JP2017150017A - 蒸着マスクの製造方法及び有機elディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】蒸着マスクに含まれるフィルムの変形を抑制することが可能な、蒸着マスクの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】補強バー21と、補強バーよりも面積が広いフィルム30と、を備える蒸着マスク準完成体11を用意し、フィルムの補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターン3aを形成し、フィルムの補強バーとは反対の表面の補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部37を形成する蒸着マスク1の製造方法。好ましくは、開口パターンの形成と凸部の形成はレーザー光の照射によって行われ、凸部の形成時のレーザー光の出力は開口パターンの形成時のレーザー光の出力よりも低い蒸着マスクの製造方法
【選択図】図4
【解決手段】補強バー21と、補強バーよりも面積が広いフィルム30と、を備える蒸着マスク準完成体11を用意し、フィルムの補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターン3aを形成し、フィルムの補強バーとは反対の表面の補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部37を形成する蒸着マスク1の製造方法。好ましくは、開口パターンの形成と凸部の形成はレーザー光の照射によって行われ、凸部の形成時のレーザー光の出力は開口パターンの形成時のレーザー光の出力よりも低い蒸着マスクの製造方法
【選択図】図4
Description
本発明は、蒸着マスクの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法に関する。
特許文献1には、スリットが設けられた金属マスクと、金属マスクの表面に位置し、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクと、が積層されてなる蒸着マスクが開示されている。
ところで、有機ELディスプレイの製造工程において、上記のような蒸着マスクを用いてアレイ基板の画素部に有機膜を蒸着する場合、蒸着された有機膜が蒸着マスクに接触して損傷してしまうおそれがあることから、このような接触を防ぐためのスペーサーをアレイ基板側に設けることがある。
しかしながら、アレイ基板と蒸着マスクの合わせずれが発生した場合等に、アレイ基板側に設けられたスペーサーが、金属マスクと開口部の間の樹脂マスクのみの部分に接触すると、樹脂マスクが損傷して使用できなくなるおそれがある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、蒸着マスクに含まれるフィルムの変形を抑制することが可能な、蒸着マスクの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の蒸着マスクの製造方法では、補強バーと、前記補強バーよりも面積が広いフィルムと、を備える蒸着マスク準完成体を用意し、前記フィルムの前記補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターンを形成し、前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部を形成する。
また、本発明の一態様では、前記凸部の形成は、レーザー光の照射により行われてもよい。
また、本発明の一態様では、前記開口パターンの形成と前記凸部の形成は、レーザー光の照射により行われ、前記凸部の形成時のレーザー光の出力は、前記開口パターンの形成時のレーザー光の出力よりも低くてもよい。
また、本発明の一態様では、前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重ならない領域であって、前記開口パターンのうちの前記補強バーを挟まずに隣り合う一対の開口の間の領域にも少なくとも1つの凸部を形成してもよい。
また、本発明の有機ELディスプレイの製造方法では、補強バーと、前記補強バーよりも面積が広いフィルムと、を備える蒸着マスク準完成体を用意し、前記フィルムの前記補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターンを形成し、前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部を形成し、前記開口パターンを通じて有機材料を蒸着する。
