JP2015169530A - 磁気センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】 磁気抵抗効果を利用した素子層のフリー磁性層の磁化を形状異方性により安定させて検知出力のリニアリティを向上させるとともに、固定磁性層の磁化の固定を安定させることができる磁気センサを提供する。
【解決手段】 素子層20は、積層フェリ構造の固定磁性層22と、フリー磁性層24とが、非磁性層23を挟んで積層された磁気抵抗効果素子である。素子層20はフリー磁性層24の幅寸法W2が小さく形成され、形状異方性によりフリー磁性層の磁化が強く揃えられて、検知出力のリニアリティを向上できる。固定磁性層22の幅寸法W1を大きくすることで、固定磁性層の固定磁化が安定し、検知出力に重畳するノイズを低減できる。
【選択図】図6
【解決手段】 素子層20は、積層フェリ構造の固定磁性層22と、フリー磁性層24とが、非磁性層23を挟んで積層された磁気抵抗効果素子である。素子層20はフリー磁性層24の幅寸法W2が小さく形成され、形状異方性によりフリー磁性層の磁化が強く揃えられて、検知出力のリニアリティを向上できる。固定磁性層22の幅寸法W1を大きくすることで、固定磁性層の固定磁化が安定し、検知出力に重畳するノイズを低減できる。
【選択図】図6
Description
本発明は、細長い形状の素子層と、前記素子層に導通する電極層とが設けられた磁気センサに係り、特に、リニアリティを向上させ、且つ外部ノイズの影響を低減できる構造の磁気センサに関する。
特許文献1に記載された磁気センサは、固定磁性層と非磁性層とフリー磁性層とが重ねられた素子部が縦方向に向けて細長形状に形成されている。素子部に導通する複数の電極層が縦方向に間隔を空けて設けられ、素子部は電極層と導通されていない部分が磁気感知部で、電極層と導通されている部分が非感知部となっている。
前記素子部のフリー磁性層は、縦方向に向けて細長形状であり、磁化が形状異方性によって縦方向へ揃えられている。固定磁性層は、磁化が前記縦方向と直交する横方向へ向けて固定されている。外部磁界は磁気感知部で素子部を横方向へ横断するように誘導され、フリー磁性層の磁化方向が外部磁界によって変動させられる。磁気感知部では、フリー磁性層の磁化方向と、固定磁性層の固定磁化方向との相対関係で電気抵抗値が変化し、これにより、外部磁界の強度が検知される。
特許文献1に記載された磁気センサは、フリー磁性層の磁化の方向が形状異方性により縦方向へ揃えられている。この場合、素子部の幅寸法が短ければ短いほどフリー磁性層の磁化を縦方向へ揃えやすくなり、検知出力のリニアリティを向上させることが可能になる。しかしながら、本発明の発明者らの検討により、素子部の幅寸法を短くしていくと、磁気センサに検知ノイズが重畳しやすくなることが発見された。これは、固定磁性層の幅寸法が短くなると固定磁化の向きが不安定になり、外部磁界によって固定磁化の方向にゆらぎが発生しやすくなり、その結果、環境磁場が検知ノイズに重畳しやすくなることが原因であると予測される。
本発明は上記従来の課題を解決するものであり、フリー磁性層の磁化の向きを形状異方性によって揃えることで高いリニアリティを確保し、且つ検知ノイズを低減できるようにした磁気センサを提供することを目的としている。
本発明は、固定磁性層とフリー磁性層とが非磁性層を挟んで積層された素子層と、前記素子層に導通する電極層とが設けられた磁気センサにおいて、
前記素子層は、縦方向の長さ寸法が横方向の幅寸法よりも長く形成されて、前記電極層が縦方向に間隔を空けて配置され、前記フリー磁性層の磁化が形状異方性により縦方向に向けられ、前記固定磁性層の磁化が横方向に固定されており、前記フリー磁性層の横方向の幅寸法が、前記固定磁性層の横方向の幅寸法よりも小さく形成されていることを特徴とするものである。
前記素子層は、縦方向の長さ寸法が横方向の幅寸法よりも長く形成されて、前記電極層が縦方向に間隔を空けて配置され、前記フリー磁性層の磁化が形状異方性により縦方向に向けられ、前記固定磁性層の磁化が横方向に固定されており、前記フリー磁性層の横方向の幅寸法が、前記固定磁性層の横方向の幅寸法よりも小さく形成されていることを特徴とするものである。
本発明の磁気センサは、前記素子層の幅寸法が、前記固定磁性層から前記フリー磁性層に向けて連続的に減少しているものとして構成される。
または、本発明の磁気センサは、前記固定磁性層の幅寸法は各層の積層方向に向けて均一で、前記フリー磁性層の幅寸法も積層方向に向けて均一であり、前記固定磁性層と前記フリー磁性層との境界部に段差部が形成されているものとして構成できる。
この場合の磁気センサは、前記段差部が、前記非磁性層に形成されていることが好ましい。
本発明の磁気センサは、前記固定磁性層の幅寸法が、1μm以上であることが好ましい。
本発明の磁気センサは、前記固定磁性層は、第1の固定層と第2の固定層とが非磁性中間層を挟んで積層されて、前記第1の固定層の磁化方向と前記第2の固定層の磁化方向とが反平行とされている。
または、前記固定磁性層は、反強磁性層との反強結合で磁化が固定されている。
または、前記固定磁性層は、反強磁性層との反強結合で磁化が固定されている。
本発明の磁気センサは、前記素子層は、前記電極層と導通していない部分が磁気感知部で、前記電極層と導通している部分が非感知部であり、
縦方向に延びる磁界誘導層が、前記磁気感知部を挟んで横方向に対向しており、外部磁界の縦方向成分が前記磁界誘導層で誘導され、前記磁界誘導層から前記磁気感知部に対して横方向に向く磁界が与えられるものとして構成できる。
縦方向に延びる磁界誘導層が、前記磁気感知部を挟んで横方向に対向しており、外部磁界の縦方向成分が前記磁界誘導層で誘導され、前記磁界誘導層から前記磁気感知部に対して横方向に向く磁界が与えられるものとして構成できる。
本発明の磁気センサは、フリー磁性層の幅寸法を小さくできるために、形状異方性によってフリー磁性層の磁化の方向を縦方向へ揃えやすくなり、外部磁界に対する検知感度を高めて、リニアリティを向上させることができる。一方、固定磁性層の幅寸法を大きくしているため、固定磁性層の固定磁化を安定させることができ、環境磁場などが検知ノイズとして重畳しにくくなる。
特に、固定磁性層がいわゆるセルフピン構造である場合に、磁気感知部で固定磁化方向を安定させることができ、外部ノイズに強い磁気センサを構成できるようになる。
図1に示す磁気センサSxは、X方向の磁界成分が図3に示す磁界誘導層15a,15bで導かれて素子部20に対してY方向の磁界成分として与えられて磁界の強度が測定されるものである。
図1に示す磁気センサSxは、外部磁界のうちのY方向の成分を検知する磁気センサSyならびにZ方向の成分を検知する磁気センサSzと組み合わされて、直交する3方向の外部磁界を検知できるものとなる。この磁気センサは地磁気センサなどとして使用される。磁気センサSy,Szは図示されていないが、素子の基本的な構造は以下に説明する磁気センサSxと同じである。
図1に示すように、磁気センサSxは、第1の抵抗変化部1と第2の抵抗変化部2ならびに第3の抵抗変化部3と第4の抵抗変化部4とから構成されている。図2の等価回路図にも示されているように、第1の抵抗変化部1と第3の抵抗変化部3とが直列に接続され、第4の抵抗変化部4と第2の抵抗変化部2が直列に接続されている。
第1の抵抗変化部1と第4の抵抗変化部4は配線部5aを介して端子5に接続され、端子5に電源電圧Vccが印加される。第3の抵抗変化部3と第2の抵抗変化部2との接続部は、配線部6aを介して端子6に接続され、端子6は接地されている。第1の抵抗変化部1と第3の抵抗変化部3との接続中間部は、配線部7aを介して第1の検知端子7に接続され、第4の抵抗変化部4と第2の抵抗変化部2との接続中間点は、配線部8aを介して第2の検知端子8に接続されている。第1の検知端子7の出力と第2の検知端子8の出力との差動出力が磁気センサSxの検知出力となる。
