WO2022024678A1 - ディスプレイユニット - Google Patents

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WO2022024678A1
WO2022024678A1 PCT/JP2021/025336 JP2021025336W WO2022024678A1 WO 2022024678 A1 WO2022024678 A1 WO 2022024678A1 JP 2021025336 W JP2021025336 W JP 2021025336W WO 2022024678 A1 WO2022024678 A1 WO 2022024678A1
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WO
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layer
antiglare layer
display
main surface
display unit
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Application number
PCT/JP2021/025336
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English (en)
French (fr)
Inventor
眞誠 一色
Original Assignee
Ａｇｃ株式会社
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Definitions

  • This disclosure relates to a display unit.
  • the antiglare layer is a glass substrate that has been subjected to antiglare treatment and has irregularities.
  • the antiglare treatment includes, for example, at least one selected from frost treatment, etching treatment, and blasting treatment of the surface of the glass substrate, or coating and firing of a coating liquid on the glass substrate.
  • the anti-glare treatment reduces the reflection of surrounding objects or lighting, but may cause glare called Sparkle.
  • Sparkle is a random unevenness with a size larger than a pixel. The unevenness is caused by the unevenness acting as a minute lens. Further, the antiglare treatment may cause scattering of transmitted light, increase the haze value, and reduce the sharpness of the transmitted image.
  • the display unit described in Patent Document 3 has a pixel substrate and an antiglare layer.
  • the unevenness of the antiglare layer acts as a microlens.
  • the antiglare layer is arranged close to the pixel array so that the distance between the pixel array and the antiglare layer is smaller than the focal length of the microlens.
  • Patent Document 3 it is mentioned that the focal point of the microlens is on the pixel array as the cause of Sparkle generation.
  • a lens focused on a pixel array is a convex lens, not a concave lens.
  • the focal point of the concave lens is located on the opposite side of the pixel array with respect to the antiglare layer.
  • One aspect of the present disclosure provides a technique for suppressing glare when the unevenness of the antiglare layer mainly acts as a concave lens.
  • the display unit includes a display including a liquid crystal layer or a light emitting layer, and an antiglare layer.
  • the antiglare layer includes a first main surface including irregularities and a second main surface opposite to the first main surface, and is laminated on the display with the second main surface facing the display. ..
  • the screen of the display is arranged vertically or at an angle to the ground.
  • the median value of the rate of change in the inclination of the unevenness in the horizontal direction of the screen is positive, the glare index value S is less than 5.00%, and the reflection image diffusivity index value D is 0. It is 10 or more and the haze value is 25.00% or less.
  • the total of the obtained values is larger than 0 mm. , 1.2 mm or less.
  • glare can be suppressed when the unevenness of the antiglare layer mainly acts as a concave lens.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a display unit according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a display unit according to a modified example.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of a measuring device having a reflected image diffusivity index value D.
  • the display unit 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
  • the display unit 1 is, for example, for an in-vehicle use.
  • the use of the display unit 1 is not particularly limited.
  • the display unit 1 includes, for example, a display 2 and an antiglare layer 3.
  • the display 2 and the antiglare layer 3 are adhered to each other by an adhesive layer such as OCA (Optical Clear Adaptive).
  • OCA Optical Clear Adaptive
  • the display 2 is, for example, a liquid crystal display.
  • the display 2 includes a touch sensor 21, a first polarizing element 22, a color filter substrate 23, a liquid crystal layer 24, a TFT substrate 25, a second polarizing element 26, and a backlight 27 from the antiglare layer 3 side. Are included in this order.
  • the touch sensor 21 detects the proximity of an object such as a finger to the screen of the display 2.
  • the touch sensor 21 accepts the operation of the occupant of the vehicle.
  • the touch sensor 21 has an arbitrary configuration, and the display 2 does not have to include the touch sensor 21.
  • the first polarizing element 22 and the second polarizing element 26 are linear polarizing elements, respectively. These two linear transducers are arranged with the absorption axis offset by 90 °.
  • the color filter substrate 23, the liquid crystal layer 24, and the TFT substrate 25 are arranged between the first polarizing element 22 and the second polarizing element 26.
  • the color filter substrate 23 includes, for example, a glass substrate, a color filter, a common electrode, and an alignment film in this order from the first polarizing element 22 toward the liquid crystal layer 24.
  • the alignment film orients the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 24.
  • the TFT substrate 25 includes, for example, a glass substrate, a pixel electrode, and an alignment film in this order from the second polarizing element 26 toward the liquid crystal layer 24.
  • the alignment film orients the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 24.
  • the TFT substrate 25 further includes a TFT as a driving element for driving the pixel electrodes.
  • the liquid crystal layer 24 is arranged between the color filter substrate 23 and the TFT substrate 25. A voltage is applied to the liquid crystal layer 24 for each pixel. The orientation of the liquid crystal molecules changes depending on the application of voltage, and the brightness of the pixels changes.
  • the backlight 27 irradiates the liquid crystal layer 24 with light via the second polarizing element 26 and the TFT substrate 25.
  • the light passes through the color filter substrate 23, the first polarizing element 22, the touch sensor 21, and the antiglare layer 3 and is emitted.
  • the display 2 may further include a functional layer other than the above.
  • the display 2 may further have an adhesive layer.
  • the adhesive layer adheres adjacent layers to each other.
  • the antiglare layer 3 includes a first main surface 3a including irregularities and a second main surface 3b opposite to the first main surface 3a, and the second main surface 3b is directed toward the display 2 and is above the display 2. Is laminated to.
  • the antiglare layer 3 is a so-called cover glass.
  • the antiglare layer 3 is a glass substrate, and the glass substrate includes irregularities.
  • the unevenness is formed by, for example, at least one selected from a frost treatment, an etching treatment, and a blast treatment on the surface of the glass substrate.
  • the unevenness can disperse the reflection direction of light and suppress the reflection of surrounding objects or lighting.
  • the unevenness is formed on the first main surface 3a and not on the second main surface 3b.
  • the second main surface 3b is protected by a mask when forming irregularities on the first main surface 3a.
  • the unevenness may also be formed on the second main surface 3b.
  • the antiglare layer 3 of the present embodiment is a glass substrate, and the glass substrate contains irregularities, but the antiglare layer 3 includes a glass substrate and a coating layer, and the coating layer may include irregularities. Unevenness is formed by applying and firing the coating liquid.
  • the glass substrate of the antiglare layer 3 is also simply referred to as a glass substrate.
  • the glass substrate is formed by a float method, a fusion method, a down draw method, or the like.
  • the glass substrate may be bent. Further, the glass substrate may be tempered glass.
  • the tempered glass is air-cooled tempered glass or chemically tempered glass.
