JP6224437B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
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Description
基板は、搬送時、搬送アームに取り付けられたハンドから落ちないように排気機構によって真空吸着される。たとえば、半導体ウェハ(以下、単に「ウェハ」という。)の搬送時、反ったウェハでも搬送を可能とするためにウェハを保持する支柱に弾性を持たせた樹脂製の真空吸着パッドが使用されることがある。この場合、真空吸着パッドは接着剤で固定されるため、真空吸着パッドのみを単体で交換することは困難である。よって、ウェハを保持するパッドにダメージが発生した場合、パッド毎の交換ができず、ハンド毎に交換が必要となり、交換時のリードタイムや費用の負担が多くなる。
まず、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置の要部の構成について、図1を参照しながら説明する。図1は、一実施形態に係る基板搬送装置の要部であるハンド10の一例を示す。
次に、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置の要部の詳細について、図2を参照しながら説明する。図2には、図1のB−B断面を含む図である。
図3は、本実施形態に係るパッド20により、保持しているウェハの反りを吸収する仕組みを概念的に説明するための図である。
最後に、本発明の一実施形態に係るパッド20の配置について、図4を参照しながら説明する。図4は、ハンド10に固定された一実施形態に係るパッド20の配置の一例を示す。図4の(a)では、三つのパッド20は、各パッド20の位置を支点Tとして結ぶ領域Ar内にウェハWの重心Gがオーバーラップされる位置でハンド10に固定される一例を示す。領域Ar内からウェハWの重心Gが外れると、ウェハWが搬送中に落下する可能性は高い。図4の(a)に示した位置に三つのパッド20を配置することにより、搬送中のウェハWの落下を防止することができる。
10a:保持面
10b:凹部
10c:段差部
10d:溝部
20:パッド
21:フランジ部
21a:基板保持部
21b:貫通口
21c:外縁部
21d:弾性部
22:固定部材
23:ネジ
30:排気通路
Claims (7)
- フランジ部を含み、基板を保持する複数のパッドと、
複数の凹部を有し、該複数の凹部にそれぞれ挿入された前記複数のパッドを着脱可能に固定するハンドと、を備え、
前記複数の凹部は、外周側の底部よりも内周側の底部が深くなるように段差部が形成され、
前記フランジ部の少なくともいずれかは、
前記凹部の前記外周側の底部に接触し、前記ハンドにネジで固定される外縁部と、
前記段差部の前記内周側の底部に接触せずに配置されることにより、前記段差部内で撓むことが可能な弾性部と、
前記弾性部の内縁部にて立ち上がり、基板を真空吸着により保持する基板保持部と、を有する、
基板搬送装置。 - 前記弾性部は、
前記凹部の底部に設けられた段差部による空間において、前記基板保持部が保持した基板の自重により前記凹部内で撓む、
請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記弾性部は、
前記フランジ部の外縁部を該外縁部の内側よりも厚く形成する、又は、固定部材により前記フランジ部の外縁部を押さえる、ことで前記ハンドに固定される、
請求項1又は2に記載の基板搬送装置。 - 前記フランジ部は、真円又は楕円である、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板搬送装置。 - 前記複数のパッドと、前記複数の凹部とは、三つずつ設けられ、
前記三つのパッドは、各パッドの位置を支点として結ぶ領域内に前記保持される基板の重心がオーバーラップされる位置で前記ハンドに固定される、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板搬送装置。 - 前記三つのパッドは、
前記三つのパッドの位置から等距離又はその近傍に基板の重心がオーバーラップされる位置で前記ハンドに固定される、
請求項5に記載の基板搬送装置。 - 基板搬送装置のハンドに形成された凹部であって外周側の底部よりも内周側の底部が深くなるように段差部が形成された該凹部に挿入され、着脱可能に固定される基板保持用のパッドであって、
前記パッドは、基板を保持するフランジ部を含み、
前記フランジ部は、
前記凹部の前記外周側の底部に接触し、前記ハンドにネジで固定される外縁部と、
前記段差部の前記内周側の底部に接触せずに配置されることにより、前記段差部内で撓むことが可能な弾性部と、
前記弾性部の内縁部にて立ち上がり、基板を真空吸着により保持する基板保持部と、を有する、
基板保持用のパッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013243898A JP6224437B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 基板搬送装置 |
US14/538,918 US9760023B2 (en) | 2013-11-26 | 2014-11-12 | Substrate carrying device |
KR1020140157190A KR102266268B1 (ko) | 2013-11-26 | 2014-11-12 | 기판 반송 장치 |
TW103139158A TWI625288B (zh) | 2013-11-26 | 2014-11-12 | Substrate transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013243898A JP6224437B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015103696A JP2015103696A (ja) | 2015-06-04 |
JP6224437B2 true JP6224437B2 (ja) | 2017-11-01 |
Family
ID=53182418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013243898A Active JP6224437B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 基板搬送装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9760023B2 (ja) |
JP (1) | JP6224437B2 (ja) |
