JP2017159378A - 吸着用パッドおよび吸着用パッドの動作方法 - Google Patents

吸着用パッドおよび吸着用パッドの動作方法 Download PDF

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Abstract

【課題】ワークを保護し、離脱を安定して行うことのできる吸着用パッドを提供することにある。
【解決手段】吸着用パッド（１０）は、内部空間（１６）を有する本体部（１１）と、内部空間（１６）と連通するパッド部（１２）と、先端部（１３Ａ）を有し、先端部（１３Ａ）をパッド部（１２）に向けて内部空間（１６）に設けられ、先端部（１３Ａ）がパッド部（１２）の内外へ往復動するシャフト部（１３）と、フリー状態では、先端部（１３Ａ）をパッド部（１２）内に引き込んでシャフト部（１３）を保持するシャフト弾性部（１４）と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、吸着用パッドに適用して有効な技術に関する。
韓国公開特許第１０−２００６−００８２２１３号公報（以下「特許文献１」という）には、イジェクタピンと、イジェクタピンを指弾するスプリングとを備える機械式の真空パッドが記載されている。この真空パッドでは、フリー状態において本体部からスプリングで指弾されたシャフトがパッド部から飛び出している。
韓国公開特許第１０−２００６−００８２２１３号公報
吸着用パッド（真空パッドともいう）の内部空間が真空であるとき、その内部空間にエア（以下「真空破壊エア」という）を供給することで真空が破壊される。真空吸引によりワークを吸着している吸着用パッドからワークの離脱を確実に行うためには、例えば圧力、流量といった吐出力、吐出時間などによる真空破壊エアを強くすることが考えられる。また、ワークと接触するパッド部に貼り付き防止加工（例えば、粗化、コーティング）を施して、パッド部の貼り付き力を下げることで、真空破壊エアを弱くすることも考えられる。
しかしながら、真空破壊エアを強くした場合、離脱後のワークが吹き飛ばされるおそれがある。他方、真空破壊エアを弱くした場合、例えば一部が貼り付いたままでワークを持ち帰ってしまうなどワークの離脱が不安定になるおそれがある。特に、ワークが小型化、軽量化された半導体チップのときに離脱が不安定になりやすい。このため、真空破壊エアの圧力と流量と吐出時間を微調整することが考えられるが、微調整のために工程数が増え、そのための制御機器が必要となってしまう。
また、特許文献１に記載のような真空パッドでは、パッド部にワークを接触させる際に問題が生じてしまう。具体的には、パッド部にワークが接触するまで、ワーク自身で飛び出しているシャフトを押し上げて、シャフトを本体部へ引っ込めなければならず、その際にワークがダメージを受けるおそれがある。
本発明の目的は、吸着されるワークを保護し、離脱を安定して行うことのできる吸着用パッドを提供することにある。本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明の一解決手段に係る吸着用パッドは、内部空間を有する本体部と、前記内部空間と連通するパッド部と、先端部を有し、前記先端部を前記パッド部に向けて前記内部空間に設けられ、前記先端部が前記パッド部の内外へ往復動するシャフト部と、前記先端部を前記パッド部内に引き込んで前記シャフト部を保持するシャフト弾性部と、を備えることを特徴とする。
ここで、前記シャフト部のストローク量が、前記シャフト部の前記先端部が前記パッド部外へ飛び出す最大飛び出し量よりも大きいことがより好ましい。これによれば、パッド部から真空破壊エアを吐出した状態の後に、仮にパッド部にワークが貼り付いていてもシャフト部を用いてワークの離脱を安定して行うことができる。
