JP2016502753A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 130
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 85
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 42
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Description
本発明の一実施形態によると，基板処理装置は基板を加工する工程が行われる工程チャンバーと，前記基板に含まれた汚染物質を除去するパージチャンバーと，前記工程チャンバー及び前記パージチャンバーが側面に連結され，前記工程チャンバー及び前記パージチャンバーの間で前記工程が完了された前記基板を前記パージチャンバーに移送する基板ハンドラーを具備するトランスファチャンバーと，を含み，前記パージチャンバーは，内部空間及び前記内部空間に前記基板が出入する通路を有するチャンバーと，前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，前記排気ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少する。
前記基板ホルダは，前記基板の形状に対応する開口及び前記開口と連通して前記通路側に位置する開放部，そして前記開口の周縁に沿って形成された装着溝を有し上下に積層される複数のローディングプレートと，前記ローディングプレートの上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を含み，前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排出孔が，前記ローディングプレート間又は最上段のローディングプレートと前記ホルダ蓋間にそれぞれ配置されている。
前記基板ホルダは，前記基板の上部に設置される上部フレームと，前記基板の下部に設置される下部フレームと，前記上部フレームと前記下部フレームを連結し，前記基板の縁部分が収容される複数の支持スロットが長さ方向に沿って形成された一つ以上の支持ロッドと，前記基板の上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を具備し，前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排出孔が，前記基板間又は最上段の基板とホルダ蓋間にそれぞれ配置されている
本発明の一実施形態によると，内部空間及び前記内部空間に基板が出入する通路を有するチャンバーと，前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，前記排気ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少し，前記基板ホルダは，前記基板の形状に対応する開口及び前記開口と連通して前記通路側に位置する開放部，そして前記開口の周縁に沿って形成された装着溝を有し上下に積層される複数のローディングプレートと，前記ローディングプレートの上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を含み，前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排気孔が，前記ローディングプレート間又は最上段のローディングプレートとホルダ蓋間にそれぞれ配置されている。
本発明の一実施形態によると，内部空間及び前記内部空間に基板が出入する通路を有するチャンバーと，前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，前記排出ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少し，前記基板ホルダは，前記基板の上部に設置される上部フレームと，前記基板の下部に設置される下部フレームと，前記上部フレームと前記下部フレームを連結し，前記基板が縁部分が収容される複数の支持面を有する一つ以上の支持ロッドと，前記基板の上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を具備し，前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排気孔が，前記基板間又は最上段の基板とホルダ蓋間にそれぞれ配置されている。
図６に示すように，パージチャンバー１の内部空間１５にボートタイプの基板ホルダ３０を設置することで，基板Ｗと基板ホルダ３０との間の接触面積を最小化することができる。よって，基板Ｗの大部分の面積にガスを供給することができるため基板Ｗに含まれた腐食性ヒュームを殆ど除去することができる。図示していないが，ボートタイプの基板ホルダ３０に，図３を介して説明したホルダ蓋３８を具備することで，内部空間１５を区画して拡散板６０，６４，６７を介して流入されたガスの最大量を基板Ｗに供給することができる。
Claims (7)
- 基板を加工する工程が行われる工程チャンバーと，
前記基板に含まれた汚染物質を除去するパージチャンバーと，
前記工程チャンバー及び前記パージチャンバーが側面に連結され，前記工程チャンバー及び前記パージチャンバーの間で前記工程が完了された前記基板を前記パージチャンバーに移送する基板ハンドラーを具備するトランスファチャンバーと，を含み，
前記パージチャンバーは，
内部空間及び前記内部空間に前記基板が出入する通路を有するチャンバーと，
前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，
前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，
前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，
前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，
前記排気ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，
前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，
前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，
前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少することを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板ホルダは，
前記基板の形状に対応する開口及び前記開口と連通して前記通路側に位置する開放部，そして前記開口の周縁に沿って形成された装着溝を有し上下に積層される複数のローディングプレートと，
前記ローディングプレートの上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を含み，
前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排出孔が，前記ローディングプレート間又は最上段のローディングプレートと前記ホルダ蓋間にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。 - 前記基板ホルダは，
前記基板の上部に設置される上部フレームと，
前記基板の下部に設置される下部フレームと，
前記上部フレームと前記下部フレームを連結し，前記基板の縁部分が収容される複数の支持スロットが長さ方向に沿って形成された一つ以上の支持ロッドと，
前記基板の上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を具備し，
前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排出孔が，前記基板間又は最上段の基板とホルダ蓋間にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。 - 前記ガスは不活性ガスであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
- 前記パージチャンバーは，外部から供給された冷媒が循環する冷媒流路を更に有することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
- 内部空間及び前記内部空間に基板が出入する通路を有するチャンバーと，
前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，
前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，
前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，
前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，
前記排気ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，
前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，
前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，
前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少し，
前記基板ホルダは，
前記基板の形状に対応する開口及び前記開口と連通して前記通路側に位置する開放部，そして前記開口の周縁に沿って形成された装着溝を有し上下に積層される複数のローディングプレートと，
前記ローディングプレートの上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を含み，
