JP2016156019A - 樹脂組成物 - Google Patents
樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016156019A JP2016156019A JP2016048374A JP2016048374A JP2016156019A JP 2016156019 A JP2016156019 A JP 2016156019A JP 2016048374 A JP2016048374 A JP 2016048374A JP 2016048374 A JP2016048374 A JP 2016048374A JP 2016156019 A JP2016156019 A JP 2016156019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- mass
- resin
- insulating layer
- smear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/092—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/10—Esters; Ether-esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L21/00—Compositions of unspecified rubbers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0366—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】エポキシ樹脂、活性エステル化合物及びスミア抑制成分を含有する特定の樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
〔1〕(A)エポキシ樹脂、(B)活性エステル化合物及び(C)スミア抑制成分を含有する樹脂組成物であり、該樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合に、(C)スミア抑制成分が0.001〜10質量%であることを特徴とする樹脂組成物。
〔2〕樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、(B)活性エステル化合物の含有量が1〜30質量%であることを特徴とする上記〔1〕に記載の樹脂組成物。
〔3〕(C)スミア抑制成分が、有機系スミア抑制成分であることを特徴とする上記〔1〕又は〔2〕に記載の樹脂組成物。
〔4〕有機系スミア抑制成分が、顔料、染料、ゴム粒子、酸化防止剤及び赤外線吸収剤からなる群より選択される1種以上であることを特徴とする上記〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔5〕有機系スミア抑制成分が、顔料及び/又はゴム粒子であることを特徴とする上記〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔6〕有機系スミア抑制成分が、顔料であることを特徴とする上記〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔7〕有機系スミア抑制成分が、青色顔料、黄色顔料、赤色顔料及び緑色顔料からなる群より選択される1種以上であることを特徴とする上記〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔8〕有機系スミア抑制成分が、青色顔料、黄色顔料及び赤色顔料を混合してなる混合顔料であることを特徴とする上記〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔9〕さらに(D)無機充填材を含有することを特徴とする上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔10〕(D)無機充填材の平均粒径が、0.01〜5μmであることを特徴とする上記〔9〕に記載の樹脂組成物。
〔11〕樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、(D)無機充填材の含有量が40〜85質量%であることを特徴とする上記〔9〕又は〔10〕に記載の樹脂組成物。
〔12〕無機充填材の単位重量あたりのカーボン量が、0.02〜3%であることを特徴とする上記〔9〕〜〔11〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔13〕樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、該絶縁層表面を粗化処理した後の該絶縁層表面の二乗平均平方根粗さRqが500nm以下であり、該絶縁層表面にメッキして得られる導体層と該絶縁層とのピール強度が0.3kgf/cm以上であり、樹脂組成物の硬化物の誘電正接が0.05以下であることを特徴とする上記〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔14〕多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする上記〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔15〕上記〔1〕〜〔14〕のいずれかに記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするシート状積層材料。
〔16〕上記〔1〕〜〔14〕のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成されていることを特徴とする多層プリント配線板。
〔17〕上記〔16〕に記載の多層プリント配線板を用いることを特徴とする、半導体装置。
〔18〕上記〔15〕に記載のシート状積層材料を回路基板に積層し、樹脂組成物を熱硬化して絶縁層を形成し、回路基板上に形成された絶縁層に支持体上から穴あけ加工してビアホールを形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
本発明に使用する(A)エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有するのが好ましい。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明における(B)活性エステル化合物は、1分子中に活性エステル基を1個以上有する化合物であり、樹脂組成物の誘電正接を低くし、二乗平均平方根粗さがRqも小さくすることができる。(B)活性エステル化合物はエポキシ樹脂等と反応することができ、1分子中に活性エステル基を2個以上有する化合物が好ましい。一般的には、フェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。
