JP2014119650A - 防眩性偏光板および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】低ヘイズであっても十分な防眩性とギラツキの抑制を達成することが出来る防眩性偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明は、ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムと、該偏光フィルム上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下であり、かつ、厚みが１００μｍ以下である防眩性偏光板であって、前記防眩層は、前記偏光フィルムと反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、前記微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ^２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２が、空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きいことを特徴とする、防眩性偏光板である。
【選択図】図１２

Description

本発明は、防眩性偏光板およびそれを用いた画像表示装置に関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するために防眩性偏光板が使用されている。

防眩性偏光板には、防眩性、画像表示装置の表面に配置した際に良好なコントラストを発現すること、画像表示装置の表面に配置した際に散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」の発生を抑制すること、及び、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩性偏光板の表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」の発生を抑制することが要望されている。

特許文献１（特開２０１０−２２４４２７号公報）には、微細な凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩性偏光板であって、微細凹凸表面の標高のパワースペクトルを制御することによって、防眩性能に優れた防眩性偏光板が得られることが開示されている。具体的には、防眩性偏光板の微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^−１におけるパワースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．０４μｍ^−１におけるパワースペクトルＨ_２ ^２の比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２を３〜１５の範囲内とすることによって、十分な防眩性とギラツキの抑制などの優れた性能を有する防眩性偏光板が得られることが開示されている。

特許文献１に開示された防眩性偏光板は、その微細凹凸表面の標高のパワースペクトルの比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２を３〜１５の範囲内とすることで、５０μｍ以上の周期を有する表面凹凸形状のうねりが減少し、効果的にギラツキを抑制することが出来ている。しかし、防眩性偏光板の光学特性の一つであるヘイズは、良好なコントラストの発現と白ちゃけの発生を抑制するためには、なるべく小さくすることが好ましいが、防眩性偏光板を低ヘイズ化した際には防眩性発現に寄与する１００μｍ付近の周期を有する表面凹凸形状のうねりまで減少してしまい、防眩性が不十分となる虞があった。

このように、防眩性、良好なコントラストの発現、白ちゃけの発生の抑制、およびギラツキの発生の抑制については特許文献１に記載の方法によって達成することが出来たが、さらなるコントラストの向上と白ちゃけの発生の抑制のためにヘイズを低下させた場合には防眩性が低下していた。また、高精細化の進む画像表示装置に配置した際にはギラツキも発生する可能性があった。

なお、この防眩性の不足という問題を解決するためには、防眩層の上に反射防止層（例えば、透明支持体／防眩層／低屈折率層や透明支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層などの構成が挙げられる）を形成し、反射率の低減によって防眩性の不足を補う方法が考えられる。しかし、防眩層の上に反射防止層を形成する場合には、均一な膜厚を有する反射防止層を形成する必要があるため、コスト高になる。また、反射防止層の膜厚の均一性が不十分な場合にはムラなどの品質上の不具合が発生するといった問題がある。

一方、ギラツキの解消という問題を解決するためには、防眩層への内部ヘイズの付与という方法が考えられる。しかし、防眩層への内部ヘイズ付与はコントラストを著しく低下させることとなる。

特開２０１０−２２４４２７号公報

本発明は、低ヘイズであっても十分な防眩性とギラツキの抑制を達成することが出来る防眩性偏光板を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、防眩層の表面凹凸形状が、１００μｍ付近の周期のうねりを有しつつ、５０μｍ付近の周期のうねりを減少させたものであれば、低ヘイズ化した際に十分な防眩性を発現しつつ、ギラツキを抑制するものとなることを見出した。また、液晶画像表示装置のカラーフィルタ等のパターンと微細凹凸表面間の距離を小さくすること、すなわち防眩性偏光板の厚みを薄くすること（具体的には防眩性偏光板の厚みを１００μｍ以下とすること）で、高精細な画像表示装置に配置した際にもギラツキが発生しないことを見出した。本発明者らは、かかる知見に基づいて本発明に到達した。

すなわち、本発明は、ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムと、該偏光フィルム上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下であり、かつ、厚みが１００μｍ以下である防眩性偏光板であって、
前記防眩層は、前記偏光フィルムと反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、
前記微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ^２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２が、空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きいことを特徴とする、防眩性偏光板である。

前記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満であることが好ましい。

前記微細凹凸表面の最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。

また、本発明は、上記の防眩性偏光板が、前記微細凹凸表面の反対側が液晶セルに向かい合うように配置されることを特徴とする画像表示装置にも関する。

本発明によれば、低ヘイズであっても十分な防眩性とギラツキの抑制を達成することが出来る防眩性偏光板を提供することができる。

また、液晶画像表示装置のカラーフィルタ等のパターンと微細凹凸表面間の距離を小さくすること、すなわち防眩性偏光板の厚みを薄くすることで、さらにギラツキを抑制することができる。

また、本発明においては、防眩層の上に反射防止層等を別途形成する必要がないため、コスト高にならず、反射防止層等の膜厚の均一性が不十分な場合に生じるムラなどの品質上の不具合が抑制される。

本発明の防眩性偏光板の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の防眩性偏光板の一例を模式的に示す斜視図である。 標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。 本発明の防眩性偏光板の微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。 二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を周波数空間における原点からの距離ｆで平均化する方法を説明する模式図である。 図４に示した防眩性偏光板の微細凹凸表面の標高を離散フーリエ変換して得られた一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示す図である。 微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。 防眩性偏光板の微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。 微細凹凸形成用金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 微細凹凸形成用金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 実施例１、２および比較例１、２の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。 図１１に示したパターンを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ^２（ｆ）を示す図である。 実施例１および２の防眩性偏光板の標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示す図である。 比較例１および２の防眩性偏光板の標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示す図である。 比較例３の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。 比較例３の防眩性偏光板の標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示す図である。

