JP6725300B2 - 磁気センサおよびその製造方法 - Google Patents
磁気センサおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6725300B2 JP6725300B2 JP2016077674A JP2016077674A JP6725300B2 JP 6725300 B2 JP6725300 B2 JP 6725300B2 JP 2016077674 A JP2016077674 A JP 2016077674A JP 2016077674 A JP2016077674 A JP 2016077674A JP 6725300 B2 JP6725300 B2 JP 6725300B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetoresistive effect
- layer
- magnetic layer
- effect element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Description
15 基板
15A 第1面
21,23 第1の磁気抵抗効果素子
22,24 第2の磁気抵抗効果素子
30,32 磁界方向変換部
40 非磁性体部
35 第1の軟磁性層
36 第2の軟磁性層
381 一方の第1延出部
382 他方の第1延出部
37 第2延出部
40S1 第1の起立面
40S2 第2の起立面
51 外部磁界のZ1−Z2方向の成分(Z1−Z2方向の磁界成分)
16 非磁性絶縁層
40a 非磁性体部40における第1面15Aに対向する側とは反対側の面
Wa 第1の軟磁性層35のX1−X2方向(第1方向)の長さ(厚さ)
Wb 非磁性体部40のX1−X2方向(第1方向)の長さ(幅)
Hb 非磁性体部40のZ1−Z2方向(第1面15Aの法線方向)の長さ(高さ)
43 磁気抵抗効果膜
42 絶縁膜
49 シード層
41 シリコン基板
45 固定磁性層
47 自由磁性層
46 非磁性層
48 保護膜
45c 第1の固定磁性層
45e 非磁性結合層
45d 第2の固定磁性層
45a 固定磁性層の磁化の向き
45b 第1の固定磁性層の磁化の向き
47a 自由磁性層の磁化の向き
25 配線部
27,28 ハーフブリッジ回路
54 差動増幅器
38 第1延出部
29 フルブリッジ回路
RM レジストの層
VH 貫通孔
ML 導電層
Claims (13)
- 基板の一面である第1面に設けられ、前記第1面の面内方向の一つである第1方向に沿った感度軸を有する磁気抵抗効果素子と、
非磁性材料からなり前記第1面から離れる向きに起立面を有する非磁性体部と、
前記起立面に設けられた軟磁性層とを備え、
外部磁界が印加されたときに、前記軟磁性層を通過した磁界成分が前記磁気抵抗効果素子に印加されるように、前記磁気抵抗効果素子と前記軟磁性層とは非接触に配置され、
前記軟磁性層の前記第1面に対向する側から前記軟磁性層に連続して前記第1方向に延びて、前記磁気抵抗効果素子の第1面に対向する側とは反対側の面の上に、前記磁気抵抗効果素子とは非接触に配置され、軟磁性材料からなる第1延出部をさらに備えること
を特徴とする磁気センサ。 - 前記軟磁性層の前記第1面に対向する側とは反対側から前記軟磁性層に連続して前記第1方向に延びる第2延出部をさらに備える、請求項1に記載の磁気センサ。
- 前記起立面は、互いに対向する第1の起立面および第2の起立面を有し、
前記軟磁性層は、前記第1の起立面に設けられた第1の軟磁性層および第2の起立面に設けられた第2の軟磁性層を備え、
前記磁気抵抗効果素子は、前記第1の軟磁性層から流出して前記第1方向の成分に変換された前記外部磁界が印加されるように配置された第1の磁気抵抗効果素子と、前記第2の軟磁性層から流出して前記第1方向の成分に変換された前記外部磁界が印加されるように配置された第2の磁気抵抗効果素子とを備える、請求項1または2に記載の磁気センサ。 - 前記磁気抵抗効果素子は、前記第1方向の一方に沿った向きに磁化が固定された固定磁性層と、外部磁界により磁化の向きが変化する自由磁性層とを有し、
前記第1の磁気抵抗効果素子の前記固定磁性層の磁化の向きと、前記第2の磁気抵抗効果素子の前記固定磁性層の磁化の向きとは揃えられている、請求項3に記載の磁気センサ。 - 前記第1の磁気抵抗効果素子と前記第2の磁気抵抗効果素子とは直列に接続されてハーフブリッジ回路を構成する、請求項4に記載の磁気センサ。
- 前記磁気センサは、前記ハーフブリッジ回路を2つ備え、前記2つのハーフブリッジ回路はフルブリッジ回路を構成する、請求項5に記載の磁気センサ。
- 前記フルブリッジ回路に含まれる2つの前記第1の磁気抵抗効果素子および2つの前記第2の磁気抵抗効果素子は前記第1方向に並置される、請求項6に記載の磁気センサ。
- 前記第1の軟磁性層と前記第2の軟磁性層との離間距離は10μm以上である、請求項3から7のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記起立面は導電性を有し、前記軟磁性層はめっき析出物を含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 請求項9に記載の磁気センサの製造方法であって、
前記第1面上に前記磁気抵抗効果素子を形成し、
前記磁気抵抗効果素子を覆うように非磁性絶縁層を形成し、
前記非磁性絶縁層上に、前記起立面が導電性を有する前記非磁性体部を形成し、
前記起立面に通電する電気めっき処理を行って、前記めっき析出物を含む前記軟磁性層を前記起立面上に形成すること
を特徴とする磁気センサの製造方法。 - 前記非磁性絶縁層の面における前記非磁性体部が形成されていない部分に対して導体化処理を行い、