第1の抵抗変化部1と第2の抵抗変化部2は、図3に示す第1の検知素子構造部10aを有し、第3の抵抗変化部3と第4の抵抗変化部4は、図4に示す第2の検知素子構造部10bを有している。
図1に示すように、第1の抵抗変化部1と第2の抵抗変化部2では、X方向へ直線的に延びる第1の検知素子構造部10aが複数本(図1では8本)平行に配置され、それぞれの第1の検知素子構造部10aのX1側の端部とX2側の端部が導電連結層9aによって互い違いに接合されている。その結果、第1の検知素子構造部10aはいわゆるミアンダパターンとなり、X方向(縦方向)への実質的な寸法がきわめて長くなっている。
第3の抵抗変化部3と第4の抵抗変化部4では、X方向へ直線的に延びる第2の検知素子構造部10bが複数本(図1では8本)平行に配置され、第2の検知素子構造部10bのX1側の端部とX2側の端部が導電連結層9bによって互い違いに接合されている。その結果、第2の検知素子構造部10bはいわゆるミアンダパターンとなり、X方向(縦方向)への実質的な寸法がきわめて長くなっている。
図3に示す第1の検知素子構造部10aと図4に示す第2の検知素子構造部10bは、外部磁界のうちのX方向の成分が磁界誘導層15a,15bで導かれてY方向の測定磁界(例えばHy1,Hy2)として与えられ、これら測定磁界の強さに応じて電気抵抗値が変化する。
第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bとでは、同じX方向の外部磁界が与えられたときに、測定磁界Hy1とHy2が互いに逆向きに作用する。ただし、第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bでは、素子層20の固定磁化Pの方向が同じであるため、第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bとで、電気抵抗値の変化の極性が相反するものとなる。
したがって、外部磁界のX1方向へ成分が大きくなるにしたがって、第1の検知素子構造部10aでは電気抵抗値が大きくなり、第2の検知素子構造部10bでは、電気抵抗値が小さくなる。逆に、外部磁界のX2方向へ成分が大きくなるにしたがって、第1の検知素子構造部10aでは電気抵抗値が小さくなり、第2の検知素子構造部10bでは、電気抵抗値が大きくなる。
第1の検知端子7の検知出力(電圧変化)と第2の検知端子8部8の検知出力(電圧変化)の差動出力をとることで、外部磁界のX方向成分の強度の変化に応じた出力を得ることができる。
なお、磁界誘導層15a,15bで導かれる磁界を考慮することなく、磁気センサSxに対して直接にY方向へ作用する外部磁界について着目する。この場合には、図3に示す第1の検知素子構造部10aと図4に示す第2の検知素子構造部10bとで、素子層20の固定磁化Pの方向が同じであるため、第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bの抵抗変化が互いに同じである。よって、第1の検知端子7の検知出力と第2の検知端子8の検知出力は、Y方向の磁界の変化があっても変動せず、磁気センサSxでは外部磁界のX方向成分のみが検知される。
図3に示す第1の検知素子構造部10aと図4に示す第2の検知素子構造部10bでは、前記素子層20が共にX方向に直線的に延びて形成されている。図5と図6に素子層20の構造が示されている。
図5と図6に示す素子層20は金属層が積層されて形成されている。各金属層はスパッタ工程やCVD工程で成膜されている。