本発明の防眩性偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムと、該偏光フィルム上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下である。ここで、防眩性偏光板の全ヘイズは、次のようにして測定される。防眩層を偏光フィルム上に形成した後、偏光フィルムの防眩層が形成されていない側が接合面となるように、防眩性偏光板とガラス基板とを透明粘着剤を用いて貼合し、ガラス基板側から光を入射してＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠してヘイズを測定する。このようにして測定されるヘイズは、防眩性偏光板の全ヘイズに相当する。

本発明の防眩層は、偏光フィルムと反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、後述する微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ^２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２が、空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きいことを特徴とする。本発明の防眩性偏光板は、このような防眩層を有することで、優れた防眩性と高いギラツキ抑制性能を有する。

さらに、最近の高精細化の進む画像表示装置に配置した際にはわずかにギラツキが確認される虞があったため、本発明者らが鋭意検討を行った結果、防眩性偏光板の厚みを１００μｍ以下とすれば高精細な画像表示装置に配した際にもギラツキを十分に抑制することが分かった。

具体的には、ギラツキは防眩性偏光板の表面凹凸形状と画像表示装置の画素等のパターンの干渉によって発生すると考えられる。防眩性偏光板の厚みを１００μｍ以下とすることで、このパターンと表面凹凸形状の間の距離が短くなる。本発明者らは、この距離を短くすればするほどギラツキが抑制されることを発見した。

ここで、本発明の防眩性偏光板は、少なくともポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムと微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備えた防眩層を有する。また、一般的に偏光板は、画像表示装置に貼り付けるための粘着剤層、光学補償層、光学補償フィルム、保護フィルムなどを有するが、本発明の防眩性偏光板の「厚み」とは、これらの全ての層とフィルムの総厚みのことである。

本発明の防眩性偏光板は、全ての層とフィルムの総厚みが１００μｍ以下である。本発明者らの検討結果では総厚みは薄ければ薄いほど効果的にギラツキが抑制されることから、防眩性偏光板の総厚みは９０μｍ以下がより好ましく、８０μｍ以下がさらに好ましい。本発明の防眩性偏光板の総厚みの下限は特に限定されないが、総厚みが薄くなると偏光板としての機械的な強度が低下する傾向があるため、機械強度を確保するという観点から５０μｍ以上が好ましい。

＜偏光フィルム＞
本発明の防眩性偏光板に用いられる偏光フィルムについて説明する。本発明においては、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向された偏光フィルムが用いられる。偏光フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルおよびこれと共重合可能な他の単量体の共重合体などが例示される。酢酸ビニルに共重合される他の単量体としては、たとえば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類などが挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％、好ましくは９８〜１００モル％の範囲である。このポリビニルアルコール系樹脂は、さらに変性されていてもよく、たとえば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども使用し得る。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１，０００〜１０，０００、好ましくは１，５００〜１０，０００の範囲である。

本発明に用いられる偏光フィルムは、このようなポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て、製造される。

一軸延伸は、二色性色素による染色の前に行ってもよいし、二色性色素による染色と同時に行ってもよいし、二色性色素による染色の後に行ってもよい。一軸延伸を二色性色素による染色後に行う場合には、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また勿論、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸するには、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤により膨潤した状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常４〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色するには、たとえば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、二色性色素を含有する水溶液に浸漬すればよい。二色性色素として、具体的にはヨウ素または二色性染料が用いられる。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は通常、水１００重量部あたり０．０１〜０．５重量部程度であり、ヨウ化カリウムの含有量は通常、水１００重量部あたり０．５〜１０重量部程度である。この水溶液の温度は、通常２０〜４０℃程度であり、また、この水溶液への浸漬時間は、通常３０〜３００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性染料を用いる場合は、通常、水溶性二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性染料の含有量は通常、水１００重量部あたり０．００１〜０．０１重量部程度である。この水溶液は、硫酸ナトリウムなどの無機塩を含有していてもよい。この水溶液の温度は、通常２０〜８０℃程度であり、また、この水溶液への浸漬時間は、通常３０〜３００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬することにより行われる。ホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は通常、水１００重量部あたり２〜１５重量部程度、好ましくは５〜１２重量部程度である。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有するのが好ましい。ホウ酸水溶液におけるヨウ化カリウムの含有量は通常、水１００重量部あたり２〜２０重量部程度、好ましくは５〜１５重量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常１００〜１，２００秒程度、好ましくは１５０〜６００秒程度、さらに好ましくは２００〜４００秒程度である。ホウ酸水溶液の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、たとえば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行われる。水洗後は乾燥処理が施されて、偏光フィルムが得られる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃程度であり、浸漬時間は、通常２〜１２０秒程度である。その後に行われる乾燥処理は通常、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行われる。乾燥温度は、通常４０〜１００℃である。乾燥処理における処理時間は、通常１２０〜６００秒程度である。

こうして、ヨウ素または二色性染料が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムからなる偏光フィルムが得られる。この偏光フィルムの厚みは５μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。偏光フィルムの厚みが５μｍを下回る場合には十分な光学特性が発現しなくなる虞があり、かつ機械強度が不足する可能性もあるため好ましくない。一方、偏光フィルムの厚みが３０μｍを上回る場合には防眩性偏光板の総厚みが１００μｍを超える可能性が高くなり、結果としてギラツキが発生する可能性があるため好ましくない。