本発明によると、フィルムに形成された凸部によって、フィルムの変形を抑制することが可能である。
本発明の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る蒸着マスクの製造方法により製造される蒸着マスク1の第1の構成例を示す底面図である。図2は、図1のII−II線で切断したときの断面図である。
蒸着マスク1は、厚さ方向に隣り合う補強枠2とマスク3を備えている。以下の説明では、蒸着マスク1の厚さ方向のうち、補強枠2に対してマスク3が位置する方向を上方向と呼び、マスク3に対して補強枠2が位置する方向を下方向と呼ぶ。成膜時には、ターゲットとなるアレイ基板100は、蒸着マスク1に対して上方向、すなわちマスク3に対して補強枠2とは反対方向に配置される。
補強枠2は、マスク3を支持するために設けられる。補強枠2は、例えば金属材料からなり、金属マスクとも呼ばれる。具体的には、補強枠2は、例えばニッケル、ニッケル合金、インバー又はインバー合金等の磁性金属材料からなる。補強枠2の厚さは、例えば10μm〜50μm程度である。補強枠2が磁性金属材料からなる場合、成膜時に蒸着マスク1を磁力によって固定することが可能である。補強枠2は、金属材料に限られず、例えば硬質樹脂材料からなってもよい。
補強枠2は、互いに離れて並んだ複数の補強バー21を備えており、隣り合う補強バー21の間には上下方向に貫通した隙間2aが形成されている。隙間2aは、補強バー21の延伸方向に長い矩形状であり、マスク3に形成された複数の開口3aを内包する大きさを有している。以下、補強バー21の延伸方向を単に「延伸方向」と呼び、補強バー21の幅方向を単に「幅方向」と呼ぶ。
マスク3は、複数の開口3aがマトリクス状に配列した開口パターンを備えている。マスク3は、例えば樹脂材料からなり、樹脂マスクとも呼ばれる。具体的には、マスク3は、例えばポリイミドやポリエチレンテレフタレート(PET)等の樹脂材料からなる。特には、線膨張係数が低く、耐熱性に優れるという観点からポリイミドが好ましい。マスク3の厚さは、例えば5μm〜30μm程度である。
開口3aは、例えば延伸方向に並んだ列が幅方向に互いに離れて並ぶように配列しており、補強バー21は、当該列の間に1つおきに配置されている。見方を変えると、開口3aは、例えば各々の補強バー21を挟むように、補強バー21に対して幅方向の両側に位置して、延伸方向に沿って並んでいる。開口3aは、例えば延伸方向に大きい矩形状である。
マスク3は、例えば幅方向にバー形成領域31、バー周辺領域33及びバー非形成領域35を含んでいる。バー形成領域31は、補強バー21と平面的に重なる領域である。すなわち、マスク3のうち平面視において補強バー21と重なる領域が、バー形成領域31である。バー周辺領域33は、補強バー21と開口3aの列との間の領域である。例えば、平面的に見たときに補強バー21の縁の各点から当該点に最も近い開口3aの縁まで結んだ直線の集合が、バー周辺領域33である。バー非形成領域35は、補強バー21を挟まずに幅方向に隣り合う開口3aの列の間の領域である。
マスク3の上面、すなわちマスク3に対して補強枠2とは反対の表面のうち、補強バー21と平面的に重なるバー形成領域31には、上方向に突出する複数の凸部37が形成されている。凸部37は、成膜時にターゲットとなるアレイ基板100と接触することで、蒸着された有機膜がマスク3の開口3aの縁等に接触して損傷することを抑制するためのものである。
図10に示される参考例のようにアレイ基板90にスペーサー99を設けた場合、アレイ基板90と蒸着マスク91の合わせずれが発生したときに、スペーサー99が、補強バー92とマスク93の開口93aとの間のバー周辺領域933に接触して、マスク93が損傷するおそれがある。
これに対し、図1及び図2に示される本実施形態では、マスク3の上面の補強バー21と平面的に重なるバー形成領域31に凸部37が形成されるので、アレイ基板100と蒸着マスク1の合わせずれが発生したとしても、マスク3のバー周辺領域33の損傷を抑制することが可能である。
凸部37は、例えば補強バー21の幅より小さい直径の円板状に形成されており、延伸方向に一定の間隔で並んでいる。凸部37の高さは、例えば2μm〜4μm程度である。凸部37は、例えば開口3aの幅又はバー周辺領域33の幅より小さくてもよい。また、凸部37は、円板状に限られず、例えば矩形状であってもよい。凸部37は、例えば補強バー21を挟んで幅方向に隣り合う開口3aの間にそれぞれ形成される。例えば、凸部37の延伸方向の位置は、開口3aの延伸方向の中央部と揃えられる。