素子部20は、巨大磁気抵抗効果を発揮する磁気抵抗効果素子層(GMR層)である。支持基板11の表面に絶縁下地層12が形成され、その上に、素子部20が積層されている。素子層20では、絶縁下地層12の表面にシード層21が形成され、その上に固定磁性層22と非磁性層23とフリー磁性層24が順に積層され、フリー磁性層24が保護層25で覆われている。シード層21はNiFeCr(ニッケル−鉄−クロム合金)などで形成され、固定磁性層22はシード層21の表面に直接固定されて形成されている。
固定磁性層22は、第1の固定層22aと第2の固定層22b、ならびに第1の固定層22aと第2の固定層22bとの間に位置する非磁性中間層22cを有する積層フェリ構造である。第1の固定層22aと第2の固定層22bは、CoFe合金(コバルト−鉄合金)などの軟磁性材料で形成されている。非磁性中間層22cはRu(ルテニウム)などである。
積層フェリ構造の固定磁性層22は、第1の固定層22aと第2の固定層22bの磁化が反平行に固定されたいわゆるセルフピン構造である。セルフピン構造は、固定磁性層22の磁化を固定するために反強磁性層を用いていない。反強磁性層を用いるものでは、反強磁性層と固定磁性層とを積層し、磁場中で熱処理することで、固定磁性層の磁化を固定するが、積層フェリ構造の固定磁性層22では、磁化中で熱処理を行うことなく、第1の固定層22aと第2の固定層22bの反強磁性結合により、磁化の向きが固定されている。
固定磁性層22の磁化の固定方向は第2の固定層22bの磁化方向であり、第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bの双方において、固定磁性層22の固定磁化Pの方向が、素子層20の横方向(Y1方向)である。
非磁性層23はCu(銅)などの非磁性材料で形成されている。フリー磁性層24は、NiFe合金(ニッケル−鉄合金)などの軟磁性材料で形成されている。フリー磁性層24は、縦方向(X方向)の長さ寸法が横方向(Y方向)の幅寸法よりも十分に大きく、その形状異方性によって、磁化がX2方向へ向けて揃えられている。したがって、フリー磁性層24の磁化を縦方向へ揃えるための縦バイアス付与構造を備えていない。固定磁性層22が積層フェリ構造であり、磁場中の熱処理が不要であるため、フリー磁性層24の磁気異方性を保持しやすくなっている。フリー磁性層24を覆う保護層25はTa(タンタル)などで形成されている。
図3と図4に示すように、第1の検知素子構造部10aと第2の検知素子構造部10bでは、素子層20の上に複数の電極層13が積層されて形成されている。電極層13は、Al(アルミニウム)、Cu、Ti(チタン)、Cr(クロム)などの非磁性の導電性材料で形成されており、例えばCuとAlとの積層構造である。電極層13はスパッタ工程で形成されている。
図5に示すように、素子層20の保護層25が部分的に除去されて、保護層25の上に電極層13が積層され、素子層20と電極層13とが導通している。電極層13は素子層20よりも電気抵抗値が低いため、図2に示す電源電圧Vccによって素子層20に与えられる検知電流は電極層13をバイパスし、電極層13が重ねられている部分では、検知電流が素子層13を通過しない。そのため、第1と第2の検知素子構造部10a,10bでは、電極層13が積層されている部分の素子層20が非感知部20cとなる。
図3に示すように、第1の検知素子構造部10aでは、素子層20のうちの電極層13が積層されていない部分が第1の磁気感知部20aとなり、図4に示す第2の検知素子構造部20bでは、素子層20のうちの電極層13が積層されていない部分が第2の磁気感知部20bとなる。
