JP4922381B2 - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
パターン形成された被検査試料を照明する第1の光学系と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する第2の光学系と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数の光学画像データ生成部と、
前記複数の光学画像データと比較するための対応する各基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと、対応する前記基準画像データとを比較する比較部と、
分離された前記複数の第2の光学画像の倍率をそれぞれ異なる倍率に変換する複数の第3の光学系と、
を備えたことを特徴とする。
また、本発明の他の態様のパターン検査装置は、
パターン形成された被検査試料を照明する第1の光学系と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する第2の光学系と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数の光学画像データ生成部と、
前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと、対応する前記基準画像データと、を比較する比較部と、
を備え、
画素毎に、パターンの粗密に応じて前記複数の光学画像データの1つを選択する選択部をさらに備え、
前記基準画像データ生成部は、前記選択部によって選択される前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成することを特徴とする。
パターン形成された被検査試料を照明する光学系と、
照明によって前記被検査試料から得られる像を光電変換する光電変換素子と、
光電変換された信号をそれぞれ入力し、それぞれ異なるゲインで少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数の光学画像データ生成部と、
前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、前記複数の光学画像データの1つと前記基準画像データとを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
パターン形成された被検査試料を照明する工程と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する工程と、
分離された前記複数の第2の光学画像の倍率をそれぞれ異なる倍率に変換する工程と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分について少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する工程と、
前記複数の光学画像データと比較するための対応する各基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと対応する前記基準画像データとを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
また、本発明の他の態様のパターン検査方法は、
パターン形成された被検査試料を照明する工程と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する工程と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じて前記複数の光学画像データの1つを選択する工程と、
選択された前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと対応する前記基準画像データと、を比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
パターン形成された被検査試料を照明する工程と、
照明によって前記被検査試料から得られる像を光電変換する工程と、
光電変換された信号をそれぞれ入力し、それぞれ異なるゲインで少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する工程と、
前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、前記複数の光学画像データの1つと前記基準画像データとを比較する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す概念図である。図1において、マスクやウェハ等の基板を試料として、かかる試料の欠陥を検査するパターン検査装置100は、光学画像取得部150と制御回路160を備えている。光学画像取得部150は、XYθテーブル102、光源103、拡大光学系104、ビームスプリッタ131、複数のフォトダイオードアレイ105,135(光電変換素子の一例)、複数のセンサ回路106,136、レーザ測長システム122、オートローダ130、及び照明光学系170を備えている。制御回路160では、コンピュータとなる制御計算機110が、データ伝送路となるバス120を介して、位置回路107、比較部の一例となる比較回路108、展開回路111、参照回路112、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、オートフォーカス制御回路140、記憶装置の一例となる磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレキシブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、及びプリンタ119に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。拡大光学系104はピエゾ素子等の圧電変換素子142によって駆動される。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。パターン検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
実施の形態1では、フォトダイオードアレイに入射前の光を、光量比を変えて分岐させることで、信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成したが、信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成する手法はこれに限るものではない。実施の形態2では、センサ回路の制御により信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成する構成について説明する。
実施の形態1では、フォトダイオードアレイに入射前の光を、光量比を変えて分岐させることで、信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成したが、信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成する手法はこれに限るものではない。実施の形態3では、同一の光量比で分岐させた場合でも信号強度の異なる同一視野の複数の光学画像データを生成する構成について説明する。
実施の形態1では、条件の異なる複数の光学画像データに合わせて、所定の領域毎に複数の参照データを作成していたが、これに限るものではない。実施の形態4では、所定の領域毎に1つの参照データの作成で済む構成について説明する。
実施の形態2では、条件の異なる複数の光学画像データに合わせて、所定の領域毎に複数の参照データを作成していたが、これに限るものではない。実施の形態5では、実施の形態4と同様、所定の領域毎に1つの参照データの作成で済む構成について説明する。
実施の形態3では、条件の異なる複数の光学画像データに合わせて、所定の領域毎に複数の参照データを作成していたが、これに限るものではない。実施の形態6では、実施の形態4と同様、所定の領域毎に1つの参照データの作成で済む構成について説明する。
20 検査ストライプ
22 微細パターン部
24 粗パターン部
100 パターン検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104,132,134 拡大光学系
105,135 フォトダイオードアレイ
106,136 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
115 磁気テープ装置
120 バス
131 ビームスプリッタ
138 選択回路
140 オートフォーカス制御回路
150 光学画像取得部
160 制御回路
170 照明光学系
Claims (5)
- パターン形成された被検査試料を照明する第1の光学系と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する第2の光学系と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数の光学画像データ生成部と、
前記複数の光学画像データと比較するための対応する各基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと、対応する前記基準画像データとを比較する比較部と、
分離された前記複数の第2の光学画像の倍率をそれぞれ異なる倍率に変換する複数の第3の光学系と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - パターン形成された被検査試料を照明する第1の光学系と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する第2の光学系と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数の光学画像データ生成部と、
前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する基準画像データ生成部と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと、対応する前記基準画像データと、を比較する比較部と、
を備え、
画素毎に、パターンの粗密に応じて前記複数の光学画像データの1つを選択する選択部をさらに備え、
前記基準画像データ生成部は、前記選択部によって選択された前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成することを特徴とするパターン検査装置。 - 前記複数の光学画像データは、同一視野の光学画像データであることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン検査装置。
- パターン形成された被検査試料を照明する工程と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する工程と、
分離された前記複数の第2の光学画像の倍率をそれぞれ異なる倍率に変換する工程と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分について少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する工程と、
前記複数の光学画像データと比較するための対応する各基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと対応する前記基準画像データとを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。 - パターン形成された被検査試料を照明する工程と、
照明によって前記被検査試料から得られる第1の光学画像を複数の第2の光学画像に光学的に分離する工程と、
分離された複数の第2の光学画像を用いて、粗なパターン部分と密なパターン部分についてそれぞれ少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じて前記複数の光学画像データの1つを選択する工程と、
選択された前記複数の光学画像データの1つと比較するための基準画像データを生成する工程と、
画素毎に、パターンの粗密に応じた前記複数の光学画像データの1つと対応する前記基準画像データとを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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JP2009255377A JP4922381B2 (ja) | 2009-11-06 | 2009-11-06 | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
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