  • the thickness of the glass substrate is, for example, 0.05 mm to 3 mm. If the glass substrate is tempered glass, the strength of the glass substrate can be ensured while reducing the thickness of the glass substrate.
  • the glass of the glass substrate is, for example, soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, or non-alkali glass. Among these, aluminosilicate glass is preferable.
  • the antiglare layer 3 may include a resin substrate instead of the glass substrate or in addition to the glass substrate.
  • the resin substrate has excellent flexibility.
  • the median value of the rate of change in the slope of unevenness is positive.
  • the median value is calculated from the height distribution of the unevenness.
  • the height distribution of the unevenness is measured with a commercially available laser microscope or the like.
  • the measuring device and measuring conditions are as follows, for example. Measuring device: Keyence laser microscope VK-X250 Measuring conditions: Objective lens 50x, high-definition mode.
  • the height z (xi, yj) of the unevenness is measured at a plurality of points (xi, yj) arranged in a matrix at equal pitches.
  • i is a natural number from 1 to M
  • j is a natural number from 1 to N.
  • the pitch in the x-axis direction and the pitch in the y-axis direction of the plurality of measurement points are the same, for example, 0.139 ⁇ m.
  • the x-axis, y-axis and z-axis are perpendicular to each other.
  • the x-axis and y-axis are set parallel to the screen of the display 2.
  • the screen of the display 2 is arranged vertically or diagonally with respect to the ground, and the horizontal direction of the screen is the x-axis direction.
  • the z-axis positive direction is set in the direction from the second main surface 3b of the antiglare layer 3 toward the first main surface 3a.
  • the slope of the unevenness in the x-axis direction is a value obtained by first-ordering z (xi, yj) with respect to x, and is expressed by the following equation (1).
  • the rate of change in the slope of the unevenness in the x-axis direction is a value obtained by second-order differentializing z (xi, yj) with respect to x, and is expressed by the following equation (2).
  • the fact that the median value of the rate of change in the inclination of the unevenness (second derivative) in the x-axis direction is positive means that the unevenness of the antiglare layer 3 mainly acts as a concave lens.
  • the glare index value S of the antiglare layer 3 is less than 5.00%.
  • the measuring method of S is the same as the measuring method described in Patent Documents 1 and 2, and is specifically as follows.
  • Pixel Pattern attached to SMS-1000 manufactured by D & MS is installed as a photomask with its pattern surface facing up.
  • the antiglare layer 3 is installed on the pattern surface of the photomask with its first main surface 3a facing upward.
  • the camera of the apparatus SMS-1000 captures an area of 190 dpi of the pattern surface of the photomask through the antiglare layer 3.
  • the Sparkle value obtained by image analysis of the measuring device is S.
  • the measurement is performed in the DIM (Difference Image Method) mode.
  • the distance between the image sensor of the camera and the antiglare layer 3 is 540 mm.
  • As the camera lens a 23FM50SP lens having a focal length of 50 mm is used at the aperture 16.
  • S is, for example, 0% or more and less than 5.00%, preferably 0% or more and less than 4.00%, and more preferably 0% or more and less than 3.00%. If S is less than 5.00%, glare is suppressed.
  • the antiglare layer 3 has a reflected image diffusivity index value D of 0.10 or more.
  • the measuring method of D will be described with reference to FIG.
  • the measuring device 70 includes a linear light source device 71 and a surface brightness measuring device 75.
  • the linear light source device 71 includes a light source 711 and a black flat plate 712.
  • the black flat plate 712 is arranged horizontally and has a rectangular (101 mm ⁇ 1 mm) slit in a vertical direction.
  • a light source 711 is provided in the slit.
  • the light source 711 is a white light source of a cold cathode fluorescent lamp (CCFL).
  • CCFL cold cathode fluorescent lamp
  • the antiglare layer 3 is horizontally arranged below the linear light source device 71 and the surface luminance measuring device 75 with the first main surface 3a having irregularities formed facing upward.
  • the surface luminance measuring device 75 is arranged on a plane perpendicularly intersecting with the linear light source device 71 at the center in the longitudinal direction of the linear light source device 71.
  • the focal point of the surface luminance measuring instrument 75 is aligned with the image of the linear light source device 71 reflected by the antiglare layer 3. That is, the focused surface of the image is aligned with the black flat plate 712.
  • a black plate is brought into contact with the second main surface 3b of the antiglare layer 3. Therefore, the light detected by the surface luminance measuring instrument 75 is the reflected light reflected by the antiglare layer 3.
  • This ray 734 is observed by the surface luminance measuring instrument 75 as an image of a portion where the black flat plate 712 and the virtual ray 733-2 intersect.
  • the incident angle of the virtual ray 733-2 is equal to the reflection angle of the ray 734.
  • the brightness of the portion illuminated by the light beam 732 specularly reflected by the antiglare layer 3 becomes the highest, and a bright line appears in that portion.
  • An image with lower brightness can be obtained as the distance from the emission line to the left and right sides.
  • the brightness at a position away from the emission line becomes the brightness corresponding to the intensity of the light rays scattered by the antiglare layer 3. Therefore, the luminance cross-section profile in the direction perpendicular to the emission line is extracted.
  • the data may be integrated in the direction parallel to the emission line.
  • D is calculated by substituting the obtained D1, D2, and D3 into the following equation (3).
  • the reflected image diffusivity index value D shows a good correlation with the judgment result of the antiglare property visually by the observer. For example, the smaller D (closer to zero), the worse the antiglare property, and conversely, the larger D (closer to 1), the better the antiglare property.
  • the measurement of D1, D2 and D3 can be carried out by using, for example, the device SMS-1000 manufactured by DM & S.
  • a C1614A lens with a focal length of 16 mm is used with an aperture of 5.6.
  • the distance from the first main surface 3a of the antiglare layer 3 to the camera lens is about 300 mm, and the Imaging Scale is set in the range of 0.0276 to 0.0278.
  • D is, for example, 0.10 or more and less than 1.00, preferably 0.20 or more and less than 1.00, and more preferably 0.30 or more and less than 1.00.
  • D is more preferably 0.90 or more. If D is 0.90 or more, S tends to be small.
  • the antiglare layer 3 has a haze value of 25.00% or less.
  • the haze value is measured with a commercially available measuring device.
  • the measuring device and measuring conditions are as follows, for example. Measuring device: Suga tester Haze meter HZ-V3 Measurement conditions: Based on Japanese Industrial Standards (JIS K 7136: 2000), measurement is performed using a C light source.
  • the haze value is, for example, 0% or more and 25.00% or less, preferably 0% or more and 20.00% or less, and more preferably 0% or more and 15.00% or less. When the haze value is 25.00% or less, the sharpness of the transmitted image is good.
