JP2020148615A - 参照画像生成方法およびパターン検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1の実施形態によるパターン検査方法を実施可能なパターン検査装置の一例を示す図である。図1のパターン検査装置1は、例えば、D−DB検査によりマスク2(すなわち試料)に形成されたパターンの欠陥を検査するために用いることができる。パターンには、ウェハ上に転写されるパターンだけでなく、露光用の補助パターンであるSRAF(Sub Resolution Assist Features)等のウェハに転写されないパターンも含まれる。
次に、図1のパターン検査装置1を適用した第1の実施形態によるパターン検査方法について説明する。図2は、第1の実施形態によるパターン検査方法を示すフローチャートである。図2は、パターン検査方法のうち、参照画像の生成までの工程を示している。図3は、第1の実施形態によるパターン検査方法を示す斜視図である。パターン検査方法では、図3の破線矢印に示す方向に検査領域201のストライプ202が連続的にスキャンされるように、XYθテーブル6を移動させる。XYθテーブル6を移動させながら、フォトダイオードアレイ8で撮像された光学画像に基づいてストライプ202上のパターンの欠陥を検査する。
次に、図8を参照して、第2の実施形態によるパターン検査方法について説明する。図8は、第2の実施形態によるパターン検査方法を示すフローチャートである。なお、第2の実施形態によるパターン検査方法は、図1で説明したパターン検査装置1を用いて実施することができる。
2 マスク
24 参照回路
30 制御計算機
Claims (6)
- パターンを有する試料の設計データに付加された前記パターンの特徴を示す特徴情報に基づいて、前記試料を前記特徴が異なる複数の領域に区分する工程と、
前記複数の領域毎に、前記設計データから前記パターンの検査に用いる参照画像を生成するための前記特徴に応じたパラメータ情報を算出する工程と、
前記算出されたパラメータ情報に基づいて、前記設計データから前記参照画像を生成する工程と、
を有することを特徴とする参照画像生成方法。 - 前記特徴情報は、前記パターンの種別を示すパターン種別情報であることを特徴とする請求項1に記載の参照画像生成方法。
- 前記特徴情報は、前記パターンの検査ランクを示す検査ランク情報および前記パターンの外形を示す外形情報の少なくとも一方であることを特徴とする請求項1に記載の参照画像生成方法。
- 前記試料を前記複数の領域に区分する工程の前に、
前記参照画像の生成単位と同一画像サイズの前記設計データの単位毎に、前記設計データのパターンの密度およびエッジ数を算出する工程と、
前記算出された密度およびエッジ数に基づいて前記設計データの単位毎に前記パターンの種別を決定することで、前記パターン種別情報を生成する工程と、
前記設計データの単位毎に、前記パターン種別情報を前記設計データに付加する工程と、を有することを特徴とする請求項2に記載の参照画像生成方法。 - 前記試料を前記複数の領域に区分する工程の前に、
ユーザ操作に応じて前記検査ランク情報および前記外形情報の少なくとも一方を前記設計データに付加する工程を有することを特徴とする請求項3に記載の参照画像生成方法。 - パターンを有する試料の設計データに付加された前記パターンの特徴を示す特徴情報に基づいて、前記試料を前記特徴が異なる複数の領域に区分する工程と、
前記複数の領域毎に、前記設計データから前記パターンの検査に用いる参照画像を生成するための前記特徴に応じたパラメータ情報を算出する工程と、
前記算出されたパラメータ情報に基づいて、前記設計データから前記参照画像を生成する工程と、
前記参照画像と前記試料を撮像した光学画像とに基づいて前記パターンの欠陥を検査する工程と、
を有することを特徴とするパターン検査方法。
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