また、前記内部空間と連通するエア出入部と、前記内部空間内で前記シャフト部と前記エア出入部との間に設けられるピストン部を更に備えることがより好ましい。これによれば、シャフト部をシャフト弾性部に抗してパッド部側へ押し付けることができる。
また、前記本体部は、前記パッド部と連通し、前記シャフト部の先端部が挿入されるガイド貫通部を更に有し、前記シャフト部は、前記先端部と反対側に前記ガイド貫通部よりも大径のフランジ部を更に有することがより好ましい。これによれば、ワークの離脱後にはフランジ部によりガイド貫通部（エア流路）が塞がれ、パッド部からのエアの吐出を停止することができる。
本発明の一解決手段に係る吸着用パッドの動作方法は、内部空間を有する本体部と、前記内部空間と連通するパッド部と、先端部を前記パッド部に向けて前記内部空間に設けられるシャフト部と、を備える吸着用パッドの動作方法であって、（ａ）前記先端部を前記パッド部内に引き込んだ状態のまま、前記内部空間からエアの吸引を行い、前記パッド部にワークを吸着させる工程と、（ｂ）前記（ａ）工程の後、前記内部空間へエアの供給を行い、前記パッド部からエアを吐出させた後、前記シャフト部を前記パッド部から飛び出させる工程と、を含むことを特徴とする。
ここで、前記（ｂ）工程では、前記先端部を前記パッド部から飛び出させた後に、前記パッド部からのエアの吐出を停止することがより好ましい。これによれば、離脱後のワークの吹き飛ばしを防止することができる。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次のとおりである。本発明の一解決手段に係る吸着用パッドによれば、吸着されるワークを保護し、離脱を安定して行うことができる。
本発明の一実施形態に係る吸着用パッドの断面図である。 図１に続く動作工程中の吸着用パッドの断面図である。 図２に続く動作工程中の吸着用パッドの断面図である。 図３に続く動作工程中の吸着用パッドの断面図である。 図４に続く動作工程中の吸着用パッドの断面図である。 吸着用パッドの動作状態を説明するための図表である。
以下の本発明における実施形態では、構成要素の数（個数、数値、量、範囲などを含む）については、特に明示した場合や原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。また、構成要素などの形状に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合などを除き、実質的にその形状などに近似または類似するものなどを含むものとする。
本発明の一実施形態に係る吸着用パッド１０について、図面を参照して説明する。図１乃至図５は、動作工程中の吸着用パッド１０の断面図である。図６は、吸着用パッド１０の動作状態を説明するための図表であり、ポジション１乃至５はそれぞれ図１乃至５に対応している。
まず、吸着用パッド１０の構成を概略して説明する。吸着用パッド１０は、例えば、真空を用いた吸着搬送の分野に適用され、例えばネジ機構や継手によってチューブ（エア流路）を介してエア供給源（図示せず）と連結される。エア供給源は、例えば、切替弁（ソレノイドバルブ等）、調圧装置、真空ポンプ、およびコンプレッサを備え、連結された吸着用パッド１０に対してエア吸引、供給可能な構成である。したがって、吸着用パッド１０は、エア供給源からの真空吸引（エア吸引ともいう）によってワークＷ（例えば半導体チップ）を吸着したり、エア供給によってワークＷを離脱させたりすることができる。
ここで、本実施形態では、エア供給源によって吸引されるエアを「真空エア」とし、供給されるエアを「真空破壊エア」として説明する。なお、真空吸引は、周囲の高い圧力に比較して低い圧力を発生させて吸引することであり、必ずしも１気圧以下の真空とは限らない。
吸着用パッド１０は、本体部１１と、パッド部１２と、シャフト部１３と、シャフト弾性部１４と、ピストン部１５と、を備えて構成される。本実施形態では、吸着用パッド１０が軸線Ｘを有しており、図に示す軸線Ｘの一方を上方、他方を下方として説明する場合がある。