＜防眩層＞
（微細凹凸表面の標高のパワースペクトル）
まず、防眩層の微細凹凸表面の標高のパワースペクトルについて説明する。図１は、本発明の防眩性偏光板の表面を模式的に示す断面図である。図１に示されるように、本発明の防眩性偏光板１は、偏光フィルム１０１とその上に形成された防眩層１０２とを有し、防眩層１０２は、偏光フィルム１０１と反対側に微細な凹凸２を有する微細凹凸表面を備える。

ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、フィルム１表面の任意の点Ｐと、微細凹凸表面の平均高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面１０３（標高は基準として０μｍ）との防眩性偏光板の主法線方向５（上記仮想的な平面１０３における法線方向）における直線距離を意味する。

実際には防眩性偏光板は図２に模式的に示したように、二次元平面上に微細な凹凸が形成された防眩層を有する。よって、微細凹凸表面の標高は図２に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、微細凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）と表すことができる。

微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のパワースペクトルの分解能が０．００５μｍ^−１以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μｍ以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μｍ×５００μｍ以上である。

次に、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より標高のパワースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求める。

ここでｆ_ｘおよびｆ_ｙはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって、二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めることができる。この二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を表している。

以下、防眩層の微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図３は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図３に示すように、防眩層の面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高は投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。

得られる標高値の数は測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図３に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝（Ｍ−１）Δｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝（Ｎ−１）Δｙとすると、得られる標高値の数はＭ×Ｎ個である。

図３に示すように投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここでｊは０以上Ｍ−１以下であり、ｋは０以上Ｎ−１以下である。）とすると、着目点Ａに対応するフィルム面上の点Ｐの標高はｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。

ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに２００μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。

このように実際の測定では、微細凹凸表面の標高を表す関数は、Ｍ×Ｎ個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求まり、離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって二次元パワースペクトルの離散関数Ｈ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求められる。式（２）中のｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。また、Δｆ_ｘおよびΔｆ_ｙはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数間隔であり、式（３）および式（４）で定義される。

ここで、図４に示したように、防眩層の微細凹凸表面は凹凸がランダムに形成されているため、周波数空間（空間周波数領域）における二次元パワースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は原点（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）を中心に対称となる。よって、二次元関数Ｈ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、周波数空間における原点からの距離ｆ（単位：μｍ^−１）を変数とする一次元関数Ｈ^２（ｆ）に変換することが出来る。本発明の防眩性偏光板に用いられる防眩層は、この一次元関数Ｈ^２（ｆ）で表される一次元パワースペクトルが一定の特徴を有するものである。

具体的には、まず、図５に示すように周波数空間において、原点Ｏ（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）から（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点（図５中の黒丸の点）の個数Ｎnを計算する。図５に示した例ではＮn＝１６個である。次に、原点Ｏから（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点のＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値Ｈ^２ｎ（図５中の黒丸の点におけるＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値）を計算し、式（５）に示すように、その合計値Ｈ^２ｎを点の個数Ｎnで割ったものをＨ^２（ｆ）の値とした。

ここで、Ｍ≧Ｎの場合、ｎは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｎは０以上Ｍ／２以下の整数である。なお、ＭおよびＮは、図３に示されるように、それぞれｘ軸方向の測定点の数およびｙ軸方向の測定点の数を意味する。また、Δｆは（Δｆ_ｘ＋Δｆ_ｙ）／２とした。

一般的に前記した方法によって求められる一次元パワースペクトルは測定の際の雑音を含んでいる。ここで一次元パワースペクトルを求めるのに際して、この雑音の影響を除くためには、防眩層上の複数箇所の微細凹凸表面の標高を測定し、それぞれの微細凹凸表面の標高から求められる一次元パワースペクトルの平均値を一次元パワースペクトルＨ^２（ｆ）として用いることが好ましい。防眩層上の微細凹凸表面の標高を測定する箇所の数は３箇所以上が好ましく、より好ましくは５箇所以上である。

図６に、このようにして得られた微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示す。図６の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）は防眩層上の５箇所の異なる箇所の微細凹凸表面の標高から求められた一次元パワースペクトルを平均したものである。

微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２は、一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）から計算することが出来る。具体的には、式（６）の差分法によって二次導関数を計算することが出来る。

図６に示した標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２は空間周波数０．０１μｍ^−１において−１１８７８であり、空間周波数０．０２μｍ−１において８０８１であった。よって、図６から明らかなように標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を空間周波数に対する強度として表したときのグラフは空間周波数０．０１μｍ^−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１において下に凸の形状を有している。

本発明の防眩性偏光板の防眩層は、微細凹凸表面の標高から計算される一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２が、空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きいことを特徴とする。この結果、微細凹凸表面の標高から計算される一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を空間周波数ｆの関数として表したときのグラフが空間周波数０．０１μｍ^−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１において下に凸の形状を有することとなり、防眩層の表面凹凸形状は、低ヘイズ化した際に防眩効果に寄与する１００μｍ程度（空間周波数で０．０１μｍ^−１に相当）の周期のうねりを効果的に有しつつ、５０μｍ付近（空間周波数で０．０２μｍ^−１に相当）の周期のうねりを効果的に減少させたものとなる。

（微細凹凸表面の傾斜角度）
また、本発明者らは、防眩性偏光板の防眩層において、微細凹凸表面を構成する各微小面が特定の傾斜角度分布を示すようにすれば、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止するうえで一層有効であることを見出した。すなわち、防眩層の微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満であることが好ましい。微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％を上回ったりすると、凹凸表面の傾斜角度が急峻な微小面が多くなって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が小さければ小さいほどよく、０．５％未満であることが好ましく、０．１％未満であることがより好ましい。

ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の微小面の傾斜角度」とは、図２に示す防眩性偏光板１の防眩層表面の任意の点Ｐにおいて、後述するような点Ｐを含む微小面の凹凸を加味した局所的な法線６と防眩性偏光板の主法線方向５とのなす角度θを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度についても標高と同様に、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。

図７は、微細凹凸表面の微小面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図７に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する防眩層表面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお、図７では、防眩層の面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩層厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図７では、平面ＦＧＨＩに対して、実際の防眩層表面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際の防眩層表面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。

そして、得られる表面形状データの傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際の防眩層表面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際の防眩層表面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる局所的な法線（ベクトル）６の極角（図２において、主法線方向５とのなす角度θ）を求めることにより、得ることができる。各測定点（微小面）について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。

図８は、防眩層の微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図８に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図では、横軸の２目盛毎に値の上限値を表示しており、例えば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が０．５〜１°の範囲にある微小面の集合の分布を示す。また、縦軸はその集合の全体に対する割合を表し、合計すれば１になる値である。この例では、傾斜角度が５°以上である微小面の割合は略０である。

（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
防眩層の微細表面凹凸形状はＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した算術平均粗さＲａが０．０４μｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上０．６μｍ以下であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した平均長さＲＳｍが５０μｍ以上１３０μｍ以下であることが好ましい。

算術平均粗さＲａが０．０４μｍを下回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層の防眩性が不十分となる可能性がある。一方、算術平均粗さＲａが０．１μｍを上回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層に白ちゃけが発生する虞がある。

最大断面高さＲｔが０．３μｍを下回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層の防眩性が不十分となる可能性がある。一方、最大断面高さＲｔが０．６μｍを上回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層に白ちゃけが発生する虞があるし、表面凹凸形状の均一性が低下してギラツキが発生する可能性がある。

また、平均長さＲＳｍが５０μｍを下回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層の防眩性が不十分となる可能性がある。一方、平均長さＲＳｍが１３０μｍを上回る場合には、その凹凸形状を転写して得られる防眩層にギラツキが発生する虞がある。

＜防眩層の作製方法＞
上述の防眩層は、偏光フィルム上に直接形成しても良いし、透明支持体上に防眩層を形成した防眩フィルムを作製し、その防眩フィルムを接着剤層を介して防眩層側とは反対側で偏光フィルムに貼合することによって形成してもよい。

防眩層は、所定のパターンに基づいた表面形状（微細凹凸）を金型基材の表面に形成する工程を含む方法により微細凹凸形成用金型を製造し、製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルム等に転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む方法により、作製することができる。

上述のような特徴を有する防眩層の微細凹凸表面を精度よく形成するために、上記所定のパターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下において１つの極大値を有することが好ましい。ここで、「パターン」とは、防眩層の微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクなどを意味する。

また、微細凹凸形成用金型の製造に用いるパターンの空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下の第一の極大値の強度は、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下の第二の極大値における強度より小さいことが好ましい。第一の極大値の強度が第二の極大値より大きい場合にはギラツキが強くなる傾向があるため好ましくない。

パターンの二次元パワースペクトルは、たとえばパターンが画像データである場合、画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは画像データ面内の直交座標を表し、ｆ_ｘおよびｆ_ｙはｘ方向の周波数およびｙ方向の周波数を表している。

防眩層の微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、パターンの二次元パワースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、二次元パワースペクトルを計算すれば良い。パターンの一次元パワースペクトルは、パターンの二次元パワースペクトルから、微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルと同様にして求められる。

防眩層を作製するためのパターンの一次元パワースペクトルが空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下に第二の極大値を有することによって、微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表した時のグラフが空間周波数０．０１μｍ^−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１において下に凸の形状を有する防眩層が得られる。

一次元パワースペクトルが空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下に第二の極大値を有するパターンを作成するためには、ドットをランダムに配置して作成したパターンや乱数もしくは計算機によって生成された疑似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させれば良い。

ここで、上述したように防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を適切に形成することが好ましい。よって、防眩層は、上述したパターンを用いて微細凹凸表面を有する金型を製造し、製造された金型の凹凸面を透明支持体上または偏光フィルム上の光硬化性樹脂層等に転写し、次いで凹凸面が転写された防眩層と透明支持体または偏光フィルムとを金型から剥がすことによって、防眩層を透明支持体上または偏光フィルム上に作製することを特徴とするエンボス法によって作製されることが好ましい。

ここで、エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。

ＵＶエンボス法は、透明支持体または偏光フィルムの表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上または偏光フィルム上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体または偏光フィルム側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層（防眩層）が形成された透明支持体または偏光フィルムを剥離する。

ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は、特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムは、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。

（防眩フィルム）
防眩フィルムを作製する場合に用いられる透明支持体は、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。

透明支持体の厚みは１０μｍ〜６０μｍの範囲内であることが好ましい。透明支持体の厚みが１０μｍを下回る場合には機械強度が不足する可能性があるため好ましくない。一方、透明支持体の厚みが６０μｍを上回る場合には防眩性偏光板の総厚みが１００μｍを超える可能性が高くなり、結果としてギラツキが発生する可能性があるため好ましくない。

また、偏光フィルムと防眩フィルムを貼り合わせる場合に用いられる接着剤としては、従来公知のものを使用することが出来る。例えばポリビニルアルコール系樹脂を用いた水溶性接着剤、エポキシ系樹脂のカチオン重合を利用した接着剤、アクリル系樹脂のラジカル重合を利用した接着剤、エポキシ系樹脂とアクリル系樹脂の混合物によるカチオン重合とラジカル重合を利用した接着剤などを使用することが出来る。接着剤の厚みは、接着剤の種類によって異なるため一概には言えないが、０．１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。接着剤層の厚みが０．１μｍを下回る場合には十分な接着強度が得られない虞があるため好ましくない。一方、接着剤層の厚みが５μｍを上回る場合には防眩性偏光板の総厚みが１００μｍを超える可能性が高くなり、結果としてギラツキが発生する可能性があるため好ましくない。