本発明において使用されるスミア抑制成分は、樹脂組成物の硬化物を穴あけ加工して粗化処理した後のビアホールのスミアを抑制することが出来る成分である。ここで、スミア抑制とは、穴あけ加工時に発生するスミア量を減らすことと、粗化処理時にスミアをより除去し易くすること、のどちらの意味も包含する。スミア抑制成分としては、有機系スミア抑制成分、無機系スミア抑制成分が挙げられ、絶縁信頼性向上の点で有機系スミア抑制成分が好ましい。具体的には、有機系スミア抑制成分としては、顔料、染料、ゴム粒子、酸化防止剤、赤外線吸収剤等が挙げられ、無機系スミア抑制成分としては、金属化合物粉、金属粉等が挙げられる。(C)スミア抑制成分としては、顔料、染料、ゴム粒子、酸化防止剤及び赤外線吸収剤からなる群より選択される1種以上を用いることが好ましい。これらのうち、スミア抑制能が優れ、ピール強度も優れるという点から、顔料及び/又はゴム粒子がより好ましく、顔料が更に好ましい。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明の樹脂組成物は、線熱膨張率を低下させる目的および粗化処理時のスミア除去性を向上させる目的で、さらに(D)無機充填材を含有することができる。(D)無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。なかでも、シリカが好ましい。シリカとしては、無定形シリカ、粉砕シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等が好ましく、溶融シリカがより好ましい。また、シリカとしては球状のシリカが好ましい。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。市販されている球状溶融シリカとして、(株)アドマテックス製「SO−C2」、「SO−C1」が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、硬化時間および硬化温度を調整する等の目的でさらに(E)硬化促進剤を含有することができる。(E)硬化促進剤としては、特に限定されないが、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、有機ホスフィン化合物、有機ホスホニウム塩化合物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
発明の樹脂組成物には、さらに(F)熱可塑性樹脂を含有させることにより、当該樹脂組成物から得られる樹脂ワニスの粘度を好適な範囲に調整することができ、硬化物の可撓性を高めることができる。熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ABS樹脂等が挙げられる。なかでも、硬化物の可撓性を高め、密着性に寄与するという観点からフェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、フェノキシ樹脂がより好ましい。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。熱可塑性樹脂はガラス転移温度が80℃以上のものが好ましい。
本発明の樹脂組成物には、さらに(G)硬化剤を含有させることができる。これにより、樹脂組成物の硬化物の絶縁信頼性、ピール強度、機械特性を高めることができる。(G)硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、フェノール系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、酸無水物系硬化剤等を挙げることができる。これらは1種又は2種以上を使用することができる。これらの中でも、スミア除去性の向上、誘電特性の向上という観点から、フェノール系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤が好ましい。
本発明の樹脂組成物は、さらに、必要に応じて本発明の効果を損なわない範囲でマレイミド化合物、ビスアリルナジイミド化合物、ビニルベンジル樹脂、ビニルベンジルエーテル樹脂などの熱硬化成分、シリコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等の有機充填剤、オルベン、ベントン等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等の密着性付与剤、リン系化合物、水酸化金属物等の難燃剤、等を挙げることができる。
(接着フィルム)
一実施形態において、本発明のシート状積層材料は接着フィルムである。該接着フィルムは、支持体上に樹脂組成物層が形成されたものである。該接着フィルムは、当業者に公知の方法、例えば、有機溶剤に樹脂組成物を溶解した樹脂ワニスを調製し、この樹脂ワニスを、ダイコーターなどを用いて、支持体に塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。
一実施形態において、本発明のシート状積層材料はプリプレグである。該プリプレグは、本発明の樹脂組成物をシート状補強基材にホットメルト法又はソルベント法により含浸させ、加熱して半硬化させることにより製造することができる。すなわち、本発明の樹脂組成物がシート状補強基材に含浸した状態となるプリプレグとすることができる。シート状補強基材としては、例えば、ガラスクロスやアラミド繊維等のプリプレグ用繊維として常用されている繊維からなるものを用いることができる。そして支持体上にプリプレグが形成されたものが好適である。
次に、上記のようにして製造したシート状積層材料を用いて多層プリント配線板を製造する方法の一例を説明する。
本発明の多層プリント配線板を用いることで半導体装置を製造することができる。本発明の多層プリント配線板の導通箇所に、半導体チップを実装することにより半導体装置を製造することができる。「導通箇所」とは、「多層プリント配線板における電気信号を伝える箇所」であって、その場所は表面であっても、埋め込まれた箇所であってもいずれでも構わない。また、半導体チップは半導体を材料とする電気回路素子であれば特に限定されない。
まずは各種測定方法・評価方法について説明する。
各実施例および各比較例で得られた接着フィルムについて、以下に従ってスミア(樹脂残渣)の評価を行った。
ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.8mm、松下電工(株)製R5715ES)の両面にエッチングにより回路パターンを形成し、さらにマイクロエッチング剤(メック(株)製CZ8100)で粗化処理を行い、回路基板を作製した。
各実施例および各比較例で作製した接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP−500(商品名、名機(株)製)を用いて、上記(1)で作製した回路基板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後100℃、30秒間、圧力0.74MPaで圧着させることにより行った。
実施例1〜8及び比較例1においては、ラミネートされた接着フィルムからPETフィルムを剥離し、170℃、30分間の硬化条件で樹脂組成物層を硬化して、絶縁層を形成した。実施例9においては、PETフィルムを剥離せず、170℃、30分間の硬化条件で樹脂組成物層を硬化して、絶縁層を形成した。
松下溶接システム(株)製CO2レーザー加工機(YB−HCS03T04)を使用し、周波数1000Hzでパルス幅13μ秒、ショット数3の条件で絶縁層を穴あけして、絶縁層表面におけるビアホールのトップ径(直径)が60μmのビアホールを形成した。実施例9においては、その後PETフィルムを剥離した。
回路基板を、膨潤液であるアトテックジャパン(株)のスエリングディップ・セキュリガントPに60℃で10分間浸漬した。次に、粗化液(酸化剤)であるアトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で20分間浸漬した。最後に、中和液であるアトテックジャパン(株)のリダクションソリューション・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬した。
ビアホール底部の周囲を走査電子顕微鏡(SEM)にて観察し、得られた画像からビアホール底部の壁面からの最大スミア長を測定した。◎○は最大スミア長が2μm未満、◎は最大スミア長が2μm以上3.5μm未満、○は最大スミア長が3.5μm以上5μm未満、×は最大スミア長が5μm以上を表す。
(1)積層板の下地処理