本体部１１は、内部空間１６を有する。内部空間１６は、主にシャフト部１３が存在するシャフト室１６Ａと、主にピストン部１５が存在するピストン室１６Ｂと、を有する。シャフト室１６Ａとピストン室１６Ｂは隣接して連通している。このような内部空間１６は、真空エアによって真空状態となる。真空状態は、真空破壊エアによって破壊される。このため、内部空間１６は、真空エアおよび真空破壊エアが流れるエア流路ともいえる。
本体部１１は、上方側に内部空間１６のピストン室１６Ｂと連通するエア出入部１１Ａを有する。エア出入部１１Ａは、エア流路となるエア貫通部１６Ｃを有する。エア出入部１１Ａで吸着用パッド１０はエア供給源と連結される。また、本体部１１は、パッド部１２と連通し、シャフト部１３の先端部１３Ａが挿入されるガイド貫通部１６Ｄを有する。このガイド貫通部１６Ｄは、内部空間１６のシャフト室１６Ａと連通し、エア流路となる。なお、エア貫通部１６Ｃおよびガイド貫通部１６Ｄもエア流路となるので、内部空間１６に含まれる。
パッド部１２は、リップ１２Ａ（開口）を有し、内部空間１６と連通して本体部１１の下方側に設けられる。すなわち、パッド部１２と内部空間１６とが連通している。このため、本体部１１の内部空間１６に限らずパッド部１２の内部空間を含めて、吸着用パッド１０全体の内部空間であるといえる。
シャフト部１３は、先端部１３Ａおよび保持部１３Ｂを有し、先端部１３Ａをパッド部１２に向けて、内部空間１６に設けられる。また、シャフト部１３は、先端部１３Ａと反対側にガイド貫通部１６Ｄよりも大径のフランジ部１３Ｃを有する。このため、フランジ部１３Ｃは、ガイド貫通部１６Ｄを塞ぐことができる。
シャフト部１３は、先端部１３Ａがパッド部１２の内外へ往復動する。本実施形態では、シャフト部１３が往復動する際に、シャフト部１３の先端部１３Ａおよび保持部１３Ｂが本体部１１（ガイド本体部１１Ｂ）のガイド貫通部１６Ｄ内で摺動する。なお、ガイド貫通部１６Ｄのエア流路を明確にするために、図１などでは、軸線Ｘの左側に対して右側の先端部１３Ａおよび保持部１３Ｂを細く図示している。
シャフト弾性部１４は、吸着用パッド１０がフリー状態（エア出入がない状態）において、先端部１３Ａをパッド部１２内（内部空間１６内）に引き込んでシャフト部１３を保持するように設けられる（図１参照）。具体的には、シャフト弾性部１４は、ガイド貫通部１６Ｄ内において、本体部１１の保持部１１Ｄ（段付部）と、シャフト部１３の保持部１３Ｂ（段付部）との間に設けられる。
このような吸着用パッド１０によれば、シャフト部１３の先端部１３Ａをパッド部１２内に引き込んだ状態で、パッド部１２にワークＷを吸着させることができる（図３参照）。すなわち、シャフト部１３によるワークＷのダメージをなくして、吸着されるワークＷを保護することができる。
また、吸着用パッド１０は、シャフト弾性部１４の伸縮動（上下動）に伴って、シャフト部１３が往復動（上下動）するように構成される。本実施形態では、シャフト部１３とエア出入部１１Ａとの間であって内部空間１６に設けられるピストン部１５によって、シャフト部１３をシャフト弾性部１４に抗してパッド部１２側へ押し付けることができる。このピストン部１５は、推力によって、往復動（上下動）する。例えば、シャフト部１３の先端部１３Ａがパッド部１２から飛び出すときは、真空破壊エアの作用（シャフト室１６Ａとピストン室１６Ｂとの間で発生する圧力差）によりピストン部１５を介してシャフト部１３が押し出されて下動し、シャフト弾性部１４が縮んだ状態となる。
また、吸着用パッド１０は、内部空間１６内でのシャフト部１３のストローク量ｘ１（図１参照）が、シャフト部１３の先端部１３Ａがパッド部１２外へ飛び出す最大飛び出し量ｘ２（図５参照）よりも大きくなるように構成される。これにより、ワークＷを離脱させる際には、パッド部１２から真空破壊エアを吐出した状態（図４参照）の後に、仮にパッド部１２にワークＷが貼り付いていてもシャフト部１３を用いて機械的にワークＷを押し出す（図５参照）こともでき、ワークＷの離脱を安定して行うことができる。このため、シャフト部１３は、吸着しているワークＷの離脱を補助するものとして用いられる。