  • the present inventor pays attention to the point that the distance between the conventional antiglare layer 3 and the liquid crystal layer 24 is long, and even if the uneven shape is such that S is out of the permissible range in the conventional design, d described later. It was found that if the value is set to 1.2 mm or less, S, D, and the haze value can be kept within the respective allowable ranges.
  • D is a value obtained by dividing the thickness of each layer from the first main surface 3a of the antiglare layer 3 to the liquid crystal layer 24 by the refractive index, and is the sum of the obtained values.
  • d is calculated by the following equation (4).
  • t1 is the thickness of the antiglare layer 3
  • n1 is the refractive index of the antiglare layer 3.
  • t2 is the thickness of the touch sensor 21, and n2 is the refractive index of the touch sensor 21.
  • t3 is the thickness of the first polarizing element 22, and n3 is the refractive index of the first polarizing element 22.
  • t4 is the thickness of the color filter substrate 23, and n4 is the refractive index of the color filter substrate 23.
  • the thickness t1 of the antiglare layer 3 is the distance between the convex portion of the unevenness of the first main surface 3a of the antiglare layer 3 and the second main surface 3b of the antiglare layer 3.
  • the height difference of the unevenness of the first main surface 3a of the antiglare layer 3 is about 50 to 5000 nm, which is smaller than d, and can be ignored when calculating d.
  • d is, for example, 0.03 mm or more.
  • the color filter substrate 23 has a glass substrate, a color filter, a common electrode, and an alignment film. Therefore, t4 / n4 is the sum of the obtained values obtained by dividing the thickness of each layer constituting the color filter substrate by the refractive index. The same applies to other layers having a multi-layer structure.
  • D is, for example, 1.2 mm or less, preferably 1.0 mm or less, more preferably 0.8 mm or less, still more preferably 0.6 mm or less, and particularly preferably 0.4 mm or less.
  • d is naturally larger than 0.0 mm.
  • the display 2 of this modification is not a liquid crystal display but an organic EL display.
  • the display 2 includes the touch sensor 41, the circularly polarizing element 42, the first substrate 43, the light emitting layer 44, and the second substrate 45 in this order from the antiglare layer 3 side.
  • the touch sensor 41 is the same as the touch sensor 21 of the above embodiment, the description thereof will be omitted.
  • the circular polarizing element 42 suppresses the reflection of external light.
  • the circular polarizing element 42 includes, for example, a linear polarizing element and a quarter wavelength film.
  • the circular polarizing element 42 has an arbitrary configuration, and the display 2 does not have to include the circular polarizing element 42.
  • the first substrate 43 includes, for example, a glass substrate or a resin substrate and a transparent electrode.
  • the light generated in the light emitting layer 44 passes through the transparent electrode.
  • the light emitting layer 44 includes, for example, a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer.
  • the light emitting layer 44 may include a white light emitting layer.
  • the white light emitting layer is used in combination with a color filter.
  • a voltage is applied to the light emitting layer 44 for each pixel.
  • the light emitting layer 44 emits light depending on the application of voltage.
  • the second substrate 45 includes, for example, a glass substrate or a resin substrate and a reflective electrode.
  • the light generated in the light emitting layer 44 is reflected by the reflective electrode and passes through the light emitting layer 44 and the transparent electrode.
  • the display 2 is not limited to the structure shown in FIG.
  • the light extraction method of the display 2 may be either a top emission method or a bottom emission method.
  • various functions such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer are provided between the first substrate 43 and the light emitting layer 44, or between the second substrate 45 and the light emitting layer 44. Layers may be arranged.
  • the median value of (A) the rate of change in the inclination of the unevenness (second derivative) is positive, and (B) the glare index value S is 5, as in the above embodiment. It is less than .00%, (C) the reflection image diffusivity index value D is 0.10 or more, and (D) the haze value is 25.00% or less.
  • the value obtained by dividing the thickness of each layer from the first main surface 3a of the antiglare layer 3 to the light emitting layer 44 by the refractive index is obtained, and the value is obtained.
  • the total value d is 1.2 mm or less. If d is 1.2 mm or less, S, D, and the haze value can be kept within their respective allowable ranges.
  • Example 1 The first main surface of a glass substrate (AGC, Dragontrail: 100 mm ⁇ 100 mm) was subjected to antiglare treatment to obtain an antiglare layer.
  • a wet blast treatment and an etching treatment were performed in this order.
  • a mask film SPV-3620 manufactured by Nitto Denko Corporation was attached to the second main surface of the glass substrate before the etching treatment. The mask film was removed after the etching process.
  • the treatment conditions for the wet blast treatment were as follows. ⁇ Abrasive grains: Alumina abrasive grains (# 800) -Blast gun movement speed: 10 [mm / s] ⁇ Injection angle: 90 ° ⁇ Injection pressure: 0.25MPa -Number of treatments: 1-Distance between the blast gun and the substrate: 30 [mm].
  • the processing conditions for the etching process were as follows. ⁇ Etching treatment liquid (an aqueous solution containing 5 wt% of HF and 5 wt% of HCl) -Immersion time in the etching treatment liquid: 26 [min].
  • Example 2 to 4 Comparative Examples 1 to 5
  • the antiglare layer was prepared under the same conditions as in Example 1 except that the plate thickness of the glass substrate was changed.
  • the antiglare layer was prepared under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the treatment conditions for the antiglare treatment were changed in order to change the uneven shape.
  • the etching treatment was performed under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the immersion time was changed from 26 min to 1 min.
  • Comparative Example 5 the count of the alumina abrasive grains was changed from # 800 to # 2000, the moving speed of the blast gun was changed from 10 mm / s to 200 mm / s, and the distance between the blast gun and the substrate was changed from 30 mm.
  • the wet blast treatment was performed under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the immersion time was changed to 70 mm, and then the etching treatment was performed under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the immersion time was changed from 26 min to 5 min.
  • Example 6 the antiglare layer was produced under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the treatment conditions for the antiglare treatment were changed in order to change the uneven shape. Specifically, in Comparative Example 6, the wet blasting treatment was performed under the same conditions as in Comparative Example 3 except that the count of the alumina abrasive grains was changed from # 800 to # 2500, and then the immersion time was changed from 26 min to 5 min. Except for the above, the etching process was performed under the same conditions as in Comparative Example 3.
  • Example 5 Comparative Examples 6 to 7
  • the first main surface of the glass substrate AAC, Dragontrail: 100 mm ⁇ 100 mm
  • the antiglare treatment was performed in the order of pre-etching treatment and etching treatment.
  • a mask film SPV-3620 manufactured by Nitto Denko Corporation
  • the mask film was removed after the etching process.