内層回路の形成されたガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、残銅率60%、基板厚み0.3mm、松下電工(株)製R5715ES)の両面をメック(株)製CZ8100に浸漬して銅表面の粗化処理を行った。
各実施例及び各比較例で作成した接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP-500((株)名機製作所製、商品名)を用いて、積層板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着させることにより行った。
ラミネートされた接着フィルムからPETフィルムを剥離し、170℃、30分間の硬化条件で樹脂組成物を硬化した。
積層板を、膨潤液である、アトテックジャパン(株)のジエチレングリコールモノブチルエーテル含有のスエリングディップ・セキュリガンドPに60℃で10分間浸漬し、次に粗化液として、アトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で20分間浸漬、最後に中和液として、アトテックジャパン(株)のリダクションショリューシン・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬した。この粗化処理後の積層板をサンプルAとした。
絶縁層表面に回路を形成するために、積層板を、PdCl2を含む無電解メッキ用溶液に浸漬し、次に無電解銅メッキ液に浸漬した。150℃にて30分間加熱してアニール処理を行った後に、エッチングレジストを形成し、エッチングによるパターン形成の後に、硫酸銅電解メッキを行い、30μmの厚さで導体層を形成した。次に、アニール処理を180℃にて60分間行った。この積層板をサンプルBとした。
サンプルAについて、非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製WYKO NT3300)を用いて、VSIコンタクトモード、50倍レンズにより測定範囲を121μm×92μmとして得られる数値によりRq値を求めた。そして、それぞれ10点の平均値を求めることにより測定値とした。
サンプルBの導体層に、幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具(株式会社ティー・エス・イー、オートコム型試験機 AC−50C−SL)で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重(kgf/cm)を測定した。
円形に切り抜いたレジストテープ(日東電工(株)製、エレップマスキングテープ N380)をサンプルBの導体層上に貼り、塩化第二鉄水溶液にて、30分間浸漬させた。レジストテープの貼っていない部分の導体層を除去し、絶縁層上に円形の導体層が形成された評価基板を作製した。その後、絶縁層の一部分を削ることにより下地の銅箔を露出させた。そして、露出させた銅箔と円形の導体層とを配線(ワイヤー)で接続させた。評価基板の配線に直流電源((株)高砂製作所製、TP018−3D)を接続し、130℃、85%RHの条件で、200時間、3.3Vの電圧を与えた。200時間後に抵抗値を測定し、抵抗値が1.0×108Ω以上のものを「○」とし、1.0×107Ω以上1.0×108Ω未満のものを「△」とし、1.0×107Ω未満のものを「×」とした。
各実施例および各比較例で得られた接着フィルムを190℃で90分間熱硬化させて、PETフィルムを剥離してシート状の硬化物を得た。その硬化物を、幅2mm、長さ80mmの試験片に切断し、関東電子応用開発(株)製空洞共振器摂動法誘電率測定装置CP521およびアジレントテクノロジー(株)製ネットワークアナライザーE8362Bを使用して、空洞共振器摂動法で測定周波数5.8GHzにて誘電正接(tanδ)の測定を行った。2本の試験片について測定を行い、平均値を算出した。
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量180、三菱化学(株)製「828US」)10部と、ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量291、日本化薬(株)製「NC3000H」)20部とをメチルエチルケトン(以下「MEK」と略称する。)15部、シクロヘキサノン15部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、活性エステル化合物(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性エステル当量223、固形分65%のトルエン溶液)28部、トリアジン含有クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「LA3018−50P」、フェノール当量151、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液)7部、硬化促進剤(広栄化学工業(株)製、「4−ジメチルアミノピリジン」)0.1部、球形シリカ(平均粒径0.5μm、アミノシラン処理付「SO−C2」、(株)アドマテックス製、単位重量あたりのカーボン量0.18%)140部、フェノキシ樹脂(YL7553BH30、固形分30質量%のMEKとシクロヘキサノンの1:1溶液、重量平均分子量40000)7部、青色顔料(大日精化(株)製、シアニンブルー4920)0.04部、黄色顔料(BASF(株)製、パリオトロールイエローK1841)0.07部、赤色顔料(クラリアントジャパン(株)製、PV Fast Pink E01)0.08部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスを作製した。次に、かかる樹脂ワニスをポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm、以下「PETフィルム」と略称する。)上に、乾燥後の樹脂厚みが40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥させて、シート状の接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、青色顔料0.4部、黄色顔料0.66部、赤色顔料0.84部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、青色顔料0.9部、黄色顔料1.4部、赤色顔料1.6部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、カーボンブラック3部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、ゴム粒子(ガンツ化成(株)製「AC3816N」)3.5部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、酸化防止剤(BASF(株)製「IRGANOX1010」)3.5部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を、赤外線吸収剤((株)日本触媒製「IR−14」)3.5部に変更したこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例2の球形シリカ(平均粒径0.5μm、アミノシラン処理付「SO−C2」、(株)アドマテックス製、単位重量あたりのカーボン量0.18%)140部を、球形シリカ(平均粒径0.25μm、アミノシラン処理付「SO−C1」、(株)アドマテックス製、単位重量あたりのカーボン量0.8%)100部に変更したこと以外は、実施例2と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
実施例2と同様の接着フィルムを用いた。
実施例1の青色顔料0.04部、黄色顔料0.07部、赤色顔料0.08部を添加しないこと以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次に実施例1と同様にして接着フィルムを得た。