また、ワークＷの離脱後、すなわち、パッド部１２からシャフト部１３が飛び出した後に、フランジ部１３Ｃによってガイド貫通部１６Ｄが塞がれるため（図５参照）、真空破壊エアの吐出を停止させることができる。また、真空破壊エアの吐出を停止することにより、ワークＷの吹き飛ばしを防止することができる。このため、軽量のワークＷの離脱を安定的にでき、ワークＷの生産性向上（サイクルタイム向上、機械稼働率向上）となる。
また、真空破壊エアの停止をフランジ部１３Ｃによってガイド貫通部１６Ｄを塞ぐことにより行うので、真空破壊エアの圧力、流量、吐出時間の設定をラフに行うことができ、調整工数を削減することができる。また、吹き飛ばし防止のために、真空破壊エアを制御する制御機器を用いる必要がなくなるため、吸着用パッド１０を用いた吸着システムのコストを低減することができる。
次に、吸着用パッド１０の構成を具体的に説明する。吸着用パッド１０は、内部空間１６を有する本体部１１を備える。本体部１１は、例えば金属などの導電性部材から構成される。導電性部材によれば、ワークＷとしての半導体チップなどの電子部品が静電破壊するのを防止することができる。
内部空間１６は、軸線Ｘ方向において上方側から下方側へエア貫通部１６Ｃ、ピストン室１６Ｂ、シャフト室１６Ａ、ガイド貫通部１６Ｄがこの順で連通して構成されている。ここで、シャフト室１６Ａの内径がピストン室１６Ｂの内径よりも大きくなって、シャフト室１６Ａとピストン室１６Ｂとの間が段付きとなる。この段付部は、シャフト部１３の上方側への移動を規制するストッパ部１１Ｆとなる。また、ピストン室１６Ｂの内径がエア貫通部１６Ｃの内径よりも大きくなって、ピストン室１６Ｂとエア貫通部１６Ｃとの間が段付きとなる。この段付部は、ピストン部１５の上方側への移動を規制するストッパ部１１Ｇとなる。
本体部１１は、エア貫通部１６Ｃを有する部分がエア出入部１１Ａとして構成されている。このエア出入部１１Ａでは例えばネジ機構や継手によって、チューブを介してエア供給源と連結される。本体部１１の内部空間１６には、エア出入部１１Ａのエア貫通部１６Ｃを介してエア供給源によってエアが吸引されたり、エアが供給されたりする。そして、吸着用パッド１０は、エア出入部１１Ａとエア供給源との連結箇所に設けられ、エアリークの発生を防止するためのシール部２２（例えば、ガスケット）を備える。
また、本体部１１は、ガイド貫通部１６Ｄを有する部分がガイド本体部１１Ｂとして構成されている。ガイド本体部１１Ｂは、ガイド貫通部１６Ｄに挿入されているシャフト部１３の先端部１３Ａおよび先端部１３Ａよりも大径の保持部１３Ｂ（大径部）の往復動をガイドする。このため、先端部１３Ａのみが挿入される小径のものと、先端部１３Ａおよび保持部１３Ｂが挿入される大径のものとの間で段付きとなる。なお、この段付部は、シャフト弾性部１４を保持する保持部１１Ｄとなる。
ガイド本体部１１Ｂは、内部空間１６にシャフト部１３やピストン部１５などの部品を組み込むために、キャップとしてネジ機構によって着脱可能となっている。そして、吸着用パッド１０は、本体部１１の主たる部分と、キャップ部分であるガイド本体部１１Ｂとの連結箇所に設けられ、内部空間１６からのエアリークを防止するためのシール部２３（例えば、Ｏリング）を備える。
また、吸着用パッド１０は、パッド部１２を備える。パッド部１２は、例えばニトリルゴム、シリコーンゴム、導電性ゴムなどゴム部材から構成される。ゴム部材によれば、ワークＷと接する際にワークＷを保護することができる。パッド部１２は、本体部１１（ガイド本体部１１Ｂ）が有するキャップ保持部１１Ｃによって保持される。本実施形態では、フランジ状のキャップ保持部１１Ｃに嵌め合わさるようにパッド部１２の内部に周溝が形成され、本体部１１にパッド部１２が取り付けられる（保持される）。ゴム部材で構成されるパッド部１２であれば、本体部１１とパッド部１２との連結箇所のシール性は確保される。なお、本実施形態では、本体部１１とパッド部１２とは別体とし、本体部１１にパッド部１２を取り付けているが、本体部１１とパッド部１２が例えば樹脂材によって一体成形されてもよい。
