、前記マニピュレーターは前記シリコンウェーハ搬送装置が前記シリコンウェーハを搬送するようにすることを特徴とするシリコンウェーハ搬送システム。 - 前記シリコンウェーハ保管装置は複数のチップスロットを含み、前記チップスロットは前記シリコンウェーハを格納するのに用いられることを特徴とする請求項34に記載のシリコンウェーハ搬送システム。
- 前記シリコンウェーハ搬送装置の厚さ、前記シリコンウェーハの厚さ、前記シリコンウェーハ搬送装置の低い位置が前記シリコンウェーハ保管装置に入る距離と前記シリコンウェーハ搬送装置の高い位置が前記シリコンウェーハ保管装置を離れる距離の和は前記チップスロットのスロットピッチより小さいことを特徴とする請求項35に記載のシリコンウェーハ搬送システム。
- 請求項16〜33のいずれか一項に記載のシリコンウェーハ搬送装置を用いたシリコンウェーハ搬送方法において、
前記シリコンウェーハ搬送方法は、
第1固定装置を押圧することにより、シリコンウェーハ吸着装置をシリコンウェーハ搬送装置に固定するステップと、
前記シリコンウェーハ搬送装置をシリコンウェーハの下方に放置し、シリコンウェーハ吸着装置を上向きにし、シリコンウェーハをシリコンウェーハ吸着装置の第1スカート構造上に放置するステップと、
前記シリコンウェーハー搬送装置におけるガス通路内のガスを抽出して、前記ガス通路を真空空間に形成するステップと、
前記第1スカート構造が変形し、前記第1スカート構造は前記シリコンウェーハがシリコンウェーハ支持装置に接触するまでその外側根元の溝構造で変形し続けるステップと、を含むことを特徴とするシリコンウェーハ搬送方法。
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