＜微細凹凸形成用金型の製造方法＞
以下では、防眩層の表面に微細な凹凸を形成するために用いられる金型（微細凹凸形成用金型）を製造する方法について説明する。微細凹凸形成用金型の製造方法については、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２エッチング工程と、〔９〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。

図９は、微細凹凸形成用金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図９には各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図９を参照しながら、本発明の微細凹凸形成用金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。

〔１〕第１めっき工程
微細凹凸形成用金型の製造方法では、まず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。これは、銅めっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。

第１めっき工程において用いられる銅としては、銅の純金属であることができるほか、銅を主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味である。銅めっきは、電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。

銅めっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどとのからみから、一般的には５００μｍ程度までで十分である。

なお、微細凹凸形成用金型の製造方法において、基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。

また、基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩性偏光板または防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。

〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきが施された基材表面を研磨する。微細凹凸形成用金型の製造方法では、当該工程を経て、基材表面を、鏡面に近い状態に研磨することが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩性偏光板または防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図９（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。

銅めっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、研磨工程において切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材表面７を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することが出来るが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。

〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材７の表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図９（ｂ）には、基材７の表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。

感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。

これらの感光性樹脂を基材７の表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。

感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、リングコートなどの公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。

〔４〕露光工程
続く露光工程では、上記した一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下において１つの極大値を有するパターンを、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。

微細凹凸形成用金型の製造方法において表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。微細凹凸形成用金型の製造方法においては、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度よく露光するために、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。

図９（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスクとなる。

〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１１は現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１０のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１１が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。

現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。

現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。

図９（ｄ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図９（ｃ）において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図９（ｅ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図９（ｃ）において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。

〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材のめっきが施された表面をエッチングする。

図１０は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１０（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い領域１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。

第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。

第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製された防眩層が白ちゃけることとなるため好ましくない。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。

〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができて、ｐＨ、温度、濃度および浸漬時間などを変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬剥離、スプレー剥離、ブラシ剥離、超音波剥離などの方法を用いることができる。

図１０（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスクとして使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク１２とエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成される。

〔８〕第２エッチング工程
第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、エッチング処理によって鈍らせる。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて作製された防眩層の光学特性が好ましい方向へと変化する。図１０（ｃ）には、第２エッチング処理によって、金型用基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１６が形成された状態が示されている。

第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩層の光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、４〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。

〔９〕第２めっき工程
続いて、クロムめっきを施すことによって、第２の表面凹凸形状１６を鈍らせるとともに、金型表面を保護する。図１０（ｄ）には、上述したように第２エッチング工程のエッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状１６にクロムめっき層１７を形成し、クロムめっき層の表面１８を鈍らせた状態が示されている。

本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ_３）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。

なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型を用いて作製された防眩層では、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、防眩層上に欠陥が発生する可能性も高くなる。

また、めっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。

このように本発明では、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが好ましい。微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られるためである。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩層の光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。

当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。

＜保護フィルム＞
本発明の防眩性偏光板は、機械強度の観点から偏光フィルムの防眩層が形成されている側とは反対側に保護フィルムが貼合されていてもよい。保護フィルムは、保護フィルム一体型の光学補償フィルムであってもよい。ここで用いる保護フィルムは、具体的には、現在、偏光板の保護フィルムとして最も広く用いられているトリアセチルセルロースなどの透明樹脂のフィルムを用いるのが好ましい。

本発明で用いる保護フィルムの例として、トリアセチルセルロース、非晶性ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリサルホン系樹脂フィルム、脂環式ポリイミド系樹脂フィルムなどが挙げられる。これらの中では、トリアセチルセルロースもしくは非晶性ポリオレフィン系樹脂からなるフィルムが特に好ましく用いられる。非晶性ポリオレフィン系樹脂は通常、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような環状オレフィンの重合単位を有するものであり、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体であってもよい。中でも、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂が代表的である。また、極性基が導入されているものも有効である。市販されている非晶性ポリオレフィン系樹脂として、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）、ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）、ＡＰＯ（三井化学（株）製）、アペル（三井化学（株）製）などが挙げられる。このような市販品の非晶性ポリオレフィン系樹脂を用いる場合、当該非晶性ポリオレフィン系樹脂を製膜してフィルムとすることになるが、製膜には、溶剤キャスト法、溶融押出法など、公知の方法が適宜用いられる。

偏光フィルムの防眩層が形成されている側とは反対側に保護フィルムを貼合する場合にも、上述した接着剤を用いて貼合することが出来る。

保護フィルムは、偏光フィルムへの貼合に先立って、貼合面に、ケン化処理、コロナ処理、プライマ処理、アンカーコーティング処理などの易接着処理が施されてもよい。

＜光学補償フィルム、光学補償層＞
本発明の防眩性偏光板は、偏光フィルムの防眩層が形成されている側とは反対側に光学補償層を有していてもよい。この光学補償層は位相差の補償などを目的としており、各種プラスチックの延伸フィルムなどからなる複屈折性フィルム、ディスコティック液晶やネマチック液晶が配向固定されたフィルム、フィルム基材上に上述した液晶層が形成されたものなどが挙げられる。これらの光学補償層は一層のみでも構わないし、複数層でも構わない。複数層の光学補償層を設ける場合には、同種の光学補償層を積層しても構わないし、異種の光学補償層を積層しても構わない。たとえば、保護フィルム一体型の光学補償フィルムにさらに各種プラスチックの延伸フィルムなどからなる複屈折性フィルムなどを粘着剤を介して積層しても構わないし、保護フィルム一体型の光学補償フィルムに液晶を配向固化しても構わない。