前記電気めっき処理によって、前記非磁性絶縁層の面における前記非磁性体部が形成されていない部分にめっき層を形成する、請求項10に記載の磁気センサの製造方法。 - 前記非磁性体部における前記第1面に対向する側とは反対側の面は導電性を有し、前記電気めっき処理によって前記反対側の面にめっき層を形成する、請求項10または11に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記非磁性体部は、非磁性の導電性材料を含有するめっき析出物を含む、請求項10から12のいずれか一項に記載の磁気センサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016077674A JP6725300B2 (ja) | 2016-04-07 | 2016-04-07 | 磁気センサおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016077674A JP6725300B2 (ja) | 2016-04-07 | 2016-04-07 | 磁気センサおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017187429A JP2017187429A (ja) | 2017-10-12 |
JP6725300B2 true JP6725300B2 (ja) | 2020-07-15 |
Family
ID=60044754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016077674A Active JP6725300B2 (ja) | 2016-04-07 | 2016-04-07 | 磁気センサおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6725300B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6620834B2 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-12-18 | Tdk株式会社 | 磁気センサおよび磁気センサシステム |
JP7259293B2 (ja) * | 2018-11-29 | 2023-04-18 | 株式会社レゾナック | 磁気センサおよび磁気センサの製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006003116A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Hitachi Metals Ltd | 磁気センサ |
IT1403421B1 (it) * | 2010-12-23 | 2013-10-17 | St Microelectronics Srl | Sensore magnetoresistivo integrato, in particolare sensore magnetoresistivo triassiale e suo procedimento di fabbricazione |
JP6305181B2 (ja) * | 2014-04-15 | 2018-04-04 | アルプス電気株式会社 | 磁気センサ |
-
2016
- 2016-04-07 JP JP2016077674A patent/JP6725300B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017187429A (ja) | 2017-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6747836B2 (ja) | 磁気センサおよびその製造方法 | |
JP5297539B2 (ja) | 磁気センサ | |
JP6305181B2 (ja) | 磁気センサ | |
JP5899012B2 (ja) | 磁気センサ | |
WO2012096132A1 (ja) | 磁気センサ | |
JP5210983B2 (ja) | 地磁気センサ | |
JP2012127788A (ja) | 磁気センサ | |
JP2013172040A (ja) | 磁気センサとその製造方法 | |
JP2009175120A (ja) | 磁気センサ及び磁気センサモジュール | |
JP2009162540A (ja) | 磁気センサ及びその製造方法 | |
JP5802565B2 (ja) | 磁気センサ | |
JP6121311B2 (ja) | 磁気検知装置 | |
JP6725300B2 (ja) | 磁気センサおよびその製造方法 | |
JP2018091784A (ja) | 磁場検出装置 | |
JP2015135267A (ja) | 電流センサ | |
JP2014089088A (ja) | 磁気抵抗効果素子 | |
JP2015197388A (ja) | フラックスゲート型磁気センサ | |
JP5341865B2 (ja) | 磁気センサ | |
JP2016223825A (ja) | 磁界検出装置 | |
JP2012063232A (ja) | 磁界検出装置の製造方法および磁界検出装置 | |
JP5540326B2 (ja) | 電流センサ | |
JP2018096895A (ja) | 磁場検出装置 | |
JP6080555B2 (ja) | 回転検出装置及びその製造方法 | |
JP4954317B2 (ja) | 磁気検知素子及びこの素子を用いた方位検知システム | |
JP2017096691A (ja) | 磁気センサおよびその製造方法、ならびに電流センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200609 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6725300 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |