JP2016134629A - 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
インプリント法は、一般的に(1)組成物を塗布する工程、(2)該組成物をモールドでのプレスする工程、(3)転写及び硬化(光又は熱)工程、並びに、(4)モールドを硬化物から離型する工程、の4つの工程を含み、単純なプロセスでナノサイズの加工が可能である。また、装置が簡易で高スループットが期待されるため、低コストで量産できる微細加工技術として期待されている。そのため、半導体デバイス、ストレージメディア、バイオ、光学部材等の多方面の分野で実用化への取組みが進んでいる(特許文献1参照)。
光インプリント法では、光照射を組成物全体に届くようにするため、また、組成物層の膜厚を厚くして硬化する場合に重合熱が過剰に発生するという問題もあるため、硬化層の膜厚を薄くすることが通常である。重合熱の観点から、一般的には、凹凸構造を有する膜厚が厚い光学部材は、光インプリント法ではなく熱可塑性樹脂を射出成型又は熱インプリントすることにより製造される。しかしながら、熱可塑性樹脂を使用するため高温下での使用は難しく、耐熱性等に課題がある。
そのため、凹凸構造の形状精度に優れた光インプリント法を用い、重合熱の上昇を適度に抑えて膜厚の厚い光学部材を製造する方法が所望されている。
しかしながら、従来の光インプリント用組成物では、硬化時の重合熱発生の点で、並びに、得られた硬化物の耐熱性及び透過率の点で課題がある。
本発明のいくつかの態様は、このような事情に鑑みてなされたものであり、硬化物の膜厚が厚い場合でも重合熱が過剰に発生せず、透過率に優れた光学部材の製造方法を提供するものである。
本発明の一つの態様は、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する組成物を用いて基材上に組成物層を形成する工程と、
凹凸構造を有するモールドを上記組成物層表面に圧接し、上記凹凸構造を前記組成物層に転写してパターン形成層を形成する工程と、
上記パターン形成層を光硬化して、凹凸構造を有する硬化層を形成する工程と、を含み、
上記凹凸構造を有する硬化層を有する光学部材の製造方法であって、
上記重合性化合物が、ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)を含有し、
上記組成物が、上記重合性化合物100質量部に対して0.005〜0.5質量部の上記光重合開始剤を含有し、
上記凹凸構造を有する硬化層の膜厚が、0.5mm〜1cmである光学部材の製造方法である。
本出願の特許請求の範囲は、米国特許法35U.S.C.119(e)に基づいて2015年1月21日に出願された米国仮出願第62/106,142号の利益を主張するものであり、その内容がここに援用される。
本発明の一つの態様に係る光学部材の製造方法は、特定の膜厚を有する硬化層を特定成分を含有する組成物を用いて得ることを特徴とする。
なお、本発明において(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基又はそれに対応するメタクリロイル基を意味する。
本発明の一つの態様である光学部材の製造方法に用いられる組成物について、以下に説明する。
上記組成物は、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する。上記光重合開始剤の含有量は、上記重合性化合物100質量部に対して0.005〜0.5質量部であることが好ましい。
上記重合性化合物は、ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)(以下、「単量体(a)」ともいう)を含有することが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)とは、分子内にウレタン結合と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物である。ウレタン結合とは、カルボニル基を介してアミノ基とアルコール基とが脱水縮合した結合である。
上記単量体(a)を含有することで、得られる硬化層の反り及びうねりの低減に効果がある。
脂環構造としては、シクロプロパン骨格、シクロブチル骨格、シクロヘプタン骨格、シクロヘキサン、トリシクロデカン骨格等の炭素数3〜12の単環炭化水素環が挙げられ、これらはアルキル基等の置換基を有していてもよい。
ヘテロ環構造としては、上記単環炭化水素環のメチレン基の少なくとも一部が2価のヘテロ原子含有基で置換されたものが挙げられ、具体的には、オキシラン、ジオキサン、モルホリン、ピペリジン、イソシアヌル酸、ヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。
上記炭化水素環及びヘテロ環は、環骨格内に橋かけ構造を有していても良い。
ヘテロ芳香族構造としては、ピリジン、ベンゾピラン、オキサゾール、イミダゾール、フタルイミド等が挙げられる。
水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシアリール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシシクロアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられ、中でもヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。具体的には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロペニル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が好ましく挙げられる。
イソシアネート基含有(メタ)アクリレートとしては、2−イソシアナトエチルメタクリレート、2−イソシアナトエチルアクリラート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート、2−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート等が挙げられる。
上記単量体(a)の例としては、具体的に例えば以下のものが挙げられる。しかしながら、上記単量体(a)は下記化合物に限定されない。上記単量体(a)は1種類を単独で用いてもよく、また複数を組み合わせて用いても良い。
また、硬化層の反り及びうねりを低減する観点から、上記単量体(b)における1分子中の(メタ)アクリル基の数は、1〜6が好ましく、1〜2がより好ましい。
上記単量体(b)は1種類を単独で用いてもよく、また複数を組み合わせて用いても良い。
上記単量体(b)の例としては、具体的に例えば以下のものが挙げられる。しかしながら、上記単量体(b)は下記化合物に限定されない。
例えば、上記重合性化合物として下記の組み合わせが挙げられる。
(1)単量体(a)がウレタンメタクリレート及びウレタンアクリレートを含む態様。
(2)単量体(a)がウレタンメタクリレートを含み、単量体(b)がアクリレートを含む態様。