Claims (13)
- (A)エポキシ樹脂、(B)活性エステル化合物、(C)スミア抑制成分及び(D)無機充填材を含有する樹脂組成物であり、
該樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合に、(B)活性エステル化合物の含有量が5質量%以上であり、
該樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合に、(C)スミア抑制成分が0.001〜10質量%であり、
該樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合に、(D)無機充填材が70質量%以上であり、
(C)スミア抑制成分がゴム粒子であることを特徴とする樹脂組成物。 - 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、(B)活性エステル化合物の含有量が5〜30質量%であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、(B)活性エステル化合物の含有量が5〜10質量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、(D)無機充填材の含有量が70〜85質量%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 無機充填材の単位重量あたりのカーボン量が、0.02〜3%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、該絶縁層表面を粗化処理した後の該絶縁層表面の二乗平均平方根粗さRqが500nm以下であり、該絶縁層表面にメッキして得られる導体層と該絶縁層とのピール強度が0.3kgf/cm以上であり、樹脂組成物の硬化物の誘電正接が0.05以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするシート状積層材料。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成されていることを特徴とする多層プリント配線板。
- 請求項9に記載の多層プリント配線板を用いることを特徴とする、半導体装置。
- 請求項8に記載のシート状積層材料を回路基板に積層し、樹脂組成物を熱硬化して絶縁層を形成し、回路基板上に形成された絶縁層に穴あけ加工してビアホールを形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
- ビアホールのトップ径が60μm以下であることを特徴とする、請求項11に記載の多層プリント配線板の製造方法。
- ビアホール底部の壁面からの最大スミア長が5μm未満であることを特徴とする、請求項11または12に記載の多層プリント配線板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012124032 | 2012-05-31 | ||
JP2012124032 | 2012-05-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013116277A Division JP5904160B2 (ja) | 2012-05-31 | 2013-05-31 | 樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016156019A true JP2016156019A (ja) | 2016-09-01 |
JP6217775B2 JP6217775B2 (ja) | 2017-10-25 |
Family
ID=49982577
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013116277A Active JP5904160B2 (ja) | 2012-05-31 | 2013-05-31 | 樹脂組成物 |
JP2016048374A Active JP6217775B2 (ja) | 2012-05-31 | 2016-03-11 | 樹脂組成物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013116277A Active JP5904160B2 (ja) | 2012-05-31 | 2013-05-31 | 樹脂組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5904160B2 (ja) |
KR (2) | KR102018392B1 (ja) |
TW (2) | TWI620781B (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019188330A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | Dic株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化物 |
KR20190122644A (ko) | 2017-03-14 | 2019-10-30 | 미쓰이금속광업주식회사 | 수지 조성물, 수지를 구비한 구리박, 유전체층, 동장 적층판, 캐패시터 소자 및 캐패시터 내장 프린트 배선판 |
KR20200019618A (ko) | 2017-06-21 | 2020-02-24 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 활성 에스테르 화합물 그리고 이것을 사용한 조성물 및 경화물 |
KR20200020696A (ko) | 2017-06-21 | 2020-02-26 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 활성 에스테르 수지 그리고 이것을 사용한 조성물 및 경화물 |
KR20200128092A (ko) | 2018-03-29 | 2020-11-11 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
KR20200128093A (ko) | 2018-03-29 | 2020-11-11 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
JP2022186772A (ja) * | 2018-12-12 | 2022-12-15 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 封止用樹脂組成物及び半導体装置 |
WO2023199738A1 (ja) * | 2022-04-11 | 2023-10-19 | 株式会社Adeka | 組成物及び硬化物 |
JP7441928B2 (ja) | 2017-12-25 | 2024-03-01 | 太陽ホールディングス株式会社 | 熱硬化性樹脂充填材、その硬化物および多層プリント配線板 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6458921B2 (ja) * | 2014-02-26 | 2019-01-30 | インテル・コーポレーション | 硬化性エポキシ組成物、フィルム、積層フィルム、プリプレグ、積層体、硬化物、及び複合体 |
JP6269294B2 (ja) * | 2014-04-24 | 2018-01-31 | 味の素株式会社 | プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物 |