  • the glass substrate was immersed in hydrofluoric acid (0.5 wt%) for 30 seconds.
  • the glass substrate was immersed in a mixed solution of hydrofluoric acid (15 wt%), ammonium fluoride (10 wt%), and sulfuric acid (50 wt%) for 10 seconds.
  • hydrofluoric acid 15 wt%
  • ammonium fluoride 10 wt%
  • sulfuric acid 50 wt%
  • ⁇ Glitter index values S and d> In order to measure the glare index value S of each antiglare layer, a simulated display unit including the antiglare layer, a photomask, and a backlight was prepared in this order. As the backlight, TMN150X180-22GD-4 manufactured by Aitec System Co., Ltd. was used. The method for measuring the glare index value S is as described above. In the above simulated display unit, d is a value obtained by dividing the thickness of the glass substrate, which is the antiglare layer, by its refractive index.
  • glare index value S For the glare index value S, 0% or more and less than 3.00% is evaluated as “good”, 3.00% or more and less than 5.00% is evaluated as “possible”, and 5.00% or more is evaluated as “impossible”. evaluated. “Good” and “OK” are pass, and "No” is fail.
  • ⁇ Reflective image diffusivity index value D> The reflection image diffusivity index value D of each antiglare layer was measured as described above. As for the reflection image diffusivity index value D, 0.30 or more and less than 1.00 is evaluated as “good”, 0.10 or more and less than 0.30 is evaluated as “possible”, and 0 or more and less than 0.10 is “impossible”. I evaluated it. “Good” and “OK” are pass, and "No" is fail.
  • ⁇ Haze value> The haze value of each antiglare layer was measured as described above. As for the haze value, 0% or more and 25.00% or less were evaluated as “good”, and more than 25.00% were evaluated as “impossible”. “Good” is a pass and “impossible” is a failure.
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • Example 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 since the antiglare layer was produced under the same conditions except that the plate thickness of the glass substrate was changed as described above, the antiglare layer has the same uneven shape. As is clear from comparing Examples 1 to 4 with Comparative Examples 1 to 3, d is set to 1 even if the uneven shape is such that S is out of the permissible range when d exceeds 1.2 mm. It can be seen that if the thickness is 2 mm or less, S, D, and the haze value can be kept within their respective allowable ranges. As is clear from comparing Example 4 and Example 6, when D is 0.90 or more, S tends to be small.
  • Display unit 2 Display 24 Liquid crystal layer 3 Anti-glare layer 3a 1st main surface 3b 2nd main surface

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Abstract

ディスプレイユニットは、液晶層又は発光層を含むディスプレイと、防眩層と、を有する。防眩層は、凹凸を含む第１主面と前記第１主面とは反対向きの第２主面とを含み、前記第２主面を前記ディスプレイに向けて前記ディスプレイの上に積層される。前記ディスプレイの画面は、地面に対して垂直又は斜めに配置される。前記防眩層は、前記画面の水平方向における前記凹凸の傾きの変化の割合の中央値が正であり、ギラツキ指標値Ｓが５．００％未満であり、反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上であり、ヘイズ値が２５．００％以下である。前記防眩層の前記第１主面から、前記液晶層又は前記発光層まで、層毎に層の厚さを屈折率で除した値を求めると、求めた値の総和が、０ｍｍよりも大きく、１．２ｍｍ以下である。

Description

ディスプレイユニット
　本開示は、ディスプレイユニットに関する。