(3)単量体(a)がウレタンアクリレートを含み、単量体(b)がメタクリレートを含む態様。
エポキシ基を有する単量体の例としては、(株)ダイセル製のセロキサイド 2021P、2081、2000等;
日油(株)製のエピオールES−F、エピオールB、エピオールB−4、エピオールEH−N、エピオールA、エピオールP、エピオールSB、エピオールTB、エピオールOH、エピオールG−100、エピオールE−100LC、エピオールE−400、エピオールE−1000等;
(株)ADEKA製のアデカグリシロールEDシリーズ ED−502、ED−509E、ED−509S、ED−529、ED−503、ED−503G、ED−506、ED−523T、ED−505等;等が挙げられる。
ビニル基を有する単量体の例としては、スチレン、p−tert−ブトキシスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、N−メチル−N−ビニルアセトアミド、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物;及びジメチル(メタ)アクリルアミド、ジエチル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクロイルモルフォリン等の(メタ)アクリルアミド化合物;等が挙げられる。
ビニルエーテル基を有する単量体の例としては、(株)ダイセル製のONB−DVE、OXT−DVE、4CH−DVE、4CH−DVE、OXT−DVE、ONB−DVE等が挙げられる。
また、上記単量体(a)〜(c)の少なくともいずれかは上記環構造を有していることが好ましい。
上記光重合開始剤は、上記重合性化合物100質量部に対して0.0001〜1質量部を組成物中に含有することが好ましい。上記光重合開始剤は、上記重合性化合物100質量部に対して0.001質量部以上がより好ましく、0.005質量部以上がさらに好ましく、0.01質量部以上が特に好ましい。また、0.5質量部以下がより好ましく、0.2質量部以下がさらに好ましく、0.09質量部以下が特に好ましい。
光重合開始剤の配合量を上記範囲とすることで、硬化時の重合熱の過度な発生を抑制でき、得られる硬化層の透過率が向上する傾向がある。また、硬化層の加熱前後の透過率変化を抑制することができる。
組成物は、上記重合性化合物及び上記光重合開始剤の他に必要に応じてその他の成分を含んでもいてもよい。
その他の成分として、離型剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、密着促進剤、熱重合開始剤、着色剤、微粒子、光酸発生剤、光塩基発生剤、界面活性剤、消泡剤、分散剤及び溶剤等が挙げられる。これらは、光学部材に通常用いられるものを使用可能である。
熱重合開始剤は含んでもよいが、光重合開始剤による硬化で十分な場合は、積極的に含まなくてもよい。
(株)ADEKA製のADK STABシリーズのAO−20、AO−30、AO−40、AO−50、AO−60、AO−80、AO−330、PEP−4C、PEP−8、PEP−36、HP−10、2112、1178、1500、C、135A、3010、TPP、AO−412S、AO−503、LA−52、LA57、LA−63P、LA−68、LA−72、LA−77Y、LA−81、LA−82、LA−87;
住友化学(株)製のSUMILIZER GM(F)、SUMILIZER GS(F)、SUMILIZER GP、SUMILIZER GA−80、SUMILIZER MDP−S、SUMILIZER WX−R、SUMILIZER WX−RC、SUMILIZER TP−D;等が挙げられる。
本発明のいくつかの態様における組成物は、上記重合性化合物と、上記光重合開始剤と、必要に応じて他の成分とを配合し、混合することにより調製できる。
本発明の一つの態様に係る光学部材の製造方法は、上記組成物を用いて基材上に組成物層を形成する工程と、
凹凸構造を有するモールドを前記組成物層表面に圧接し、前記凹凸構造を前記組成物層に転写してパターン形成層を形成する工程と、
前記パターン形成層を光硬化して、凹凸構造を有する硬化層を形成する工程と、を含み、
凹凸構造を有する硬化層を有する光学部材の製造方法であって、
上記凹凸構造を有する硬化層の膜厚が、0.5mm〜1cmであることを特徴とする。重合熱の発生を考慮すると硬化層の膜厚は、8mm以下が好ましく、5mm以下がより好ましい。
上記組成物を用いることにより、硬化時の重合熱の過剰発生を抑制し、且つ、得られる硬化層が耐熱性及び透過率に優れる光学部材を得ることができる。
上記基材及びモールドの少なくとも一方が接触した状態で光硬化を行い、上記基材及びモールドの少なくとも一方を介して光照射する場合は、光照射される側にある上記基材及びモールドの少なくとも一方は光透過性であるものを使用する。
光学部材が上記硬化層と基材とを含む場合、上記基材は光透過性の透明基材であることが好ましい。上記透明基材としては、透明プラスチックフィルム、透明プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。プラスチックとしては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリメチル(メタ)アメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリイミド、ポリカーボネート等が挙げられる。
なお、本発明のいくつかの態様において光学部材のパターンは、数nmから数mmサイズのパターン転写をいい、ナノオーダー、マイクロオーダー及びミリオーダー等のパターン転写に応用できる。本発明のいくつかの態様の光学部材の製造方法は、ナノオーダー及びマイクロオーダーの微小パターン転写に特に効果がある。
なお、本発明において「光」には、紫外、近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波長の光や電磁波だけでなく放射線も含まれる。
本発明のいくつかの態様の製造方法によって得られる光学部材は、透過率が高い硬化層を有する。本発明において、例えば400nmの波長における透過率は75%以上が好ましく、80%以上であることがより好ましい。
また、本発明のいくつかの態様の製造方法によって得られる光学部材は、加熱前後の透過率変化が少ない硬化層を有する。例えば、125℃で1時間加熱した後の硬化層の透過率減少は5%以下が好ましい。
上記方法によって製造された光学部材は、集光レンズ等のカメラレンズ、導光板、反射防止膜、光導波路用のフィルム、めがね等の用途に使用可能である。
なお、光学部材の用途により上記重合性化合物を適宜選択する。例えば、集光レンズ等の用途とする場合は、硬化層が高屈折率であると適度な厚みとできるため好ましい。そのため、重合性化合物が脂環構造又は、芳香族構造を有することが好ましい。
表1に示すように各成分を配合し、組成物サンプル1〜16を調製する。表1に記載の単量体A〜F、光重合開始剤及び安定剤は具体的には下記に示すものである。単量体Cは、混合物である。
<単量体Aの合成>