KR (1) | KR102266268B1 (ja) |
TW (1) | TWI625288B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102455772B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2022-10-18 | 에이씨엠 리서치 (상하이) 인코포레이티드 | 반도체 기판을 운반하기 위한 로봇 아암 |
TWI571366B (zh) * | 2015-12-01 | 2017-02-21 | 亞智科技股份有限公司 | 吸附組件與吸附式移載裝置 |
JP6298099B2 (ja) * | 2016-05-18 | 2018-03-20 | キヤノントッキ株式会社 | 基板搬送装置 |
JP6833350B2 (ja) * | 2016-06-01 | 2021-02-24 | キヤノン株式会社 | 保持装置、搬送装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
JP6799395B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2020-12-16 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ、電子デバイス製造装置において基板を搬送する搬送システム、および電子デバイス製造装置 |
US9975255B1 (en) * | 2016-12-15 | 2018-05-22 | Jabil Inc. | Apparatus, system and method for providing a conformable vacuum cup for an end effector |
CN108666251B (zh) * | 2017-03-31 | 2020-11-20 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 硅片吸附装置、硅片传送装置、硅片传输***及传送方法 |
JP7222535B2 (ja) * | 2019-02-25 | 2023-02-15 | アスリートFa株式会社 | ワーク搬送用ハンド及びボール搭載装置 |
CN112573206B (zh) * | 2019-09-29 | 2022-01-04 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 工件传输定位***及方法 |
JP2023172547A (ja) * | 2022-05-24 | 2023-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板保持具、基板処理装置及び基板搬送方法 |
JP2024035688A (ja) | 2022-09-02 | 2024-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板形状特定方法、搬送装置、及びエンドエフェクタ |
WO2024105732A1 (ja) * | 2022-11-14 | 2024-05-23 | 株式会社日立ハイテク | ウェーハ搬送ロボット |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2598768Y2 (ja) * | 1993-03-31 | 1999-08-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 搬送装置 |
JPH0717896A (ja) | 1993-07-05 | 1995-01-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 新規なメタクリル酸含有三核錯体およびその製造方法 |
JP3200285B2 (ja) | 1994-06-29 | 2001-08-20 | キヤノン株式会社 | 基板搬送装置 |
JP3782523B2 (ja) * | 1996-09-12 | 2006-06-07 | オリンパス株式会社 | 基板吸着部材および装置 |
TW401582B (en) * | 1997-05-15 | 2000-08-11 | Tokyo Electorn Limtied | Apparatus for and method of transferring substrates |
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JP5379589B2 (ja) * | 2009-07-24 | 2013-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置 |
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-
2013
- 2013-11-26 JP JP2013243898A patent/JP6224437B2/ja active Active
-
2014
- 2014-11-12 KR KR1020140157190A patent/KR102266268B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-12 US US14/538,918 patent/US9760023B2/en active Active
- 2014-11-12 TW TW103139158A patent/TWI625288B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9760023B2 (en) | 2017-09-12 |
US20150146187A1 (en) | 2015-05-28 |
TW201532925A (zh) | 2015-09-01 |
KR102266268B1 (ko) | 2021-06-16 |
KR20150060533A (ko) | 2015-06-03 |
TWI625288B (zh) | 2018-06-01 |
JP2015103696A (ja) | 2015-06-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160824 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170414 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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