図3は、本発明の実施形態に係る蒸着マスクの製造方法の工程例を示す図である。
まず、工程(a)では、補強板20とフィルム30を備える積層体10を用意する。具体的には、例えばニッケル、ニッケル合金、インバー又はインバー合金等の磁性金属材料からなる、厚みが例えば10μm〜50μm程度の補強板20の表面に、樹脂溶液を塗布し、200℃〜300℃程度の温度で乾燥させることで、例えばポリイミドやポリエチレンテレフタレート(PET)等の樹脂材料からなる、厚みが5μm〜30μm程度のフィルム30を形成する。
次に、工程(b)では、積層体10における補強板20を選択的に除去することで、補強バー21を備える補強枠2を形成する。すなわち、補強バー21とフィルム30を備える準完成体11を用意する。補強板20を選択的に除去して補強バー21と隙間2aを形成することにより、フィルム30の面積は補強バー21よりも広くなる。なお、補強板20を選択的に除去して補強バー21と隙間2aを形成する際に、位置合わせのためのアライメントマークを同時に形成してもよい。
具体的には、(b)では、積層体10の補強板20をフォトエッチング技術によりパターニングすることで、補強バー21と隙間2aを形成する。これに限られず、例えばフィルム30の表面に無電解めっき技術とフォトエッチング技術によりシード層を形成した上で、補強バー21をめっき技術により形成してもよい。
次に、工程(c)では、準完成体11をフレーム8に固定する。フレーム8は、例えば磁性金属材料からなる。具体的には、準完成体11の端部をフレーム8上に配置し、準完成体11をフレーム8の中空領域に架け渡した状態で、準完成体11の端部をフレーム8にスポット溶接により固定する。
次に、工程(d)では、準完成体11のフィルム30にレーザー光を照射することで、開口3aと凸部37をそれぞれ形成する。すなわち、フィルム30に開口3aと凸部37をそれぞれ形成してマスク3を得ることで、補強枠2とマスク3を備える蒸着マスク1を得る。
ここでは、例えば波長が400nm以下のレーザー光を使用して、フィルム30をアブレーションする。レーザー光を照射するヘッドは、例えば準完成体11に対して面内方向に移動可能に構成されており、アライメントマークを基準に指定された位置まで移動し、フィルム30にレーザー光を照射する。また、レーザー光を照射するヘッドには、開口3a又は凸部37を形成するためのビーム成形用マスクが取り付けられる。
工程(d)は、凸部37を形成する工程と、開口3aを形成する工程とを含んでおり、以下に説明するようにどちらの工程を先に行ってもよい。
図4に示される工程(d)の第1例では、凸部37を形成する工程(d−1A)が先に行われ、開口3aを形成する工程(d−2A)が後に行われる。
まず、工程(d−1A)では、フィルム30の上面、すなわちフィルム30に対して補強バー21とは反対の表面のうち、補強バー21と平面的に重なる領域(図1及び図2におけるバー形成領域31)に凸部37を形成する。レーザー光は、準完成体11の上方向の位置からフィルム30の上面に向かって照射される。レーザー光の出力は、フィルム30の厚さ方向の一部を除去可能な程度、具体的には凸部37の高さが例えば2μm〜4μm程度となるように調整される。このため、凸部37の形成時のレーザー光の出力は、開口3aの形成時のレーザー光の出力よりも低い。
次に、工程(d−2A)では、フィルム30の補強バー21と平面的に重ならない領域に開口3aのパターンを形成する。レーザー光は、上記工程と同様に、準完成体11の上方向の位置からフィルム30の上面に向かって照射される。レーザー光の出力は、フィルム30を厚さ方向に貫通することが可能な程度に調整される。このため、開口3aの形成時のレーザー光の出力は、凸部37の形成時のレーザー光の出力よりも高い。また、開口3aの形成時のレーザー光は、凸部37の形成時のレーザー光よりも絞られている。これにより、蒸着マスク1が完成する。
なお、準完成体11の複数の領域にレーザー光を照射する場合、全ての領域に対して工程(d−1A)を行った後に全ての領域に対して工程(d−2A)を行ってよい。これによると、レーザー光の出力の調整やビーム成形用マスクの取り替えの手間を低減できる。これに限られず、1つの領域に対して工程(d−1A)を行った後に工程(d−2A)を行う操作を、全ての領域に対して順番に行ってもよい。