　ディスプレイの表面に、周囲の物体又は照明等が映り込むと、画像の視認性が低下する。そこで、ディスプレイの表面には、防眩層が設けられる（例えば特許文献１、２参照）。防眩層は、ガラス基板に対して防眩処理が施されたものであり、凹凸が付与されたものである。防眩処理は、例えば、ガラス基板の表面のフロスト処理、エッチング処理、及びブラスト処理から選ばれる少なくとも１つ、又はガラス基板に対するコーティング液の塗布と焼成を含む。
　防眩処理によって、周囲の物体又は照明等の映り込みが低減する反面、Ｓｐａｒｋｌｅと呼ばれるギラツキが生じることがある。Ｓｐａｒｋｌｅは、画素よりも大きなサイズのランダムなムラである。そのムラは、凹凸が微小なレンズとして作用することで生じる。また、防眩処理によって、透過光の散乱が生じ、ヘイズ値が大きくなり、透過像の鮮明性が低下することがある。
　特許文献３に記載のディスプレイユニットは、ピクセル基板と、防眩層とを有する。防眩層の凹凸が、マイクロレンズとして作用する。マイクロレンズの焦点がピクセルアレイ上にあると、高強度の燦光（Ｓｐａｒｋｌｅ）が生じてしまう。そこで、ピクセルアレイと防眩層の間の距離がマイクロレンズの焦点距離よりも小さくなるように、防眩層がピクセルアレイに近づけて配置される。
日本国特開２０１９－１４４４７５号公報 日本国特開２０１９－１２３６５２号公報 日本国特表２０１５－５３２４６７号公報
　特許文献３では、Ｓｐａｒｋｌｅの発生原因として、マイクロレンズの焦点がピクセルアレイ上にあることが挙げられている。ピクセルアレイ上に焦点があるレンズは、凸レンズであり、凹レンズではない。凹レンズの焦点は、防眩層を基準として、ピクセルアレイとは反対側に配置される。
　従来、防眩層の凹凸が主に凹レンズとして作用する場合について、ギラツキを抑制する技術は検討されていなかった。
　本開示の一態様は、防眩層の凹凸が主に凹レンズとして作用する場合に、ギラツキを抑制する、技術を提供する。
　本開示の一態様に係るディスプレイユニットは、液晶層又は発光層を含むディスプレイと、防眩層と、を有する。防眩層は、凹凸を含む第１主面と前記第１主面とは反対向きの第２主面とを含み、前記第２主面を前記ディスプレイに向けて前記ディスプレイの上に積層される。前記ディスプレイの画面は、地面に対して垂直又は斜めに配置される。前記防眩層は、前記画面の水平方向における前記凹凸の傾きの変化の割合の中央値が正であり、ギラツキ指標値Ｓが５．００％未満であり、反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上であり、ヘイズ値が２５．００％以下である。前記防眩層の前記第１主面から、前記液晶層又は前記発光層まで、層毎に層の厚さを屈折率で除した値を求めると、求めた値の総和が、０ｍｍよりも大きく、１．２ｍｍ以下である。
　本開示の一態様によれば、防眩層の凹凸が主に凹レンズとして作用する場合に、ギラツキを抑制できる。
図１は、実施形態に係るディスプレイユニットの断面図である。 図２は、変形例に係るディスプレイユニットの断面図である。 図３は、反射像拡散性指標値Ｄの測定装置の一例を示す図である。
　以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面において同一の又は対応する構成には同一の符号を付し、説明を省略することがある。また、明細書中、数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
　図１を参照して、本実施形態に係るディスプレイユニット１について説明する。ディスプレイユニット１は、例えば車載用である。但し、ディスプレイユニット１の用途は、特に限定されない。
　ディスプレイユニット１は、例えば、ディスプレイ２と、防眩層３と、を含む。ディスプレイ２と防眩層３とは、例えばＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）等の接着層で接着される。
　先ず、ディスプレイ２について説明する。ディスプレイ２は、例えば液晶ディスプレイである。ディスプレイ２は、防眩層３側から、タッチセンサ２１と、第１偏光子２２と、カラーフィルター基板２３と、液晶層２４と、ＴＦＴ基板２５と、第２偏光子２６と、バックライト２７とを、この順番で含む。
　タッチセンサ２１は、ディスプレイ２の画面に対する指などの物体の近接を検出する。ディスプレイユニット１が車載用である場合、タッチセンサ２１は車両の搭乗者の操作を受け付ける。なお、タッチセンサ２１は任意の構成であって、ディスプレイ２はタッチセンサ２１を含まなくてもよい。
　第１偏光子２２と第２偏光子２６は、それぞれ、直線偏光子である。これら２つの直線偏光子は、吸収軸を９０°ずらして配置される。第１偏光子２２と第２偏光子２６の間に、カラーフィルター基板２３と液晶層２４とＴＦＴ基板２５とが配置される。
　カラーフィルター基板２３は、図示しないが、例えば、第１偏光子２２から液晶層２４に向けて、ガラス基板と、カラーフィルターと、共通電極と、配向膜とを、この順番で含む。配向膜は、液晶層２４の液晶分子を配向させる。
　ＴＦＴ基板２５は、図示しないが、例えば、第２偏光子２６から液晶層２４に向けて、ガラス基板と、画素電極と、配向膜とを、この順番で含む。配向膜は、液晶層２４の液晶分子を配向させる。ＴＦＴ基板２５は、画素電極を駆動する駆動素子としてのＴＦＴを更に含む。
　液晶層２４は、カラーフィルター基板２３とＴＦＴ基板２５の間に配置される。液晶層２４には、画素毎に電圧が印可される。電圧の印可によって液晶分子の向きが変わり、画素の輝度が変わる。
　バックライト２７は、第２偏光子２６及びＴＦＴ基板２５を介して、液晶層２４に光を照射する。光は、カラーフィルター基板２３、第１偏光子２２、タッチセンサ２１及び防眩層３を透過し、出射する。
　なお、ディスプレイ２は、上記以外の機能層を更に含んでもよい。例えば、ディスプレイ２は、接着層を更に有してもよい。接着層は、隣り合う層同士を接着する。
　次に、防眩層３について説明する。防眩層３は、凹凸を含む第１主面３ａと、第１主面３ａとは反対向きの第２主面３ｂとを含み、第２主面３ｂをディスプレイ２に向けてディスプレイ２の上に積層される。防眩層３は、いわゆるカバーガラスである。防眩層３はガラス基板であり、ガラス基板が凹凸を含む。
　凹凸は、例えば、ガラス基板の表面のフロスト処理、エッチング処理、及びブラスト処理から選ばれる少なくとも１つによって形成される。凹凸によって、光の反射方向を分散でき、周囲の物体又は照明等の映り込みを抑制できる。凹凸は、第１主面３ａに形成され、第２主面３ｂには形成されない。第２主面３ｂは、第１主面３ａに凹凸を形成する際に、マスクで保護される。但し、凹凸は、第２主面３ｂにも形成されてもよい。
　なお、本実施形態の防眩層３はガラス基板であり、そのガラス基板が凹凸を含むが、防眩層３はガラス基板とコーティング層とを含み、コーティング層が凹凸を含んでもよい。コーティング液の塗布及び焼成によって、凹凸が形成される。以下、防眩層３のガラス基板を、単にガラス基板とも表記する。
　ガラス基板は、フロート法、フュージョン法、又はダウンドロー法等により成形される。ガラス基板は、曲げ加工されてもよい。また、ガラス基板は、強化ガラスでもよい。強化ガラスは、風冷強化ガラス、又は化学強化ガラスである。
　ガラス基板の厚さは、例えば０．０５ｍｍ～３ｍｍである。ガラス基板が強化ガラスであれば、ガラス基板の厚さを低減しつつ、ガラス基板の強度を確保できる。ガラス基板のガラスは、例えばソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、又は無アルカリガラスである。これらの中でも、アルミノシリケートガラスが好ましい。