本体部１１に取り付けられたパッド部１２は、内部空間１６（ガイド貫通部１６Ｄ）と連通するパッド貫通部１２Ｂを有する。このパッド貫通部１２Ｂは、ワークＷを吸着するための面積を確保するためのリップ１２Ａで末広がって開口する。リップ１２Ａの径は、例えばワークＷが数ｍｍ角の小型化、軽量化された半導体チップの場合、３ｍｍ程度となるが、ワークＷの大きさ、重さによっては２００ｍｍ程度となる。このようなパッド貫通部１２Ｂは、ワークＷがパッド部１２で吸着されている場合、真空状態となる（図３参照）。
また、吸着用パッド１０は、シャフト部１３を備える。シャフト部１３は、本体部１１と同様に、例えば金属などの導電性部材から構成される。シャフト部１３は、長さ方向（軸線Ｘ方向）において下方側から上方側へ、先端部１３Ａ、保持部１３Ｂ、フランジ部１３Ｃがこの順で構成されている。保持部１３Ｂは先端部１３Ａよりも大径とし、フランジ部１３Ｃは保持部１３Ｂよりも更に大径としている。
このようなシャフト部１３は、長さ方向（軸線Ｘ方向）に貫通するシャフト貫通部１３Ｄを有する。シャフト貫通部１３Ｄは、ワークＷを吸着する際にエア流路として用いられる（図２参照）。また、シャフト貫通部１３Ｄは、ピストン部１５によって開閉される。シャフト貫通部１３Ｄがピストン部１５によって閉塞される場合には、ピストン部１５がシャフト部１３のフランジ部１３Ｃと接することとなる。本実施形態では、シャフト部１３のフランジ部１３Ｃにピストン部１５が接触する箇所をポートＡとし、フランジ部１３Ｃがガイド本体部１１Ｂに接触する箇所をポートＢとして説明する。
また、フランジ部１３Ｃは、上面側（ピストン部１５側）から窪む窪み部２４を有する。シャフト貫通部１３Ｄは、この窪み部２４の奥側で開口している。窪み部２４を設けることで、シャフト部１３およびピストン部１５を本体部１１へ容易に組み付けることができる。なお、窪み部２４を設けずに、フランジ部１３Ｃの上面を平坦面とし、シャフト貫通部１３Ｄを開口する構成であってもよい。
また、吸着用パッド１０は、シャフト弾性部１４を備える。シャフト弾性部１４は例えばステンレス材から構成されるコイル状のスプリングであり、これにシャフト部１３が挿入される。シャフト弾性部１４は、ガイド貫通部１６Ｄ内で本体部１１（ガイド本体部１１Ｂ）の保持部１１Ｄと、シャフト部１３の保持部１３Ｂとの間に設けられる。そして、シャフト弾性部１４は、フリー状態では、先端部１３Ａをパッド部１２内に引き込んでシャフト部１３を保持する（図１参照）。
本実施形態では、内部空間１６内でのシャフト部１３のストローク量ｘ１（図１参照）が、シャフト部１３の先端部１３Ａがパッド部１２外へ飛び出す最大飛び出し量ｘ２（図５参照）よりも大きくなるように構成される。ここで、ストローク量ｘ１は、シャフト部１３のフランジ部１３Ｃがストッパ部１１Ｆに接した状態から、シャフト部１３のフランジ部１３Ｃがガイド本体部１１Ｂに接する（ポートＢ）までの距離である。
また、吸着用パッド１０は、ピストン部１５を備える。このピストン部１５は、内部空間１６内でシャフト部１３とエア出入部１１Ａとの間に設けられる。このピストン部１５は、推力によって往復動（上下動）する。具体的には、ピストン部１５は、真空エアによって上方に、真空破壊エアによって下方に移動する。