第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bの長さを確定するためには、それぞれの電極層13は、少なくともX1側とX2側のそれぞれの端部が素子層20と導通していることが必要である。なお、素子層20と電極層13とが導通できる範囲において、電極層13の下に保護層25が薄く残されていてもよい。
図5に示すように、素子層20と電極層13は絶縁層14で覆われている。図3に示す第1の検知素子構造部10aでは、絶縁層14の上に第1の磁界誘導層15aが形成され、図4に示す第2の検知素子構造部10bでは、絶縁層14の上に第2の磁界誘導層15bが形成されている。第1の磁界誘導層15aと第2の磁界誘導層15bは、NiFe合金、CoFe合金、CoFeSiB合金(コバルト−鉄−シリコン−ボロン合金)、CoZrNb合金(コバルト−ジルコニウム−ニオブ合金)などの軟磁性材料で形成されている。
図3に示すように、第1の磁界誘導層15aは、素子層20の両側で縦方向(X方向)に延びているとともに、素子層20の第1の磁気感知部20aを挟んで横方向(Y方向)に対向している。図4に示すように、第2の磁界誘導層15bも、素子層20の両側で縦方向(X方向)に延び、素子層20の第2の磁気感知部20bを挟んで横方向(Y方向)に対向している。ただし、図3に示す第1の検知素子構造部10aと、図4に示す第2の検知素子構造部10bとでは、磁界誘導層15a,15bのY方向での対向方向が互いに対称である。
外部磁界のうちのX1方向の磁界成分について説明すると、図3に示す第1の検知素子構造部10aでは、X1方向の磁界成分が第1の磁界誘導層15aによってX1方向へ導かれ、第1の磁気感知部20aでは、一方の第1の磁界誘導層15aから他方の第1の磁界誘導層15aに渡って、Y2方向へ向く測定磁界Hy2が与えられる。図4に示す第1の検知素子構造部10aでは、X1方向の磁界成分が第2の磁界誘導層15bによってX1方向へ導かれ、第2の磁気感知部20bでは、一方の第2の磁界誘導層15bから他方の第2の磁界誘導層15bに渡って、Y1方向に向く測定磁界Hy1が与えられる。
これとは逆に、外部磁界のうちのX2方向の磁界成分は、図3に示す第1の磁気感知部20aにおいてY1方向へ与えられ、図4に示す第2の磁気感知部20bでは、Y2方向へ与えられる。
図3に示す第1の検知素子構造部10aと図4に示す第2の検知素子構造部10bでは、第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bならびに非感知部20cにおいて、素子部20のY方向の幅寸法が均一である。
図6(A)に示すように、本発明の第1の実施の形態では、基板11側から上方の積層方向に向かって、素子部20の横方向(Y方向)の幅寸法が徐々に減少している。その結果、固定磁性層22の幅寸法W1に比較してフリー磁性層24の幅寸法W2が短くなっている。
図6(A)に示す素子部20は、Y1側とY2側の側面が傾斜面となっている。固定磁性層22の幅寸法W1は、フリー磁性層24に対向する第2の固定層22bの幅寸法とし、第2の固定層22bの積層方向に向かって変化する幅寸法の平均値として定義される。また、フリー磁性層24の幅寸法W2は、積層方向に変化するフリー磁性層24の幅寸法の平均値として定義される。
図6(A)に示す第1の実施の形態の素子層20は、下地層12の上にシード層21から保護層25までの各層が積層された後に、素子部20を構成する部分を除いて、シード層21から保護層25までがミリングで除去されるが、このときのミリングの角度を制御することで、素子部20の幅寸法が積層方向に向かって徐々に短くなるように形成される。
なお、図6(A)では、下地層12を残して、その上の各層が除去されているが、シード層21を残してその上の層が除去されてもよい。