　なお、防眩層３は、ガラス基板の代わりに、又はガラス基板に加えて、樹脂基板を含んでもよい。樹脂基板は、フレキシブル性に優れる。
　防眩層３は、（Ａ）凹凸の傾きの変化の割合の中央値が正であり、（Ｂ）ギラツキ指標値Ｓが５．００％未満であり、（Ｃ）反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上であり、（Ｄ）ヘイズ値が２５．００％以下である。以下、各物性値について説明する。
　（Ａ）凹凸の傾きの変化の割合の中央値は、正である。その中央値は、凹凸の高さ分布から算出する。凹凸の高さ分布は、市販のレーザー顕微鏡などで測定する。測定装置及び測定条件は、例えば下記の通りである。測定装置：キーエンス社製のレーザー顕微鏡ＶＫ－Ｘ２５０測定条件：対物レンズ５０倍、高精細モード。
　凹凸の高さｚ（ｘｉ，ｙｊ）は、行列状に等ピッチで配列される複数点（ｘｉ，ｙｊ）で測定される。ｉは１～Ｍの自然数であり、ｊは１～Ｎの自然数である。本例では、Ｍ＝２０４８、Ｎ＝１５３６である。複数の測定点のｘ軸方向のピッチとｙ軸方向のピッチとは、同一であり、例えば０．１３９μｍである。
　ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸は、互いに垂直である。ｘ軸及びｙ軸は、ディスプレイ２の画面に対して平行に設定される。ディスプレイ２の画面は地面に対して垂直又は斜めに配置され、画面の水平方向がｘ軸方向である。ｚ軸正方向は、防眩層３の第２主面３ｂから第１主面３ａに向かう方向に設定される。
　ｘ軸方向における凹凸の傾きは、ｚ（ｘｉ，ｙｊ）をｘで一階微分した値であり、下記式（１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 　ｘ軸方向における凹凸の傾きの変化の割合は、ｚ（ｘｉ，ｙｊ）をｘで二階微分した値であり、下記式（２）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 　ｘ軸方向における凹凸の傾きの変化の割合（二階微分）の中央値が正であることは、防眩層３の凹凸が主に凹レンズとして作用することを意味する。
　（Ｂ）防眩層３は、ギラツキ指標値Ｓが５．００％未満である。Ｓの測定方法は、特許文献１、２に記載の測定方法と同様であり、具体的には下記の通りである。バックライトの発光面の上に、フォトマスクとしてＤ＆ＭＳ社製のＳＭＳ―１０００に付属のＰｉｘｅｌ　Ｐａｔｔｅｒｎを、そのパターン面を上向きにして設置する。更に、フォトマスクのパターン面の上に、防眩層３を、その第１主面３ａを上向きにして設置する。発光色が緑色のバックライトの発光面の上に前記フォトマスクを設置することで、ＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の画像表示を模擬した状態で、ＤＭ＆Ｓ社製の測定装置ＳＭＳ－１０００のカメラにより、防眩層３を介してフォトマスクのパターン面の１９０ｄｐｉの領域を撮像する。測定装置の画像解析により求められるＳｐａｒｋｌｅ値がＳである。ここでは、ＤＩＭ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ　Ｉｍａｇｅ　Ｍｅｔｈｏｄ）モードで測定を行う。カメラの撮像素子と防眩層３との間の距離は５４０ｍｍである。カメラのレンズは、焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズを絞り１６で使用する。
　Ｓは、例えば０％以上５．００％未満であり、好ましくは０％以上４．００％未満であり、より好ましくは０％以上３．００％未満である。Ｓが５．００％未満であれば、ギラツキが抑制される。
　（Ｃ）防眩層３は、反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上である。Ｄの測定方法について図３を参照して説明する。図３に示すように、測定装置７０は、線状光源装置７１および面輝度測定器７５を有する。線状光源装置７１は、光源７１１と黒色平板７１２とを含む。黒色平板７１２は、水平に配置され、鉛直方向視で矩形（１０１ｍｍ×１ｍｍ）のスリットを有する。そのスリットに、光源７１１が設けられている。光源７１１は、冷陰極管（ＣＣＦＬ）の白色光源である。防眩層３は、線状光源装置７１及び面輝度測定器７５の下方にて、凹凸の形成された第１主面３ａを上に向けて水平に配置される。面輝度測定器７５は、線状光源装置７１の長手方向中央で、線状光源装置７１と垂直に交わる平面上に配置される。面輝度測定器７５の焦点は、防眩層３で反射した線状光源装置７１の像に合わせる。つまり、像の焦点があう面を黒色平板７１２に一致させる。線状光源装置７１から入射して防眩層３で反射し、面輝度測定器７５に入射した光線のうち、入射角θｉと反射角θｒが等しい光線７３１、７３２に着目すると、θｉ＝θｒ＝５．７°である。
　なお、防眩層３の第２主面３ｂには黒色板を当接させる。従って、面輝度測定器７５が検出する光は、防眩層３で反射された反射光である。
　防眩層３による散乱は、反射角θｒと入射角θｉとの差Δθ（Δθ＝θｒ－θｉ）で表される。例えば、Δθ＝０．５°である光線７３３、７３４に着目すると、光線７３４は、防眩層３で正反射から０．５°ずれた方向に散乱される。この光線７３４は、面輝度測定器７５では、黒色平板７１２と仮想の光線７３３－２が交わる部分の像として観測される。仮想の光線７３３－２の入射角は、光線７３４の反射角と等しい。
　面輝度測定器７５で面輝度を取得すると、防眩層３で正反射された光線７３２に照らされる部位の輝度が最も高くなり、その部位に輝線が現れる。その輝線を中心に左右両側に離れるほど輝度の低い画像が得られる。輝線から離れた位置の輝度は、防眩層３で散乱された光線の強度に応じた輝度になる。そこで、輝線に垂直な方向の輝度断面プロファイルを抽出する。なお、測定精度を上げるために輝線に平行な方向にデータを積算してもよい。
　光線７３１、７３２に着目すると、入射角θｉと反射角θｒとが等しく、Δθ＝０．０°である。輝度の測定データには誤差が含まれるので、Δθ＝０．０°±０．１°の範囲での輝度の平均値をＤ１とする。
　また、光線７３３、７３４に着目すると、反射角θｒが入射角θｉよりも大きく、Δθ＝０．５°である。輝度の測定データには誤差が含まれるので、Δθ＝０．５°±０．１°の範囲での輝度の平均値をＤ２とする。
　同様に、光線７３５、７３６に着目すると、反射角θｒが入射角θｉがよりも小さく、Δθ＝－０．５°である。輝度の測定データには誤差が含まれるので、Δθ＝－０．５°±０．１°の範囲での輝度の平均値をＤ２とする。
　得られたＤ１、Ｄ２、Ｄ３を下記式（３）に代入し、Ｄが算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 　反射像拡散性指標値Ｄは、観察者の目視による防眩性の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、Ｄが小さいほど（ゼロに近いほど）、防眩性が悪く、逆にＤが大きいほど（１に近いほど）、防眩性が良い。
　Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３の測定は、例えば、ＤＭ＆Ｓ社製の装置ＳＭＳ－１０００を使用することにより実施できる。この装置を使用する場合、カメラレンズの焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズが絞り５．６で使用する。また、防眩層３の第１主面３ａからカメラレンズまでの距離は、約３００ｍｍであり、Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃａｌｅは、０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定される。
　Ｄは、例えば０．１０以上１．００未満であり、好ましくは０．２０以上１．００未満であり、より好ましくは０．３０以上１．００未満である。Ｄが０．１０以上であれば、防眩性が良好であり、周囲の物体又は照明等の映り込みが抑制される。Ｄは、さらに好ましくは０．９０以上である。Ｄが０．９０以上であれば、Ｓが小さくなりやすい。
　（Ｄ）防眩層３は、ヘイズ値が２５．００％以下である。ヘイズ値は、市販の測定装置で測定する。測定装置及び測定条件は、例えば下記の通りである。測定装置：スガ試験機ヘイズメーターＨＺ－Ｖ３測定条件：日本工業規格（ＪＩＳ　Ｋ　７１３６：２０００）に準拠し、Ｃ光源を用いて測定する。
　ヘイズ値は、例えば０％以上２５．００％以下であり、好ましくは０％以上２０．００％以下であり、より好ましくは０％以上１５．００％以下である。ヘイズ値が２５．００％以下であれば、透過像の鮮明性が良好である。
　ところで、従来のディスプレイユニットの設計では、ギラツキ指標値Ｓと反射像拡散性指標値Ｄとヘイズ値とをそれぞれの許容範囲内に収めることは困難であった。
　本発明者は、従来の防眩層３と液晶層２４との距離が遠い点に着目し、従来の設計であればＳが許容範囲外になるような凹凸形状であっても、後述のｄを１．２ｍｍ以下にすれば、ＳとＤとヘイズ値とをそれぞれの許容範囲内に収められることを見出した。
　ｄは、防眩層３の第１主面３ａから、液晶層２４まで、層毎に層の厚みを屈折率で除した値を求め、その求めた値の総和である。例えば、ディスプレイ２が図１の構造を有する場合、下記式（４）によりｄが算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 　上記式（４）において、ｔ１は防眩層３の厚みであり、ｎ１は防眩層３の屈折率である。ｔ２はタッチセンサ２１の厚みであり、ｎ２はタッチセンサ２１の屈折率である。更に、ｔ３は第１偏光子２２の厚みであり、ｎ３は第１偏光子２２の屈折率である。更にまた、ｔ４はカラーフィルター基板２３の厚みであり、ｎ４はカラーフィルター基板２３の屈折率である。
　防眩層３の厚みｔ１は、防眩層３の第１主面３ａの凹凸の凸部と、防眩層３の第２主面３ｂとの距離である。但し、防眩層３の第１主面３ａの凹凸の高低差は、５０～５０００ｎｍ程度であり、ｄに比べて微小であるので、ｄを算出する際には無視できる。ｄは、例えば０．０３ｍｍ以上である。
　カラーフィルター基板２３は、上記の通り、ガラス基板と、カラーフィルターと、共通電極と、配向膜とを有する。従って、ｔ４／ｎ４は、カラーフィルター基板を構成する各層毎に層の厚みを屈折率で除した値を求め、その求めた値の総和である。その他の複数層構造の層も、同様である。
　ｄは、例えば１．２ｍｍ以下であり、好ましくは１．０ｍｍ以下であり、より好ましくは０．８ｍｍ以下であり、更に好ましくは０．６ｍｍ以下であり、特に好ましくは０．４ｍｍ以下である。ｄは、０．０ｍｍよりも当然に大きい。
　次に、図２を参照して、変形例に係るディスプレイユニット１について説明する。以下、主に相違点について説明する。本変形例のディスプレイ２は、液晶ディスプレイではなく、有機ＥＬディスプレイである。ディスプレイ２は、防眩層３側から、タッチセンサ４１と、円偏光子４２と、第１基板４３と、発光層４４と、第２基板４５とを、この順番で含む。
　タッチセンサ４１は、上記実施形態のタッチセンサ２１と同様であるので、説明を省略する。
　円偏光子４２は、外光の反射を抑制する。円偏光子４２は、例えば直線偏光子と１／４波長膜とを含む。なお、円偏光子４２は任意の構成であって、ディスプレイ２は円偏光子４２を含まなくてもよい。
　第１基板４３は、例えば、ガラス基板又は樹脂基板と、透明電極とを含む。発光層４４で発生した光は、透明電極を透過する。
　発光層４４は、例えば、赤色発光層と、緑色発光層と、青色発光層と含む。なお、発光層４４は白色発光層を含んでもよい。白色発光層は、カラーフィルターと組み合わせて用いられる。発光層４４には、画素毎に電圧が印可される。電圧の印可によって、発光層４４が発光する。
　第２基板４５は、例えば、ガラス基板又は樹脂基板と、反射電極とを含む。発光層４４で発生した光は、反射電極で反射され、発光層４４及び透明電極を透過する。
　なお、ディスプレイ２は、図２に示す構造には限定されない。ディスプレイ２の光取り出し方式は、トップエミッション方式、ボトムエミッション方式のいずれでもよい。また、第１基板４３と発光層４４の間、又は第２基板４５と発光層４４の間には、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、又は電子注入層等の各種の機能層が配置されてもよい。
　本変形例においても、上記実施形態と同様に、防眩層３は、（Ａ）凹凸の傾きの変化の割合（二階微分）の中央値が正であり、（Ｂ）ギラツキ指標値Ｓが５．００％未満であり、（Ｃ）反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上であり、（Ｄ）ヘイズ値が２５．００％以下である。
　また、本変形例においても、上記実施形態と同様に、防眩層３の第１主面３ａから、発光層４４まで、層毎に層の厚みを屈折率で除した値を求め、その求めた値の総和ｄが１．２ｍｍ以下である。ｄが１．２ｍｍ以下であれば、ＳとＤとヘイズ値とをそれぞれの許容範囲内に収められる。
　以下、実施例１～６及び比較例１～７について説明する。
　［実施例１］
　ガラス基板（ＡＧＣ社製、Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ：１００ｍｍ×１００ｍｍ）の第１主面に対して、防眩処理を行い、防眩層を得た。防眩処理として、ウェットブラスト処理と、エッチング処理とをこの順番で行った。ガラス基板の第２主面には、エッチング処理前にマスク用のフィルム（日東電工社製ＳＰＶ－３６２０）を貼り付けた。マスク用のフィルムは、エッチング処理後に取外した。
　ウェットブラスト処理の処理条件は、下記の通りであった。
・砥粒：アルミナ砥粒（＃８００）
・ブラストガンの移動速度：１０［ｍｍ／ｓ］
・噴射角度：９０°
・噴射圧力：０．２５ＭＰａ
・処理回数：１回
・ブラストガンと基板の間の距離：３０［ｍｍ］。
　エッチング処理の処理条件は、下記の通りであった。
・エッチング処理液（ＨＦを５ｗｔ％含み且つＨＣｌを５ｗｔ％含む水溶液）
・エッチング処理液への浸漬時間：２６［ｍｉｎ］。
　［実施例２～４、比較例１～５］
　実施例２～４及び比較例１～３では、防眩層は、ガラス基板の板厚を変更した以外、実施例１と同じ条件で作製した。