20mLのスクリュー管瓶にイソホロンジイソシアネート4.73g、アクリル酸2−ヒドロキシエチル5.27g、触媒であるジブチルスズジラウレート0.0025g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン0.005gを加え、マグネチックスターラーを用いて混合させた後、反応温度70℃で4時間反応させて単量体Aを得た。
<単量体Cの合成>
20mLのスクリュー管瓶にトリメチルヘキサメチレンジイソシアナート(2,2,4−, 2,4,4−異性体混合物)4.75g、アクリル酸2−ヒドロキシエチル5.25g、触媒であるジブチルスズジラウレート0.0025g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン0.005gを加え、マグネチックスターラーを用いて混合させた後、反応温度70℃で4時間反応させて単量体Cを得た。
<単量体Eの合成>
20mLのスクリュー管瓶にイソホロンジイソシアネート4.44g、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル5.56g、触媒であるジブチルスズジラウレート0.0025g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン0.005gを加え、マグネチックスターラーを用いて混合させた後、反応温度70℃で4時間反応させて単量体Eを得た。
得られた各組成物サンプル1〜16に対し、下記のようにして、硬化層の透過率測定、硬化時の重合熱測定、硬化層の反りとうねりの評価、及び、硬化性の評価を行う。
ガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)の両端に厚さ3.3mmのスペーサーを配置する。各組成物サンプルをそのガラス上に滴下し、組成物サンプルに触れるようにもう一枚のガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)を載せて、UV−LED@365nmを用い、拡散板(製品名:石英フロスト板、砂番:#600、厚さ:1.5mm、(有)鈴木光学製)越しに波長365nmにおいて照度20mW/cm2で400秒間光照射することによって厚さ約3mmの硬化層1〜16を得た。
得られた各硬化層を125℃に設定した温風乾燥機(製品名:FORCED CONVECTION OVEN FV−320、アドバンテック(株)製)で1時間加熱処理を施した。加熱処理前後の硬化層の400nmにおける透過率を紫外可視分光光度計(製品名:V−550、日本分光(株))にて測定した。
外周が5cm×5cm、内周が3cm×3cm、厚さ3mmのシリコンゴム製の型枠をガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:0.7mm、コーニング社製)上に貼り付け、この枠内に各組成物サンプルを流し込み、その組成物サンプルの上にもう一枚のガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)をかぶせて光照射を行った。
光照射はHg−Xe光源(製品名:LIGHTNINGCURE LC5(水銀キセノンランプL8251を備えたUVスポット光源)、浜松ホトニクス(株)製)を用い、拡散板(製品名:石英フロスト板、砂番:#600、厚さ:1.5mm、鈴木光学社製)越しに波長365nmにおいて照度20mW/cm2で400秒間行った。厚さ0.7mmの上記ガラス越しに放射温度計(製品名:IT−540N、(株)堀場製作所)を用いて測定した最高温度を硬化時の重合熱として算出する。
上記硬化時の重合熱測定(厚さ3mm)において、シリコンゴム製の型枠を厚さ3mmから1mmに変更した以外は同様にして光硬化を行い、重合熱を測定した。
ガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)の両端に厚さ1.1mmのスペーサーを配置する。各組成物サンプルをそのガラス上に滴下し、組成物サンプルに触れるようにもう一枚のガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)を載せてUV−LED@365nmを用い、拡散板(製品名:石英フロスト板、砂番:#600、厚さ:1.5mm、(有)鈴木光学製)越しに波長365nmにおいて照度20mW/cm2で400秒間光照射することによって厚さ約1mmの硬化層1〜16を得た。
◎◎:目視で反り及びうねりがない。
◎:目視で反り及びうねりがほとんどない。
○:目視で反り及びうねりがわずかである。
×:目視でそりやうねりが大きい。
ガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)の両端に厚さ0.5mmのスペーサーを配置する。各組成物サンプルをそのガラス上に滴下し、組成物サンプルに触れるようにもう一枚のガラス(製品名:イーグルXG(登録商標)、厚さ:1.1mm、コーニング社製)を載せてUV−LED@365nmを用い、拡散板(製品名:石英フロスト板、砂番:#600、厚さ:1.5mm、(有)鈴木光学製)越しに波長365nmにおいて照度20mW/cm2で400秒間光照射することによって厚さ約0.5mmの硬化層1〜16を得た。ガラスからはがした硬化層について、表面のタック感の有無を調べ硬化性を確認した。表面の硬化性の指標は下記の通りとする。
◎:タック感がない。
×:液体状態が残っている(硬化せず)。
光重合開始剤の量が重合性化合物に対して多く、及び/又は、重合性化合物中にウレタン(メタ)アクリレートを含まない組成物サンプルは、重合熱が高くなる傾向があった。一方で、重合性化合物としてメタクリロイルオキシ基を有する単量体を用いたものは、過剰な重合熱発生を抑制する傾向があることがわかる。
重合性化合物中にウレタン(メタ)アクリレートを含む組成物サンプルは、反り及びうねり特性が良好な傾向があった。また重合性化合物として環構造を有するものを用いるとさらに反り及びうねり特性が向上する傾向がある。
Claims (7)
- 重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する組成物を用いて基材上に組成物層を形成する工程と、
凹凸構造を有するモールドを前記組成物層表面に圧接し、前記凹凸構造を前記組成物層に転写してパターン形成層を形成する工程と、
前記パターン形成層を光硬化して、凹凸構造を有する硬化層を形成する工程と、を含み、
凹凸構造を有する硬化層を有する光学部材の製造方法であって、
前記重合性化合物が、ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)を含有し、
前記組成物が、前記重合性化合物100質量部に対して0.005〜0.5質量部の前記光重合開始剤を含有し、
前記凹凸構造を有する硬化層の膜厚が、0.5mm〜1cmである光学部材の製造方法。 - 前記重合性化合物が、前記ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)以外の(メタ)アクリレート単量体(b)をさらに含有する請求項1に記載の光学部材の製造方法。
- 前記ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)及び前記(メタ)アクリレート単量体(b)の少なくともいずれかにメタクリロイル基を有する単量体を含む請求項1又は2に記載の光学部材の製造方法。
- 前記重合性化合物が、(メタ)アクロイル基以外の重合性基を有する単量体(c)をさらに含有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
- 前記単量体(a)〜(c)の少なくともいずれかに分子量が400以上である単量体を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
- 前記ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)、前記(メタ)アクリレート単量体(b)及び前記単量体(c)からなる群より選択される少なくともいずれかの単量体が、環構造を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法に用いられる組成物であって、
重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、
前記重合性化合物が、ウレタン(メタ)アクリレート単量体(a)を含有し、
前記組成物が、前記重合性化合物100質量部に対して0.005〜0.5質量部の前記光重合開始剤を含有する組成物。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019031360A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
WO2019031359A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6504653B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-04-24 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物及び部品の製造方法 |
US20180231887A1 (en) | 2015-08-24 | 2018-08-16 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Method for manufacturing device, and composition |
US10213943B2 (en) | 2015-09-11 | 2019-02-26 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Composition |
EP3913591A1 (en) * | 2016-01-29 | 2021-11-24 | KiwiSecurity Software GmbH | Methods and apparatus for using video analytics to detect regions for privacy protection within images from moving cameras |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004216641A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 |
JP2005288933A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法 |
US20080110557A1 (en) * | 2006-11-15 | 2008-05-15 | Molecular Imprints, Inc. | Methods and Compositions for Providing Preferential Adhesion and Release of Adjacent Surfaces |
JP2008192200A (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-21 | Lintec Corp | 光記録媒体製造用シート、ならびに光記録媒体およびその製造方法 |
JP2011049374A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置 |
JP2011081902A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-04-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2012031240A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物 |
WO2012096322A1 (ja) * | 2011-01-12 | 2012-07-19 | 三菱レイヨン株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、微細凹凸構造体及び微細凹凸構造体の製造方法 |
JP2013228729A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物 |
JP2014074165A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JP2014108974A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
WO2015141552A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Dicグラフィックス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型オフセットインキ組成物 |
JP2015187205A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 三菱化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いて得られる硬化物及び積層体 |
JP2018135512A (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103975033B (zh) * | 2011-12-07 | 2016-04-13 | 第一毛织株式会社 | 光固化粘合剂组合物以及包含它的显示装置 |
KR101643492B1 (ko) | 2012-04-06 | 2016-07-27 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 복합 반도체 스위치 장치 |
US10189983B2 (en) | 2012-12-28 | 2019-01-29 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Curable resin composition, resin mold for imprinting, method for photo imprinting, method for manufacturing semiconductor integrated circuit, and method for manufacturing fine optical element |
CN105026449B (zh) | 2013-03-04 | 2021-05-04 | 东洋合成工业株式会社 | 组合物、树脂模具、光压印法、光学元件的制法及电子元件的制法 |
US9366782B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-06-14 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Method for manufacturing a component |
JP2014225653A (ja) | 2013-04-11 | 2014-12-04 | 東洋合成工業株式会社 | 樹脂モールド |
US20140335304A1 (en) | 2013-05-09 | 2014-11-13 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Resin, method for fabricating resin, and composition |
US9240565B2 (en) | 2013-06-06 | 2016-01-19 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Composition |
JP6504653B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-04-24 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物及び部品の製造方法 |
-
2016
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- 2016-01-21 US US15/003,620 patent/US10723909B2/en active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004216641A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 |
JP2005288933A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法 |
US20080110557A1 (en) * | 2006-11-15 | 2008-05-15 | Molecular Imprints, Inc. | Methods and Compositions for Providing Preferential Adhesion and Release of Adjacent Surfaces |
JP2008192200A (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-21 | Lintec Corp | 光記録媒体製造用シート、ならびに光記録媒体およびその製造方法 |
JP2011049374A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置 |
JP2012031240A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物 |
JP2011081902A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-04-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
WO2012096322A1 (ja) * | 2011-01-12 | 2012-07-19 | 三菱レイヨン株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、微細凹凸構造体及び微細凹凸構造体の製造方法 |
JP2013228729A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物 |
JP2014074165A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JP2014108974A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
WO2015141552A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Dicグラフィックス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型オフセットインキ組成物 |
JP2015187205A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 三菱化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いて得られる硬化物及び積層体 |
JP2018135512A (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019031360A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
WO2019031359A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
JPWO2019031360A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2020-06-25 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
JPWO2019031359A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2020-06-25 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
JP6997418B2 (ja) | 2017-08-07 | 2022-01-17 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
JP6997417B2 (ja) | 2017-08-07 | 2022-01-17 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
Also Published As
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