図6(B)に示す第2の実施の形態の素子部20では、シード層21から固定磁性層22まで、幅寸法W1が積層方向に向けて均一であり、フリー磁性層24から保護層25まで、幅寸法W2が積層方向に向けて均一である。幅寸法W2は幅寸法W1よりも短く、幅寸法W1と幅寸法W1との間に段差部が形成されている。図6(B)では段差部が非磁性層23の部分に形成されている。
図6(B)に示す素子層20は、下地層12の上にシード層21から保護層25までの各層が積層された後に、素子部20を構成する部分を除いて、保護層25とフリー磁性層24とがミリング工程により幅寸法がW2となるように削られる。このミリング工程での削り工程は非磁性層23で止められる。その後、素子部20を構成する部分を除いて、非磁性層23よりも下層部分が幅寸法W1となるように、ミリング工程で削られる。
2段階のミリング工程で形成される段差部を非磁性層23に設定することにより、固定磁性層22とフリー磁性層24の双方にダメージを与えることなく、前記幅寸法W1,W2を設定することが可能である。
図6(A)に示す第1の実施の形態と図6(B)に示す第2の実施の形態のいずれにおいても、フリー層24の横方向(Y方向)の幅寸法W2が短いため、第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bならびに非感知部20cの全長においてフリー磁性層24の形状異方性を強くできる。
また、第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bならびに非感知部20cの全長においてフリー磁性層24の幅寸法W2を均一とすることで、フリー磁性層24の内部に余計な磁区が発生することなく、第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bにおいて磁化の向きを安定させることが可能である。
また、図6(A)に示す第1の実施の形態と図6(B)に示す第2の実施の形態のいずれにおいても、固定磁性層22の横方向(Y方向)の幅寸法W1を大きくできるため、固定磁性層22の固定磁化Pを強くできる。固定磁性層22が積層フェリ構造である場合には、幅寸法が狭まると固定磁化Pの向きが不安定になりやすいが、幅寸法W1を大きくすることで、第1の磁気感知部20aと第2の磁気感知部20bの双方において、固定磁性層22の固定磁化Pの向きを安定させることができる。
図3に示す第1の磁気感知部20aでは、第1の磁界誘導層15aから第1の磁界誘導層15aに至る測定磁界Hy2によってフリー磁性層24の磁化の向きが変えられるので、フリー磁性層24の磁化の向きと、固定磁性層22の固定磁化Pの方向との関係によって素子層20の電気抵抗値が変化する。図4に示す第2の磁気感知部20bでは、第2の磁界誘導層15bから与えられる測定磁界Hy1によってフリー磁性層24の磁化の向きが変えられ、フリー磁性層24の磁化の向きと、固定磁性層22の固定磁化Pの方向との関係によって素子層20の電気抵抗値が変化する。
第1の検知素子構造部10aを有する第1の抵抗変化部1ならびに第2の抵抗変化部2と、第2の検知素子構造部10bを有する第3の抵抗変化部3ならびに第4の抵抗変化部4とでは、同じX方向の磁界成分に対して電気抵抗値が逆極性で変化し、その結果、磁気センサSxから、外部磁界のX方向成分に応じた検知出力が得られる。
次に、素子層20の幅寸法の好ましい値について説明する。
フリー磁性層24の幅寸法W2は、細ければ細いほど、磁気異方性によってフリー磁性層24の磁化をX方向へ揃える力が大きくなる。図5と図6に示す積層構造の素子層20の全体を削って幅寸法を小さくするのには限界がある。しかし、図6(A)(B)では、積層数の多く積層方向の総膜厚の大きい固定磁性層22は幅寸法W1を大きく残したままとし、フリー層24と保護層25の幅寸法のみを小さくすればよいため、前記幅寸法W2を小さくすることは比較的容易である。前記幅寸法W2は0.2μmぐらいまで短くすることが可能であり、W2この好ましい範囲は0.2〜0.8μm程度である。