複屈折性フィルムを形成するプラスチックとしては、たとえば、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミド、非晶性ポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。延伸フィルムは、一軸や二軸などの適宜な方式で処理したものであってよい。また、熱収縮性フィルムとの接着下に収縮力および／または延伸力をかけることでフィルムの厚さ方向の屈折率を制御した複屈折性フィルムでもよい。

偏光フィルムの防眩層が形成されている側とは反対側に形成される光学補償層は、上述した接着剤を用いて一体化してもよいし、接着作業の簡便性や光学歪の発生防止などの観点から、後述する粘着剤（感圧接着剤とも呼ばれる）を使用しても良い。

光学補償フィルムおよび光学補償層は液晶セルの各駆動モードに合わせて適宜選択すればよい。液晶の駆動モードとしては、垂直配向（Vertical Alignment：ＶＡ）モード、横電界（In-Plane Switching：ＩＰＳ）モード、ねじれネマチック（Twisted Nematic：ＴＮ）モードなどが挙げられる。垂直配向モードの液晶セルであれば、トリアセチルセルロースなどのアシル化セルロースに代表されるセルロース系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネートなどの正の屈折率異方性を有する透明性樹脂からなるフィルムを、適当な条件下で一軸または二軸延伸したｎ_ｘ＞ｎ_ｙ≧ｎ_ｚの関係を有するフィルムを使用することができる。ここでｎ_ｘはフィルムの面内遅相軸方向の屈折率を、ｎ_ｙはフィルムの面内進相軸方向の屈折率を、ｎ_ｚはフィルムの厚さ方向の屈折率を表している。また、環状オレフィン系樹脂は、ノルボルネンやジメタノオクタヒドロナフタレンのような環状オレフィンをモノマーとする樹脂であり、市販品としては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）、ゼオネックス（日本ゼオン（株）製）などがある。これらの透明性樹脂の中でも、光弾性係数が小さく、使用条件下における熱歪による面内特性ムラの発生などが少ないことから、トリアセチルセルロースや、環状オレフィン系樹脂が好適に用いられる。また、ディスコティック液晶の基板上への塗布、コレステリック液晶の短ピッチでの基板上への塗布、マイカなどの無機層状化合物の層を基板上に形成、樹脂の逐次または同時二軸延伸、未延伸の溶剤キャストフィルムなどのｎx≒ｎy＞ｎzの関係を有する光学補償層を使用することも出来る。

また、ＴＮモードの液晶セルであれば、有機化合物、中でも液晶性を示し、円盤状の分子構造を有する化合物や、液晶性を示さないが、電界または磁界により負の屈折率異方性を発現する化合物が、トリアセチルセルロースなどからなる透明樹脂フィルム上に塗布され、光学軸がフィルム法線方向から５〜５０°の間で傾斜するように配向せしめられたフィルムなどが好ましく用いられる。配向は、一方向のみならず、たとえば、フィルムの片面から他面に向かって順次傾きが大きくなる、いわゆるハイブリッド配向であってもよい。液晶性を示す円盤状の分子構造を有する有機化合物としては、低分子または高分子のディスコティック液晶、たとえば、トリフェニレン、トルクセン、ベンゼンなどの平面構造を有する母核に、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換ベンゾイルオキシ基、アルコキシ置換ベンゾイルオキシ基などの直鎖状の置換基が放射状に結合したものが例示される。中でも、可視光領域に吸収を示さないものが好ましい。これらの円盤状の分子構造を有する有機化合物は、１種類を単独で用いるのみならず、本発明に必要な配向を得るために、必要に応じて何種類かを混合して用いたり、あるいは高分子マトリクスなど、他の有機化合物と混合して用いたりすることができる。上述したように混合して用いる有機化合物としては、円盤状の分子構造を有する有機化合物と相溶性を有するか、円盤状の分子構造を有する有機化合物を、光を散乱しない程度の粒径に分散できるものであれば特に限定されない。セルロース系樹脂からなる透明基材フィルムに、かかる液晶性化合物からなる層が設けられ、光学軸がフィルム法線に対して傾斜しているフィルムとしては、たとえば、ＷＶフィルム（富士写真フイルム（株）製）を好適に用いることができる。また、細長い棒状構造を有する有機化合物、中でもネマティック液晶性を示し、正の光学異方性を与える分子構造を有する化合物や、液晶性を示さないが、電界または磁界により正の屈折率異方性を発現する化合物が、セルロース系樹脂などからなる透明基材フィルム上に製膜され、光学軸がフィルム法線方向から５〜５０°の間で傾斜するように配向させて得られるフィルムも好ましく用いられる。この配向は、一方向のみならず、たとえば、フィルムの片面から他面に向かって順次傾きが大きくなる、いわゆるハイブリッド配向であってもよい。透明基材フィルムにネマティック液晶化合物からなる層が設けられ、光学軸がフィルム法線に対して傾斜しているフィルムとしては、たとえば、ＮＨフィルム（新日本石油（株）製）を好適に用いることができる。