図5に示される工程(d)の第2例では、開口3aを形成する工程(d−1B)が先に行われ、凸部37を形成する工程(d−2B)が後に行われる。この第2例では、2つの工程の順番が上記第1例と反対になるだけで、開口3aや凸部37の形成の方法や条件などは上記第1例と同様である。
図6は、蒸着マスクの第2の構成例を示す底面図である。図7は、図6のVII−VII線で切断したときの断面図である。第2の構成例では、マスク3の上面、すなわちマスク3に対して補強枠2とは反対の表面のうち、補強バー21を挟まずに幅方向に隣り合う開口3aの列の間の領域であるバー非形成領域35にも、凸部37と同様の上方向に突出する複数の凸部39が形成されている。凸部39は、上記工程(d)において凸部37と同時に形成される。
凸部39は、例えば凸部37と同様の形状及び高さを有しており、バー非形成領域35において延伸方向に一定の間隔で並んでいる。凸部39は、例えば補強バー21を挟まずに幅方向に隣り合う開口3aの間にそれぞれ形成される。例えば、凸部39の延伸方向の位置は、凸部37の延伸方向の位置と揃えられる。なお、凸部39を凸部37より低くして、マスク3が上方向に撓んだときにアレイ基板100と接触する予備のスペーサーとしてもよい。
図8は、蒸着マスクの第3の構成例を示す底面図である。図9は、図8のIX−IX線で切断したときの断面図である。第3の構成例では、凸部37の一部のみが補強バー21と平面的に重なるように、凸部37が形成されている。すなわち、凸部37の一部のみがバー形成領域31に含まれ、残部はバー周辺領域33に含まれている。具体的には、幅方向に互いに離れた一対の凸部37が、補強バー21の両縁からそれぞれはみ出すように配置されている。
凸部37の少なくとも一部が補強バー21と平面的に重なることで、第1の構成例と同様に、マスク3のバー周辺領域33の損傷を抑制することが可能である。すなわち、マスク3が補強バー21から上方向の力を受ける位置と、マスク3が凸部37から下方向の力を受ける位置とが幅方向に離れていないので、バー周辺領域33が折れ曲がることを抑制することが可能である。
図11は、本発明の実施形態に係る有機ELディスプレイの製造方法の工程例を示す図である。同図では、1画素分の断面構造を示している。上記工程(d)により蒸着マスク1が完成した後、蒸着マスク1に形成された開口3aのパターンを通じてアレイ基板100に有機材料を蒸着する工程が行われる。
アレイ基板100において、基板41の上方には半導体膜51が配置されており、基板41及び半導体膜51は層間絶縁膜42によって覆われている。層間絶縁膜42の上方にはゲート電極52が配置されており、層間絶縁膜42及びゲート電極52は層間絶縁膜43によって覆われている。層間絶縁膜43の上方にはソース電極53及びドレイン電極54が配置されており、層間絶縁膜42,43にはソース電極53及びドレイン電極54を半導体膜51に接続するためのスルーホールが形成されている。これら半導体膜51、ゲート電極52、ソース電極53及びドレイン電極54によって画素回路のTFTが構成されている。ゲート電極52は不図示の走査線に接続されており、ソース電極53は不図示の信号線が接続されている。基板41は、例えばガラス、又はポリイミド等の可撓性がある樹脂からなる。半導体膜51は、例えばLTPS半導体、アモルファス半導体、酸化物半導体などからなる。層間絶縁膜42,43は、例えば酸化シリコンや窒化シリコン等の無機材料からなる無機絶縁膜である。ゲート電極52、ソース電極53及びドレイン電極54は、例えばアルミニウム、銀、銅、ニッケル、チタンなどの金属からなる。
層間絶縁膜43、ソース電極53及びドレイン電極54は有機平坦化膜44によって覆われており、有機平坦化膜44の上方には画素電極55が配置されている。有機平坦化膜44には、画素電極55をドレイン電極54に接続するためのスルーホールが形成されている。有機平坦化膜44は、例えばアクリル樹脂などの有機材料を含む有機絶縁膜であり、他の層間絶縁膜と比較して厚く形成されており、平坦な上面を有している。画素電極55は、例えばアノードであり、各画素に対応するようにマトリクス状に配列している。画素電極55は、例えばアルミニウム、銀、銅、ニッケル、チタンなどの金属からなり、反射面を有している。有機平坦化膜44及び画素電極55は画素分離膜45によって覆われており、画素分離膜45には画素電極55の縁を除く一部を露出させる開口が形成されている。具体的には、画素分離膜45は、画素電極55の周縁部のみを全周に渡って覆っており、画素電極55の周縁部よりも内側の中央部を露出させている。画素分離膜55の開口を形成する内縁部は、緩やかなテーパー形状を有している。画素分離膜55は、例えばアクリル樹脂などの有機材料を含む有機絶縁膜であり、バンク又はリブとも呼ばれる。