フリー磁性層24の幅寸法W2は、細ければ細いほど、磁気異方性によってフリー磁性層24の磁化をX方向へ揃える力が大きくなる。図5と図6に示す積層構造の素子層20の全体を削って幅寸法を小さくするのには限界がある。しかし、図6(A)(B)では、積層数の多く積層方向の総膜厚の大きい固定磁性層22は幅寸法W1を大きく残したままとし、フリー層24と保護層25の幅寸法のみを小さくすればよいため、前記幅寸法W2を小さくすることは比較的容易である。前記幅寸法W2は0.2μmぐらいまで短くすることが可能であり、W2この好ましい範囲は0.2〜0.8μm程度である。
次に、固定磁性層22の幅寸法W1について説明する。
図7は、固定磁性層22の幅寸法とノイズとの関係を示している。ここでは、素子部20の幅寸法を積層方向において均一にし、すなわち固定磁性層22とフリー磁性層24の幅寸法を一致させたサンプルを使用して、サンプルごとに幅寸法を変化させた。そして、磁気センサSxに測定用の外部磁界を与えることなく検知出力を監視した。
図7は、固定磁性層22の幅寸法とノイズとの関係を示している。ここでは、素子部20の幅寸法を積層方向において均一にし、すなわち固定磁性層22とフリー磁性層24の幅寸法を一致させたサンプルを使用して、サンプルごとに幅寸法を変化させた。そして、磁気センサSxに測定用の外部磁界を与えることなく検知出力を監視した。
図7の横軸は素子層20の幅寸法すなわち固定磁性層22の幅寸法W1であり、縦軸は検知出力を外部磁界の大きさ(マイクロテスラ)に換算した値を示している。
図7から、素子層20の幅寸法が0.8μmを下回ると、固定磁性層22の固定磁化が不安定になり、測定用磁界を与えていなくても、環境磁場の変化によって検知出力がノイズとして現れることがわかる。このノイズの影響を阻止するには、固定磁性層22の幅寸法W1を0.8μm以上とすることが必要である。
次に、固定磁性層22の固定磁化によって発生する反磁界の影響について説明する。図8には、Y方向の幅寸法が2×aで、X方向の長さ寸法が2×bの固定磁性層22が平面図で示されている。
固定磁性層22の第2の固定層22bで固定磁化PがY1方向へ向けられていると、図8(A)において破線で示すように、固定磁界Pの反磁界の影響が第2の固定層22b自らに作用する。固定磁性層22の幅寸法W1(=2×a)が小さくなるにしたがって、第2の固定層22bの固定磁化Pの大きさに対する反磁界の強度の比率が大きくなり、第2の固定層22bの磁化の固定が弱くなり、検出ノイズが発生しやすくなる。
図8(B)では、固定磁性層22の辺22hにおいて、Y軸からの距離がxの位置における固定磁化Pの強度が固定磁性層22の中心Oにどのように作用するか求めている。距離xの位置における固定磁化Pが中心Oに与える反磁界の磁気ベクトルのうちのX方向成分をF+x,F−xとすると、F+xとF−xは互いに相殺される。そのため、反磁界における影響は、中心Oに作用する反磁界の磁気ベクトルのうちのY軸方向成分であるFyのみと仮定することができる。
Fyは、以下の数1で表される。
cosθxは、a/√(a2+x2)であるため、数1は以下の数2に書き換えられる。
前記数1と数2は、磁荷qm1とqm2との間に働くクーロン力の式である以下の数3から導かれる。数1と数2は、磁荷qm1を「1」(単位は「ウエーバ」)としたときに、qm1とqm2との間に働く力を意味し、この力は磁界に相当する。
図8(B)のX−Y座標の第1象限において、数2のxを0からbまで積分すると、以下の数4となる。
全象限では、以下の数5となる。
なお、数4と数5において上付きバーの(qm2)の上バーは、(qm2)の線密度である。