＜粘着剤層＞
本発明の防眩性偏光板を画像表示装置に貼り合わせるための粘着剤には、アクリル系重合体や、シリコーン系重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベースポリマーとしたものを用いることができる。中でもアクリル系粘着剤のように、光学的な透明性に優れ、適度な濡れ性や凝集力を保持し、基材との接着性にも優れ、さらには耐候性や耐熱性などを有し、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれなどの剥離問題を生じないものを選択して用いることが好ましい。アクリル系粘着剤においては、メチル基やエチル基やブチル基などの炭素数が２０以下のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸のアルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチルなどからなる官能基含有アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは２５℃以下、さらに好ましくは０℃以下となるように配合した、重量平均分子量が１０万以上のアクリル系共重合体が、ベースポリマーとして有用である。

偏光板への粘着剤層の形成は、たとえば、トルエンや酢酸エチルなどの有機溶媒に粘着剤組成物を溶解または分散させて１０〜４０重量％の溶液を調製し、これを偏光板上に直接塗工して粘着剤層を形成する方式や、予めプロテクトフィルム上に粘着剤層を形成しておき、それを偏光板上に移着することで粘着剤層を形成する方式などにより、行うことができる。粘着剤層の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、１〜２５μｍ程度の範囲が適当である。

＜画像表示装置＞
本発明は、さらに、上述した本発明の防眩性偏光板と、画像表示素子とを備え、前記防眩性偏光板は、そのハードコート層側を外側にして画像表示素子の視認側に配置される画像表示装置についても提供する。

ここで、画像表示素子は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行なう液晶パネルが代表的である。本発明の画像表示装置においては、防眩性偏光板は、画像表示素子よりも視認側に配置される。この際、防眩層の凹凸面が外側（視認側）となるように配置される。このように、本発明の防眩性偏光板を備えた画像表示装置は、防眩層の有する表面の凹凸により入射光を散乱して映り込み像をぼかすことができ、優れた視認性を与える。

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
（Ａ）偏光フィルムの作製
厚み７５μｍ、重合度２４００、ケン化度９９．９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００重量部あたりヨウ素を０．０５重量部及びヨウ化カリウムを５重量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００重量部あたりホウ酸を７．５重量部及びヨウ化カリウムを６重量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、偏光フィルムを得た。この偏光フィルムの膜厚は２３μｍであった。

（Ｂ）微細凹凸形成用金型の作製
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図１１に示すパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。

その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は４．５μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は１２μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。

なお、図１１は、本実施例で用いたパターンである画像データの一部を表わした図である。図１１に示したパターンである画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。

図１２は、図１１に示すパターンを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ^２（ｆ）を示す図である。図１２より、防眩フィルムＡ（実施例１）の作製に使用したパターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフは、空間周波数０．００７μｍ^−１以上０．０１５μｍ^−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ^−１以上０．１μｍ^−１以下に第二の極大値を有することが分かる。

（Ｃ）防眩フィルムの形成
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０重量％で溶解されており、硬化後に１.５３の屈折率を示す紫外線硬化性樹脂組成物Ａを入手した。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０重量部
多官能ウレタン化アクリレート ４０重量部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド ５重量部。

この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが７μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製した。

（Ｄ）防眩性偏光板の作製
水１００重量部に対して、（株）クラレから販売されているカルボキシル基変性ポリビニルアルコール「クラレポバール ＫＬ３１８」（変性度２モル％）１．８重量部を溶解し、さらにそこに、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂である住化ケムテックス（株）から販売されている「スミレーズレジン ６５０」（固形分３０重量％の水溶液）を１.５重量部加えて溶解し、ポリビニルアルコール系接着剤を作製した。

防眩フィルムＡの防眩層が形成された側とは反対側にケン化処理した後、上述のように調製したポリビニルアルコール系接着剤を１０μｍバーコータで塗工し、その上に先に得られた偏光フィルムを貼合した。その後、８０℃で５分間乾燥し、さらに、常温で１日間養生した。この後、偏光フィルムの防眩フィルムを貼り合わせた側とは反対側にプロテクトフィルム上に形成された厚さ１５μｍのアクリル系粘着剤層を移着することで粘着剤層を形成して防眩性偏光板Ａを得た。この防眩性偏光板Ａの総厚みは８５μｍであった。

（Ｅ）液晶表示装置の作製
ＩＰＳモードの液晶表示素子（すなわち画像表示素子）が搭載された市販のノートパソコン（ＶＡＩＯ ＳＶＳ１５１１９ＦＪＢ・Ｓ、ソニー（株）製）の液晶セルの前面（視認側）から偏光板を剥離し、液晶セルの前面に上記防眩性偏光板Ａを、偏光板の吸収軸が元々液晶セルに貼付していた偏光板の吸収軸方向と一致するように貼り合わせて、液晶パネルを作製した。次に、この液晶パネルを液晶表示素子に戻し、液晶表示装置Ａ（すなわち画像表示装置）を作製した。

＜実施例２＞
粘着剤層の厚みを２５μｍにした以外は、実施例１と同様にして防眩性偏光板Ｂと液晶表示装置Ｂを作製した。この防眩性偏光板Ｂの総厚みは９５μｍであった。

＜比較例１＞
厚み６０μｍのＴＡＣフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＣを作製した。また、防眩フィルムＣを用いた以外は、実施例１同様にして防眩性偏光板Ｃと液晶表示装置Ｃを作製した。防眩性偏光板Ｃの総厚みは１０５μｍであった。

＜比較例２＞
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ^２（ロールの表面積１ｃｍ^２あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｂを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。得られた金型Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＤを作製した。また、防眩フィルムＤを用いた以外は、実施例１同様にして防眩性偏光板Ｄと液晶表示装置Ｄを作製した。防眩性偏光板Ｄの総厚みは８５μｍであった。