このピストン部１５は、エア出入部１１Ａ側の窪み部１５Ａと、窪み部１５Ａの深さ方向（軸線Ｘ方向）と交差する方向に延びて窪み部１５Ａと連通する交差貫通部１５Ｂ（図１では軸線Ｙを示す）と、を有する。吸着用パッド１０へ供給されてきた真空破壊エアによりピストン部１５およびシャフト部１３が押し下げられる。この押し下げ動作中に交差貫通部１５Ｂおよびエア流路（シャフト部１３の外周面と内部空間１６の内周面との間で形成される）により真空破壊エアをパッド部１２へ向かって送り出すことができる。なお、窪み部１５Ａの底部にはシャフト部１３側へ軸線Ｘ方向に沿って貫通する小さな孔（エア流量が小さいもの）を設けておくこともできる。
また、吸着用パッド１０は、ピストン弾性部２５を備える。ピストン弾性部２５は、例えばステンレス材から構成されるコイル状のスプリングである。このピストン弾性部２５は、本体部１１の保持部１１Ｅ（窪み部）と、ピストン部１５の窪み部１５Ａとに係るようにして保持される（嵌め込まれる）。本実施形態では、ピストン弾性部２５としてシャフト弾性部１４よりも推力（ばね荷重）が小さいものを用いている。
次に、吸着用パッド１０の動作方法を説明する。フリー状態（エア出入がない状態）の吸着用パッド１０は、図１（図６のポジション１に対応）に示すように、シャフト部１３の先端部１３Ａがパッド部１２内に引き込んだ状態となる。フリー状態であるので、真空エアおよび真空破壊エアがオフ状態である。また、ワークＷも未吸着となる。また、ポートＡが閉状態、ポートＢが開状態となる。
フリー状態の吸着用パッド１０に対して、真空エアをオン状態（真空破壊エアはオフ状態）とすると、図２（図６のポジション２に対応）に示すような状態となる。具体的には、先端部１３Ａをパッド部１２内に引き込んだ状態のまま、内部空間１６から真空エアの吸引を行う。これにより、ピストン部１５がストッパ部１１Ｇに接するまで上動し、ポートＡが開状態となる。このときエア流れ（真空流れ）は、パッド部１２のリップ１２Ａからシャフト貫通部１３Ｄ内、シャフト部１３の外周面と内部空間１６の内周面との間（ガイド貫通部１６Ｄおよびシャフト室１６Ａ）、ピストン部１５の内部を含むピストン室１６Ｂ、エア貫通部１６Ｃで発生する。このため、真空エアによってパッド部１２のリップ１２Ａには吸引力が発生する。
引き続き真空エアをオン状態として真空吸引をすると、図３（図６のポジション３に対応）に示すようなワークＷがパッド部１２のリップ１２Ａで吸着された状態となる。ワークＷを吸着した後は、エアの流れが無くなった真空状態となり、ポートＡが閉状態となる。この状態においてワークＷは搬送されることとなる。
このように、吸着用パッド１０によれば、先端部１３Ａをパッド部１２内に引き込んだ状態のまま、内部空間１６から真空エアの吸引を行い、パッド部１２にワークＷを吸着させることができる。このため、吸着時にシャフト部１３がワークＷと接することなく、ワークＷが保護され、ワークＷへのダメージを軽減することができる。
真空状態の吸着用パッド１０に対して、真空破壊エアをオン状態（真空エアはオフ状態）とすると、図４（図６のポジション４に対応）に示すような状態となる。すなわち、真空破壊エアが供給されると吸着用パッド１０の内圧が上昇して、パッド部１２から真空破壊エアを吐出させることができる。
具体的には、真空破壊エアが供給されると、ピストン部１５を介してシャフト部１３を押し出す推力によりシャフト部１３が下方側へ動き出す。このとき、シャフト部１３のフランジ部１３Ｃにピストン部１５が接触してポートＡは閉状態となっている。シャフト部１３が動いている間は真空破壊エアがガイド貫通部１６Ｄの内周面とシャフト部１３の外周面との間（ポートＢ）でエア流れが発生し、パッド部１２のリップ１２Ａからは真空破壊エアが吐出する。この真空破壊エアによってパッド部１２のリップ１２ＡからはワークＷが離脱（未吸着）することとなる。なお、シャフト部１３のストローク量によって真空破壊エアの吐出時間の調整が可能である。
パッド部１２のリップ１２Ａから真空破壊エアを吐出させた後も真空破壊エアを供給し続け、ピストン部１５（真空破壊エア）の押し付けによってシャフト部１３の先端部１３Ａをパッド部１２のリップ１２Ａから飛び出させる。これにより、パッド部１２のリップ１２ＡにワークＷが貼り付いたままの場合であっても（特にワークＷが軽量のときに起こり易い）、シャフト部１３の押し出しによってワークＷを離脱させることができる。