数4のa/√(b2+a2)は固定磁性層22の平面形状に由来する。以下では、a/√(b2+a2)をB値と定義する。
固定磁性層22の縦方向の長さ寸法を2×b=100μmとし、幅寸法2×aを変化させたときの、幅寸法(μm)とB値との関係が図9に示されている。
図9から、反磁界の影響を低減させるためには、固定磁性層22の幅寸法W1が1μm以上であることが好ましく、1.5μm以上であることがさらに好ましい。
なお、本発明は、固定磁性層22が積層フェリ構造ではなく、固定磁性層22に反強磁性層が接合され、前述した磁場中の熱処理後の交換結合によって固定磁性層22の磁化が固定されてもよい。ただし、固定磁性層22が積層フェリ構造であると、素子層の幅寸法が固定磁化の安定に影響を与える度合いが大きくなるため、本発明は、特に、固定磁性層22が積層フェリ構造であるときに有効である。
Sx 磁気センサ
W1 固定磁性層の幅寸法
W2 フリー磁性層の幅寸法
1 第1の抵抗変化部
2 第2の抵抗変化部
3 第3の抵抗変化部
4 第4の抵抗変化部
10a 第1の検知素子構造部
10b 第2の検知素子構造部
11 基板
13 電極層
15a 第1の磁界誘導層
15b 第2の磁界誘導層
20 素子層
20a 第1の磁気検知部
20b 第2の磁気感知部
20c 非感知部
22 固定磁性層
23 非磁性層
24 フリー磁性層
W1 固定磁性層の幅寸法
W2 フリー磁性層の幅寸法
1 第1の抵抗変化部
2 第2の抵抗変化部
3 第3の抵抗変化部
4 第4の抵抗変化部
10a 第1の検知素子構造部
10b 第2の検知素子構造部
11 基板
13 電極層
15a 第1の磁界誘導層
15b 第2の磁界誘導層
20 素子層
20a 第1の磁気検知部
20b 第2の磁気感知部
20c 非感知部
22 固定磁性層
23 非磁性層
24 フリー磁性層
Claims (8)
- 固定磁性層とフリー磁性層とが非磁性層を挟んで積層された素子層と、前記素子層に導通する電極層とが設けられた磁気センサにおいて、
前記素子層は、縦方向の長さ寸法が横方向の幅寸法よりも長く形成されて、前記電極層が縦方向に間隔を空けて配置され、
前記フリー磁性層の磁化が形状異方性により縦方向に向けられ、前記固定磁性層の磁化が横方向に固定されており、
前記フリー磁性層の横方向の幅寸法が、前記固定磁性層の横方向の幅寸法よりも小さく形成されていることを特徴とする磁気センサ。 - 前記素子層の幅寸法は、前記固定磁性層から前記フリー磁性層に向けて連続的に減少している請求項1記載の磁気センサ。
- 前記固定磁性層の幅寸法は各層の積層方向に向けて均一で、前記フリー磁性層の幅寸法も積層方向に向けて均一であり、前記固定磁性層と前記フリー磁性層との境界部に段差部が形成されている請求項1記載の磁気センサ。
- 前記段差部は、前記非磁性層に形成されている請求項3記載の磁気センサ。
- 前記固定磁性層の幅寸法が、1μm以上である請求項1ないし4のいずれかに記載の磁気センサ。
- 前記固定磁性層は、第1の固定層と第2の固定層とが非磁性中間層を挟んで積層されて、前記第1の固定層の磁化方向と前記第2の固定層の磁化方向とが反平行とされている請求項1ないし5のいずれかに記載の磁気センサ。
- 前記固定磁性層は、反強磁性層との反強結合で磁化が固定されている請求項1ないし5のいずれかに記載の磁気センサ。
- 前記素子層は、前記電極層と導通していない部分が磁気感知部で、前記電極層と導通している部分が非感知部であり、
縦方向に延びる磁界誘導層が、前記磁気感知部を挟んで横方向に対向しており、外部磁界の縦方向成分が前記磁界誘導層で誘導され、前記磁界誘導層から前記磁気感知部に対して横方向に向く磁界が与えられる請求項1ないし7のいずれかに記載の磁気センサ。
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