＜比較例３＞
図１５に示すパターン（ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した）を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第１のエッチング処理におけるエッチング量は４μｍとなるように設定し、第２のエッチング処理におけるエッチング量は１１μｍとなるように設定したこと以外は、実施例１と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ｃを用いた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＥを作製し、防眩フィルムＥを用いた以外は実施例１と同様にして防眩性偏光板Ｅと液晶表示装置Ｅを作製した。防眩性偏光板Ｅの厚みは８５μｍであった。

［防眩性偏光板の評価］
上記実施例および比較例で得られた防眩性偏光板について、以下の評価を行った。評価結果を表１に示す。また、図１３、図１４および図１６に、実施例１、２および比較例１〜３で作製した防眩性偏光板Ａ〜Ｅの標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ^２（ｆ）を示した。

〔１〕防眩性偏光板の表面形状の測定
（表面の標高の測定）
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩性偏光板の表面の標高を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍として測定を行った。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は１２７０μｍ×９５０μｍであった。

（微細表面凹凸の標高のパワースペクトル）
上で得られた測定データの中央部から５１２個×５１２個（測定面積で８５０μｍ×８５０μｍ）のデータをサンプリングし、防眩性偏光板の微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求めた。二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｈ^２（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ^２（ｆ）を計算した。各サンプルにつき５箇所の表面の標高を測定し、それらのデータから計算される一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ^２（ｆ）の平均値を各サンプルの一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ^２（ｆ）とした。

〔２〕防眩性偏光板の光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩性偏光板の全ヘイズは、防眩性偏光板を光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層形成面とは反対側の面でガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩性偏光板について、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて測定した。

（透過鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩性偏光板の透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス側から光を入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。

（反射鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩性偏光板の反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるように黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で凹凸形状面側から光を４５°で入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の反射鮮明度の最大値は３００％となる。

〔３〕防眩性偏光板の評価
防眩性偏光板を前面（視認側）に添付して作製した液晶表示装置を明室内にて黒表示状態として、映り込み状態、白ちゃけを目視観察した。次に、明室内で白表示状態とし、ギラツキに関しても目視観察した。映り込み状態、白ちゃけ、ギラツキに関しての評価基準は以下の通りである。

（映り込み）
１：映り込みが観察されない。
２：映り込みが少し観察される。
３：映り込みが明瞭に観察される。

（白ちゃけ）
１：白ちゃけが観察されない。
２：白ちゃけが少し観察される。
３：白ちゃけが明瞭に観察される。

（ギラツキ）
１：ギラツキが認められない。
２：ごくわずかにギラツキが観察される。
３：ひどくギラツキが観察される。

表１に示したように、防眩性偏光板Ａ〜Ｃ（実施例１および２、比較例１）について、標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２は空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きかった。これより、図１３および図１４に示すように、防眩性偏光板Ａ〜Ｃの標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフは、空間周波数０．０１μｍ^−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１において下に凸の形状を有していた。

一方、防眩性偏光板Ｄ（比較例２）について、標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２は空間周波数０．０１μｍ^−１において０より大きく、空間周波数０．０２μｍ^−１において０未満であった。その結果、図１４に示すように防眩性偏光板Ｄのパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフは、空間周波数０．０１μｍ^−１において下に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１において上に凸の形状を有していた。

また、防眩性偏光板Ｅ（比較例３）について、標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２は空間周波数０．０１μｍ^−１において０より大きく、空間周波数０．０２μｍ^−１においても０より大きかった。その結果、図１６に示すように防眩性偏光板Ｅのパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフは、空間周波数０．０１μｍ^−１において下に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ^−１においても下に凸の形状を有していた。

本発明の要件を満たす防眩性偏光板ＡおよびＢ（実施例１および２）は低ヘイズであるにも関わらず、必要十分な防眩性と優れたギラツキ抑制効果を発現した。一方、防眩性偏光板ＡおよびＢと同様の空間周波数特性を示す防眩性偏光板Ｃ（比較例１）も必要十分な防眩性を示したが、偏光板の厚みが１０５μｍであるために、ギラツキが観察された。また、標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフが、空間周波数０．０２μｍ^−１において上に凸の形状を有していた防眩性偏光板Ｄ（比較例２）はギラツキが強く観察された。また、標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフが、空間周波数０．０１μｍ^−１において下に凸の形状を有していた防眩性偏光板Ｅ（比較例３）は映り込みが発生し、防眩性が不十分であった。

１ 防眩性偏光板、１０１ 偏光フィルム、１０２ 防眩層、１０３ 仮想的な平面、２ 微細な凹凸、３ 投影面、５ 主法線方向、６ 局所的な法線、６ａ〜６ｄ ポリゴン面の法線ベクトル、７ 金型用基材、８ 研磨工程によって研磨された基材の表面、９ 感光性樹脂膜、１０ 露光された領域、１１ 露光されていない領域、１２ マスク、１３ マスクの無い領域、１５ 第１の表面凹凸形状（第１エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１６ 第２の表面凹凸形状（第２エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１７ クロムめっき層、１８ クロムめっき層の表面。

Claims (4)

1. ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムと、該偏光フィルム上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下であり、かつ、厚みが１００μｍ以下である防眩性偏光板であって、
   前記防眩層は、前記偏光フィルムと反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、
   前記微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ^２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ^２ｌｏｇＨ^２（ｆ）／ｄｆ^２が、空間周波数０．０１μｍ^−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ^−１において０より大きいことを特徴とする、防眩性偏光板。
2. 前記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満である、請求項１に記載の防眩性偏光板。
3. 前記微細凹凸表面の最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上１μｍ以下である、請求項１または請求項２に記載の防眩性偏光板。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性偏光板が、前記微細凹凸表面の反対側が液晶セルに向かい合うように配置されることを特徴とする画像表示装置。