US10717837B2 (en) * | 2015-07-06 | 2020-07-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition and prepreg, resin sheet, laminate, and printed circuit board comprising same |
US10869390B2 (en) * | 2015-07-06 | 2020-12-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, and printed circuit board |
JP6867131B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2021-04-28 | 積水化学工業株式会社 | 積層体及び積層体の製造方法 |
TWI725387B (zh) * | 2016-12-28 | 2021-04-21 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 預浸體、疊層板、覆金屬箔疊層板、印刷電路板、及多層印刷電路板 |
JP7210901B2 (ja) | 2017-06-26 | 2023-01-24 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物層 |
JP6904125B2 (ja) | 2017-07-18 | 2021-07-14 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP6859916B2 (ja) | 2017-10-13 | 2021-04-14 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物層 |
JP7296191B2 (ja) | 2018-01-09 | 2023-06-22 | 味の素株式会社 | 硬化性樹脂組成物、樹脂シート、プリント配線板及び半導体装置 |
JP7443778B2 (ja) * | 2020-01-16 | 2024-03-06 | 株式会社レゾナック | 封止用樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法 |
JP2021130737A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物および電子装置 |
JP7388235B2 (ja) | 2020-02-20 | 2023-11-29 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2024040585A (ja) | 2022-09-13 | 2024-03-26 | 信越化学工業株式会社 | ボンディングフィルム用硬化性樹脂組成物、ボンディングフィルム及びプリント配線板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011132507A (ja) * | 2009-11-26 | 2011-07-07 | Ajinomoto Co Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JP2011144361A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1171501A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた硬化物 |
JPH11130939A (ja) * | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた硬化物 |
JP2008121010A (ja) | 2006-10-20 | 2008-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
JP2009231790A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-10-08 | Ajinomoto Co Inc | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP2013023666A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料、硬化物及びプラズマ粗化処理硬化物 |
JP6026095B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-11-16 | 太陽インキ製造株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物、並びにそれを用いたプリント配線板 |
-
2013
- 2013-05-28 TW TW102118794A patent/TWI620781B/zh active
- 2013-05-28 TW TW107102969A patent/TW201817807A/zh unknown
- 2013-05-29 KR KR1020130060908A patent/KR102018392B1/ko active IP Right Grant
- 2013-05-31 JP JP2013116277A patent/JP5904160B2/ja active Active
-
2016
- 2016-03-11 JP JP2016048374A patent/JP6217775B2/ja active Active
-
2019
- 2019-08-28 KR KR1020190106119A patent/KR102132771B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011132507A (ja) * | 2009-11-26 | 2011-07-07 | Ajinomoto Co Inc | エポキシ樹脂組成物 |
JP2011144361A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-07-28 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11310910B2 (en) | 2017-03-14 | 2022-04-19 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Resin composition, copper foil with resin, dielectric layer, copper clad laminate sheet, capacitor element and printed wiring board with built-in capacitor |
KR20190122644A (ko) | 2017-03-14 | 2019-10-30 | 미쓰이금속광업주식회사 | 수지 조성물, 수지를 구비한 구리박, 유전체층, 동장 적층판, 캐패시터 소자 및 캐패시터 내장 프린트 배선판 |
US11548977B2 (en) | 2017-06-21 | 2023-01-10 | Dic Corporation | Active ester resin and composition and cured product using the same |
KR20200019618A (ko) | 2017-06-21 | 2020-02-24 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 활성 에스테르 화합물 그리고 이것을 사용한 조성물 및 경화물 |