上記蒸着マスク1を利用して有機材料を蒸着する工程は、画素分離膜45に形成された開口内に露出した画素電極55の上方に有機膜56を形成する際に行われる。蒸着マスク1のマスク3に形成された開口3aは画素電極55に対応しており、開口3aを通過した有機材料は、画素分離膜45に形成された開口内及びその周囲に付着し、これにより有機膜56が形成される。
有機膜56は、発光層を含んでいる。有機膜56は、例えば画素電極55の側から順番に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層を含んでいる。有機膜56の積層構造はこれに限られず、少なくとも発光層を含んでいれば、特には限定されない。また、有機膜56に含まれる発光層の発光色は白色であるが、これに限られず、他の色であってもよい。その後、有機膜56は、例えばインジウムスズ酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)などの透明導電材料からなるカソードとしての対向電極によって覆われ、さらに、対向電極は、例えば酸化シリコンや窒化シリコン等の無機材料からなる封止膜によって覆われ、これによりアレイ基板100が完成する。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形実施が当業者にとって可能であるのはもちろんである。
例えば、上記構成例では、フィルム30の一部の厚さを減ずることによって凸部37を形成したが、これに限られず、別材料からなる凸部をフィルム30の上面に付加してもよい。また、フィルム30に開口3aを形成する際は、レーザー光を準完成体11の下方向の位置からフィルム30の下面に向かって照射してもよい。また、フィルム30に開口3a又は凸部37を形成する際は、レーザー光の照射に限られず、例えばフォトエッチング技術により形成してもよい。
1,1A,1B 蒸着マスク、10 積層体、11 準完成体、20 補強板、30 フィルム、2 補強枠、2a 隙間、21 補強バー、3 マスク、3a 開口、31 バー形成領域、33 バー周辺領域、35 バー非形成領域、37 凸部、39 凸部、41 基板、42 層間絶縁膜、43 層間絶縁膜、44 有機平坦化膜、45 画素分離膜、51 半導体膜、52 ゲート電極、53 ソース電極、54 ドレイン電極、55 画素電極、56 有機膜、8 フレーム、90 アレイ基板、91 蒸着マスク、92 補強バー、93 マスク、93a 開口、933 バー周辺領域、99 スペーサー、100 アレイ基板。
Claims (5)
- 補強バーと、前記補強バーよりも面積が広いフィルムと、を備える蒸着マスク準完成体を用意し、
前記フィルムの前記補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターンを形成し、
前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部を形成する、
蒸着マスクの製造方法。 - 前記凸部の形成は、レーザー光の照射により行われる、
請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記開口パターンの形成と前記凸部の形成は、レーザー光の照射により行われ、
前記凸部の形成時のレーザー光の出力は、前記開口パターンの形成時のレーザー光の出力よりも低い、
請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重ならない領域であって、前記開口パターンのうちの前記補強バーを挟まずに隣り合う一対の開口の間の領域にも少なくとも1つの凸部を形成する、
請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 補強バーと、前記補強バーよりも面積が広いフィルムと、を備える蒸着マスク準完成体を用意し、
前記フィルムの前記補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターンを形成し、
前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部を形成し、
前記開口パターンを通じて有機材料を蒸着する、
有機ELディスプレイの製造方法。
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