前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排気孔が，前記ローディングプレート間又は最上段のローディングプレートとホルダ蓋間にそれぞれ配置されていることを特徴とするパージチャンバー。 - 内部空間及び前記内部空間に基板が出入する通路を有するチャンバーと，
前記チャンバーの内部に設置され，複数の前記基板が水平方向で上下に間隔を開けて置かれる基板ホルダと，
前記通路を基準に前記チャンバーの一側面に設置されて前記内部空間に向かってガスを供給するガス供給ポートと，
前記ガス供給ポートの反対側の前記チャンバーの側面に設置されて前記内部空間の前記ガスを排出する排気ポートと，
前記ガス供給ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるよう設けられたガス供給路上に，前記ガス供給ポートを介して供給されたガスを拡散するために相互に間隔を開けて設置された複数の拡散板と，
前記排気ポートと前記基板ホルダ間における前記チャンバーの側壁に前記基板ホルダと同じ高さとなるようガス排出路が設けられ，前記内部空間のガスを排出するための前記ガス排出路上に設置された一つ以上のバッフルを含み，
前記拡散板から前記バッフルに向かって前記ガスが水平に流れるように，前記ガスは，前記基板の出入方向と垂直の流動方向を有し，
前記拡散板の幅と前記バッフルの幅が前記基板の直径よりも大きく，
前記ガス供給路の断面積が前記基板ホルダに向かって減少し，
前記基板ホルダは，
前記基板の上部に設置される上部フレームと，
前記基板の下部に設置される下部フレームと，
前記上部フレームと前記下部フレームを連結し，前記基板が縁部分が収容される複数の支持スロットを有する一つ以上の支持ロッドと，
前記基板の上部に離隔設置され，前記内部空間を上下に区画するホルダ蓋と，を具備し，
前記拡散板のうち，前記基板ホルダに最も近接配置された一の拡散板と前記バッフルが前記基板ホルダと接触し，前記一の拡散板の複数の拡散孔と複数の前記排気孔が，前記基板間又は最上段の基板とホルダ蓋間にそれぞれ配置されていることを特徴とするパージチャンバー。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2012-0123116 | 2012-11-01 | ||
| KR1020120123116A KR101387519B1 (ko) | 2012-11-01 | 2012-11-01 | 퍼지챔버 및 이를 구비하는 기판처리장치 |
| PCT/KR2013/009858 WO2014069942A1 (ko) | 2012-11-01 | 2013-11-01 | 퍼지챔버 및 이를 구비하는 기판처리장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016502753A JP2016502753A (ja) | 2016-01-28 |
| JP2016502753A5 true JP2016502753A5 (ja) | 2016-10-27 |
Family
ID=50627750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015539512A Ceased JP2016502753A (ja) | 2012-11-01 | 2013-11-01 | パージチャンバー及びそれを具備する基板処理装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150267291A1 (ja) |
| JP (1) | JP2016502753A (ja) |
| KR (1) | KR101387519B1 (ja) |
| CN (1) | CN104756242A (ja) |
| TW (1) | TW201419407A (ja) |
| WO (1) | WO2014069942A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101637498B1 (ko) | 2015-03-24 | 2016-07-07 | 피코앤테라(주) | 웨이퍼 수납용기 |
| KR101720620B1 (ko) * | 2015-04-21 | 2017-03-28 | 주식회사 유진테크 | 기판처리장치 및 챔버 세정방법 |
| TWI563586B (en) * | 2015-07-14 | 2016-12-21 | Motech Ind Inc | Substrate-separating apparatus and substrate-separating method |
| KR101822554B1 (ko) * | 2017-03-22 | 2018-01-26 | 우범제 | 웨이퍼 수납용기 |
| US20200294819A1 (en) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Systems and Methods for Substrate Cooling |
| CN111952139B (zh) * | 2019-05-16 | 2023-11-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体制造设备及半导体制造方法 |
| KR102357066B1 (ko) * | 2019-10-31 | 2022-02-03 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0212914A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-17 | Nec Corp | エッチング装置 |
| JPH05235156A (ja) * | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Sony Corp | 縦型炉用ボート |
| JPH10321714A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | 密閉コンテナ並びに密閉コンテナ用雰囲気置換装置及び雰囲気置換方法 |
| US20030049372A1 (en) * | 1997-08-11 | 2003-03-13 | Cook Robert C. | High rate deposition at low pressures in a small batch reactor |
| JP2003218101A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-07-31 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
| KR100496134B1 (ko) * | 2002-09-12 | 2005-06-20 | 주식회사 테라세미콘 | 초고온용 반도체 기판 홀더와 이를 장착하는 기판 로딩용보트및 이를 포함하는 초고온 열처리 장치 |
| JP2006190760A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| KR100774711B1 (ko) * | 2006-07-19 | 2007-11-08 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조용 에피택셜 장비의 파티클 제거 장치 및 제거방법 |
| US20090017637A1 (en) * | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Yi-Chiau Huang | Method and apparatus for batch processing in a vertical reactor |
| KR20100083904A (ko) * | 2009-01-15 | 2010-07-23 | 엘지이노텍 주식회사 | Ｒｆ 출력장치 |
| KR101043775B1 (ko) * | 2009-02-03 | 2011-06-22 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조용 장비의 로드락 챔버 |
| JP2012119626A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック装置 |
| JP5625981B2 (ja) * | 2011-02-10 | 2014-11-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置及び熱処理方法 |
-
2012
- 2012-11-01 KR KR1020120123116A patent/KR101387519B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-10-09 TW TW102136471A patent/TW201419407A/zh unknown
- 2013-11-01 US US14/436,247 patent/US20150267291A1/en not_active Abandoned
- 2013-11-01 CN CN201380056780.5A patent/CN104756242A/zh active Pending
- 2013-11-01 WO PCT/KR2013/009858 patent/WO2014069942A1/ko active Application Filing
- 2013-11-01 JP JP2015539512A patent/JP2016502753A/ja not_active Ceased
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