US11407708B2 (en) | 2017-06-21 | 2022-08-09 | Dic Corporation | Active ester compound and composition and cured product obtained using the same |
KR20200020696A (ko) | 2017-06-21 | 2020-02-26 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 활성 에스테르 수지 그리고 이것을 사용한 조성물 및 경화물 |
JP7441928B2 (ja) | 2017-12-25 | 2024-03-01 | 太陽ホールディングス株式会社 | 熱硬化性樹脂充填材、その硬化物および多層プリント配線板 |
KR20200128093A (ko) | 2018-03-29 | 2020-11-11 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
KR20200130364A (ko) | 2018-03-29 | 2020-11-18 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
KR20200128092A (ko) | 2018-03-29 | 2020-11-11 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
KR102453731B1 (ko) * | 2018-03-29 | 2022-10-14 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 경화성 조성물 및 그 경화물 |
WO2019188330A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | Dic株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化物 |
US11873356B2 (en) | 2018-03-29 | 2024-01-16 | Dic Corporation | Curable composition and cured product thereof |
US11901249B2 (en) | 2018-03-29 | 2024-02-13 | Dic Corporation | Curable composition and cured product thereof |
CN111918891A (zh) * | 2018-03-29 | 2020-11-10 | Dic株式会社 | 固化性组合物及其固化物 |
JP2022186772A (ja) * | 2018-12-12 | 2022-12-15 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 封止用樹脂組成物及び半導体装置 |
WO2023199738A1 (ja) * | 2022-04-11 | 2023-10-19 | 株式会社Adeka | 組成物及び硬化物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201817807A (zh) | 2018-05-16 |
JP6217775B2 (ja) | 2017-10-25 |
TW201410777A (zh) | 2014-03-16 |
TWI620781B (zh) | 2018-04-11 |
JP2014005464A (ja) | 2014-01-16 |
JP5904160B2 (ja) | 2016-04-13 |
KR20130135107A (ko) | 2013-12-10 |
KR102132771B1 (ko) | 2020-07-13 |
KR102018392B1 (ko) | 2019-09-04 |
KR20190104287A (ko) | 2019-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6217775B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6163803B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6024599B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JP5249903B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP5195454B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6028587B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6232762B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6418273B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6428153B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2014028880A (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2014152306A (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6007663B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2017048400A (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2015034300A (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6237155B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6217832B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6281233B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP6337917B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP5978936B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2012255174A (ja) | 樹脂組成物 | |
JP7263069B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2019011481A (ja) | 樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161101 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170214 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170605 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170829 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170911 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6217775 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |