JP2016082177A - 基板液処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記処理液ノズルを保持するノズルアームと、
前記ノズルアームを動かすことで、基板に処理液を供給する処理位置と、前記処理位置から退避した退避位置との間で、前記処理液ノズルを移動させる駆動機構と、
前記ノズルアームの全面を洗浄液中に浸漬させて洗浄するためのアーム洗浄槽と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記アーム洗浄槽は、前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記アーム洗浄槽の洗浄液を排出する洗浄液排出部と、を備えたこと。このとき、前記駆動機構はノズルアームの昇降機能を備え、または前記洗浄液供給部はアーム洗浄槽内の洗浄液の液面の高さ位置の調節機能を備え、記洗浄液内にノズルアームを浸漬させて洗浄する洗浄位置と、前記洗浄液に処理液ノズルのみを浸漬させて洗浄する位置との間で、前記ノズルアームの高さ位置または前記液面の高さ位置を制御する制御信号を前記駆動機構または洗浄液供給部に供給する制御部を備えたこと。
(b)前記ノズルアームは、撥水性の部材によって構成されていること。前記アーム洗浄槽に、前記洗浄液よりも揮発性の高い乾燥液を供給する乾燥液供給部を備えていること。前記駆動機構は、アーム洗浄槽の側方に配置され、前記ノズルアームは、アーム洗浄槽内の洗浄液に浸漬可能なように、前記駆動機構による支持位置から、アーム洗浄槽側へ向けて折れ曲がっていること。
(c)前記アーム洗浄槽には、当該アーム洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加するための振動部が設けられていること。前記アーム洗浄槽内の洗浄液の温度調節を行う温度調節部を備えたこと。
(d)前記アーム洗浄槽の内部には、前記処理液ノズルから吐出された処理液を受けて外部へ排出する液受部が設けられていること。または、前記アーム洗浄槽の底部には、前記処理液ノズルから吐出された処理液を受けて外部へ排出する液受部が設けられていること。
(e)前記アーム洗浄槽に連続的に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記アーム洗浄槽の上端部を周方向に囲むように設けられ、当該アーム洗浄槽からオーバーフローした洗浄液を受け止め、洗浄液を排出するための排出口を備えた排液溝部と、を備えたこと。
図3〜図5を参照しながら第1の実施形態に係る処理ユニット16の構成について説明する。
図3の平面図に示すように、本例の処理ユニット16は、ウエハWに対して互いに異なる処理液を供給するための複数(本例では2つ)の処理流体供給部40a、40bを備えている。回収カップ50や処理流体供給部40a、40bが収容されたチャンバ20の側壁面には、シャッタ222によって開閉される、ウエハWの搬入出口221が設けられている。処理流体供給部40aは、前記搬入出口221に対して、回収カップ50を挟んで奥手側に配置されている。また処理流体供給部40bは、搬入出口221に対して回収カップ50の右手に配置されている。なお処理ユニット16には、複数の処理流体供給部40a、40bを設ける場合に限らず、1つの処理流体供給部40を設けてもよい。
処理液供給部400は、ウエハWに対して処理液の供給を行うノズル(処理液ノズル)41と、ノズル41を保持するノズルヘッド部42と、水平方向に伸びるように設けられ、その先端部に前記ノズルヘッド部42が設けられたアーム部43と、アーム部43の基端部を支持し、ウエハWの上方の処理位置と、この処理位置から退避した退避位置との間でノズル41を移動させるために、前記アーム部43を鉛直軸まわりに回転駆動する駆動部(駆動機構)44とを備える。図4、図5などにおいては、ノズルヘッド部42にノズル41を1本だけ保持させた例を示しているが、当該ノズルヘッド部42には、異なる処理液を供給する複数のノズル41を保持させてもよいことは勿論である。ノズルヘッド部42及びアーム部43は、本例のノズルアームを構成している。ノズル41やノズルヘッド部42、アーム部43は、フッ素樹脂などの撥水性の部材によって構成される。
以上に説明した処理液供給部400の駆動部44や洗浄液供給部61、給電部242、各バルブV1〜V3、622などは、既述の制御部18からの制御信号に従って各々の動作を実行する。
処理対象のウエハWは、基板搬送装置17によって搬送部15内を搬送され、搬入出口221を介して当該ウエハWの処理を行う処理ユニット16内に搬入された後、基板保持部である保持部31上の保持ピン311に受け渡される。ウエハWを受け渡した基板搬送装置17が処理ユニット16から退避すると、シャッタ222によって搬入出口221が閉じられる。
そして、例えば所定枚数のウエハWの処理を実行したタイミングや、前回の洗浄から所定時間が経過したタイミングにて、処理液供給部400(ノズル41、ノズルヘッド部42及びアーム部43)の洗浄を行う。
ここで、アーム洗浄槽23の内面から速やかに洗浄液Lが除去されるように、アーム洗浄槽23をフッ素樹脂などの撥水性の部材によって構成してもよい。また、ノズル41やノズルヘッド部42、アーム部43に気体を吹き付けて、その表面を乾燥させてもよい。
なお、上述の例ではノズル41の退避位置と、処理液供給部400の洗浄位置とが一致している場合を説明したが、これらの位置が一致していることは必須の要件ではない。
次いで図8〜図12を参照しながら、アーム洗浄槽23の上方に駆動部44aを設けた第2の実施形態に係る処理ユニット16a(16)について説明する。
なお、以下の各実施形態の説明に用いる図8〜図15においては、図3〜図7を用いて説明した第1の実施形態に係る処理ユニット16と共通の構成要素に対しては、これらの図で用いたものと共通の符号を付してある。
さらに本例の処理ユニット16aにおいては、洗浄液供給部61からの洗浄液Lの供給量を調節して、アーム洗浄槽23内における洗浄液Lの液面の高さ位置を変えることもできる。
このとき、退避位置(図9)と処理位置(図8)との間でノズル41を移動させながら、回転するウエハWに処理液を供給してウエハWの液処理を実行する点や所定のタイミングで液受部25aに向けてノズル41のダミーディスペンスを行う点は、第1の実施形態に係る処理ユニット16と同様である。
続いて図13〜図16は、第3の実施形態に係る処理ユニット16b(16)を示している。
本例の処理ユニット16bは、処理液供給部400の駆動部44bが、アーム洗浄槽23の外側であるチャンバ20の床面201上に配置されている点が、振動部24の下方側に駆動部44を設けた第1の実施形態に係る処理ユニット16と異なる(図13、図14)。例えば駆動部44bは、アーム洗浄槽23の開口の側方位置にある床面201上に配置されている。
排出溝部231との接続位置における排液管232の開口は、排出溝部231の排出口に相当する。なお図示の便宜上、図14、図16以外の図においては、排液管232の記載は省略してある。
また駆動部44bを床面201上に設けた場合には、アーム部43aの基端側領域は洗浄液L内に浸漬されない。しかしながら当該部分は処理液の供給が行われるノズル41から遠く、汚染発生の恐れが小さい領域であると共に、処理対象のウエハWからも遠い位置に配置されている。従って、処理液が付着したとしても、この付着物がウエハWの汚染原因となるおそれも小さい。
ノズル41のダミーディスペンスを行う場合には、アーム洗浄槽23内の洗浄液Lへ向けて処理液を吐出してもよい。
また、洗浄液供給部61からの洗浄液Lの連続供給を行う場合であっても、アーム洗浄槽23に排出溝部231を設けることは必須の要件ではない。洗浄液供給部61からの洗浄液Lの供給を行いつつ、アーム洗浄槽23に接続された排液管623からアーム洗浄槽23内の洗浄液Lを排出してもよい。
V1〜V4 開閉バルブ
W ウエハ
16、16a、16b
処理ユニット
23 アーム洗浄槽
24 振動部
25、25a
液受部
400 処理液供給部
41 ノズル
42 ノズルヘッド部
43、43a
アーム部
44 駆動部
50 回収カップ
61 洗浄液供給部
611 洗浄液供給管
Claims (11)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記処理液ノズルを保持するノズルアームと、
前記ノズルアームを動かすことで、基板に処理液を供給する処理位置と、前記処理位置から退避した退避位置との間で、前記処理液ノズルを移動させる駆動機構と、
前記ノズルアームの全面を洗浄液中に浸漬させて洗浄するためのアーム洗浄槽と、を備えたことを特徴とする基板液処理装置。 - 前記アーム洗浄槽は、
前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記アーム洗浄槽の洗浄液を排出する洗浄液排出部と、
を備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。 - 前記ノズルアームは、撥水性の部材によって構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板液処理装置。
- 前記アーム洗浄槽に、前記洗浄液よりも揮発性の高い乾燥液を供給する乾燥液供給部を備えていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記駆動機構は、アーム洗浄槽の側方に配置され、前記ノズルアームは、アーム洗浄槽内の洗浄液に浸漬可能なように、前記駆動機構による支持位置から、アーム洗浄槽側へ向けて折れ曲がっていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記アーム洗浄槽には、当該アーム洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加するための振動部が設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記アーム洗浄槽内の洗浄液の温度調節を行う温度調節部を備えたことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記アーム洗浄槽の内部には、前記処理液ノズルから吐出された処理液を受けて外部へ排出する液受部が設けられていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記アーム洗浄槽の底部には、前記処理液ノズルから吐出された処理液を受けて外部へ排出する液受部が設けられていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
- 前記駆動機構はノズルアームの昇降機能を備え、または前記洗浄液供給部はアーム洗浄槽内の洗浄液の液面の高さ位置の調節機能を備え、
記洗浄液内にノズルアームを浸漬させて洗浄する洗浄位置と、前記洗浄液に処理液ノズルのみを浸漬させて洗浄する位置との間で、前記ノズルアームの高さ位置または前記液面の高さ位置を制御する制御信号を前記駆動機構または洗浄液供給部に供給する制御部を備えたことを特徴とする請求項2に記載の基板液処理装置。 - 前記アーム洗浄槽に連続的に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記アーム洗浄槽の上端部を周方向に囲むように設けられ、当該アーム洗浄槽からオーバーフローした洗浄液を受け止め、洗浄液を排出するための排出口を備えた排液溝部と、を備えたことを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
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