引き続き真空破壊エアをオン状態としてエア供給をすると、図５（図６のポジション５に対応）に示すような状態となる。すなわち、シャフト部１３の先端部１３Ａをパッド部１２から飛び出させた後に、パッド部１２からの真空破壊エアの吐出を停止することができる。ここでは、シャフト部１３の先端部１３Ａがパッド部１２外に完全に飛び出した状態（最大飛び出し量ｘ２）となる。具体的には、ピストン部１５の押し付けによってシャフト部１３のフランジ部１３Ｃがガイド本体部１１Ｂに接するまで下動し、ポートＢが閉状態となる。これにより、パッド部１２のリップ１２Ａからの真空破壊エアの吐出が遮断され、ワークＷの吹き飛ばしが無くなり、離脱を安定して行うことができる。
１０ 吸着用パッド； １１ 本体部； １１Ａ エア出入部；
１１Ｂ ガイド本体部； １１Ｃ キャップ保持部； １１Ｄ 保持部；
１１Ｅ 保持部； １１Ｆ、１１Ｇ ストッパ部；
１２ パッド部； １２Ａ リップ； １２Ｂ パッド貫通部；
１３ シャフト部； １３Ａ 先端部； １３Ｂ 保持部；
１３Ｃ フランジ部； １３Ｄ シャフト貫通部； １４ シャフト弾性部；
１５ ピストン部； １５Ａ 窪み部； １５Ｂ 交差貫通部；
１６ 内部空間； １６Ａ シャフト室； １６Ｂ ピストン室；
１６Ｃ エア貫通部； １６Ｄ ガイド貫通部； ２２、２３ シール部；
２４ 窪み部； ２５ ピストン弾性部；

Claims (6)

  1. 内部空間を有する本体部と、
    前記内部空間と連通するパッド部と、
    先端部を有し、前記先端部を前記パッド部に向けて前記内部空間に設けられ、前記先端部が前記パッド部の内外へ往復動するシャフト部と、
    前記先端部を前記パッド部内に引き込んで前記シャフト部を保持するシャフト弾性部と、
    を備えることを特徴とする吸着用パッド。
  2. 請求項１記載の吸着用パッドにおいて、
    前記シャフト部のストローク量が、前記シャフト部の前記先端部が前記パッド部外へ飛び出す最大飛び出し量よりも大きいことを特徴とする吸着用パッド。
  3. 請求項１または２記載の吸着用パッドにおいて、
    前記内部空間と連通するエア出入部と、
    前記内部空間内で前記シャフト部と前記エア出入部との間に設けられるピストン部と、
    を更に備えることを特徴とする吸着用パッド。
  4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の吸着用パッドにおいて、
    前記本体部は、前記パッド部と連通し、前記シャフト部の先端部が挿入されるガイド貫通部を更に有し、
    前記シャフト部は、前記先端部と反対側に前記ガイド貫通部よりも大径のフランジ部を更に有することを特徴とする吸着用パッド。
  5. 内部空間を有する本体部と、前記内部空間と連通するパッド部と、先端部を前記パッド部に向けて前記内部空間に設けられるシャフト部と、を備える吸着用パッドの動作方法であって、
    （ａ）前記先端部を前記パッド部内に引き込んだ状態のまま、前記内部空間からエアの吸引を行い、前記パッド部にワークを吸着させる工程と、
    （ｂ）前記（ａ）工程の後、前記内部空間へエアの供給を行い、前記パッド部からエアを吐出させた後、前記シャフト部を前記パッド部から飛び出させる工程と、
    を含むことを特徴とする吸着用パッドの動作方法。
  6. 請求項５記載の吸着用パッドの動作方法において、
    前記（ｂ）工程では、前記先端部を前記パッド部から飛び出させた後に、前記パッド部からのエアの吐出を停止することを特徴とする吸着用パッドの動作方法。
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