　比較例４～５では、防眩層は、凹凸形状を変更すべく、防眩処理の処理条件を変更した以外、比較例３と同じ条件で作製した。具体的には、比較例４では、アルミナ砥粒の番手を＃８００から＃４０００に変更し、且つブラストガンの移動速度を１０ｍｍ／ｓから２０ｍｍ／ｓに変更した以外、比較例３と同じ条件でウェットブラスト処理を行い、その後、浸漬時間を２６ｍｉｎから１ｍｉｎに変更した以外、比較例３と同じ条件でエッチング処理を行った。比較例５では、アルミナ砥粒の番手を＃８００から＃２０００に変更し、且つブラストガンの移動速度を１０ｍｍ／ｓから２００ｍｍ／ｓに変更し、且つブラストガンと基板の間の距離を３０ｍｍから７０ｍｍに変更した以外、比較例３と同じ条件でウェットブラスト処理を行い、その後、浸漬時間を２６ｍｉｎから５ｍｉｎに変更した以外、比較例３と同じ条件でエッチング処理を行った。
　[実施例６]
　実施例６では、防眩層は、凹凸形状を変更すべく、防眩処理の処理条件を変更した以外、比較例３と同じ条件で作製した。具体的には、比較例６では、アルミナ砥粒の番手を＃８００から＃２５００に変更した以外、比較例３と同じ条件でウェットブラスト処理を行い、その後、浸漬時間を２６ｍｉｎから５ｍｉｎに変更した以外、比較例３と同じ条件でエッチング処理を行った。
　[実施例５、比較例６～７]
　実施例５、比較例６～７はガラス基板（ＡＧＣ社製、Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ：１００ｍｍ×１００ｍｍ）の第１主面に対して、防眩処理を行い、防眩層を得た。防眩処理は、プレエッチング処理、エッチング処理の順に行った。ガラス基板の第２主面には、プレエッチング処理前にマスク用のフィルム（日東電工社製ＳＰＶ－３６２０）を貼り付けた。マスク用のフィルムは、エッチング処理後に取外した。プレエッチング処理では、フッ化水素酸（０．５ｗｔ％）にガラス基板を３０秒間浸漬した。エッチング処理では、フッ化水素酸（１５ｗｔ％）と、フッ化アンモニウム（１０ｗｔ％）と、硫酸（５０ｗｔ％）とを混ぜた混合溶液にガラス基板を１０秒間浸漬した。実施例５，比較例６～７の違いは、ガラス基板の厚みのみであった。
　［評価］
　＜凹凸の傾きの変化の割合（二階微分）の中央値＞
　凹凸の傾きの変化の割合（二階微分）の中央値は、既述の通り測定した。
　＜ギラツキ指標値Ｓ及びｄ＞
　各防眩層のギラツキ指標値Ｓを測定すべく、防眩層とフォトマスクとバックライトとをこの順番で含む模擬的なディスプレイユニットを作製した。バックライトとしては、アイテックシステム社製のＴＭＮ１５０Ｘ１８０－２２ＧＤ－４を用いた。ギラツキ指標値Ｓの測定方法は、既述の通りである。上記の模擬的なディスプレイユニットにおいて、ｄは、防眩層であるガラス基板の厚みを、その屈折率で除した値である。
　ギラツキ指標値Ｓは、０％以上３．００％未満を「良」と評価し、３．００％以上５．００％未満を「可」と評価し、５．００％以上を「不可」と評価した。「良」及び「可」が合格であり、「不可」が不合格である。
　＜反射像拡散性指標値Ｄ＞
　各防眩層の反射像拡散性指標値Ｄは、既述の通り測定した。反射像拡散性指標値Ｄは、０．３０以上１．００未満を「良」と評価し、０．１０以上０．３０未満を「可」と評価し、０以上０．１０未満を「不可」と評価した。「良」及び「可」が合格であり、「不可」が不合格である。
　＜ヘイズ値＞
　各防眩層のヘイズ値は、既述の通り測定した。ヘイズ値は、０％以上２５．００％以下を「良」と評価し、２５．００％超を「不可」と評価した。「良」が合格であり、「不可」が不合格である。
　＜評価結果＞
　表１に、評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 　実施例１～４及び比較例１～３では、上記の通り、ガラス基板の板厚を変更した以外、同じ条件で防眩層を作製したので、防眩層は同じ凹凸形状を有する。実施例１～４と比較例１～３とを比較すれば明らかなように、ｄが１．２ｍｍを超える場合にはＳが許容範囲外になるような凹凸形状であっても、ｄを１．２ｍｍ以下にすれば、ＳとＤとヘイズ値とをそれぞれの許容範囲内に収められることが分かる。実施例４と実施例６を比較すれば明らかなように、Ｄが０．９０以上であれば、Ｓが小さくなりやすい。
　以上、本開示に係るディスプレイユニットについて説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、及び組み合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。
　本出願は、２０２０年７月３１日に日本国特許庁に出願した特願２０２０－１３０４６６号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０２０－１３０４６６号の全内容を本出願に援用する。
１　　ディスプレイユニット
２　　ディスプレイ
２４　液晶層
３　　防眩層
３ａ　第１主面
３ｂ　第２主面

Claims (7)

  1. 　液晶層又は発光層を含むディスプレイと、防眩層と、を有する、ディスプレイユニットであって、
    　前記防眩層は、凹凸を含む第１主面と前記第１主面とは反対向きの第２主面とを含み、前記第２主面を前記ディスプレイに向けて前記ディスプレイの上に積層され、
    　前記ディスプレイの画面は、地面に対して垂直又は斜めに配置され、
    　前記防眩層は、前記画面の水平方向における前記凹凸の傾きの変化の割合の中央値が正であり、下記のギラツキ指標値Ｓが５．００％未満であり、下記の反射像拡散性指標値Ｄが０．１０以上であり、ヘイズ値が２５．００％以下であり、
    　前記防眩層の前記第１主面から、前記液晶層又は前記発光層まで、層毎に層の厚さを屈折率で除した値を求めると、求めた値の総和が、０ｍｍよりも大きく、１．２ｍｍ以下である、ディスプレイユニット。
    　ギラツキ指標値Ｓ：バックライトの発光面の上に、フォトマスクとしてＤ＆ＭＳ社製のＳＭＳ―１０００に付属のＰｉｘｅｌ　Ｐａｔｔｅｒｎを、そのパターン面を上向きにして設置する。更に、前記フォトマスクの前記パターン面の上に、前記防眩層を、前記第１主面を上向きにして設置する。発光色が緑色の前記バックライトの発光面の上に前記フォトマスクを設置することで、ＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の画像表示を模擬した状態で、ＤＭ＆Ｓ社製の測定装置ＳＭＳ－１０００のカメラにより、前記防眩層を介して前記フォトマスクの前記パターン面の１９０ｄｐｉの領域を撮像する。前記測定装置の画像解析により求められるＳｐａｒｋｌｅ値がＳである。前記カメラの撮像素子と前記防眩層との間の距離は５４０ｍｍである。前記カメラのレンズは、焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズを絞り１６で使用する。
    　反射像拡散性指標値Ｄ：前記防眩層の前記第１主面に対向配置される前記測定装置を用い、黒色平板の長さ１０１ｍｍ、幅１ｍｍの矩形のスリットに配置される冷陰極管の白色光源から前記防眩層に入射角５．７°で光を照射し、その反射光の輝度を測定する。前記測定装置の前記カメラのレンズは、焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズを絞り５．６で使用する。前記防眩層の前記第１主面から前記カメラの前記レンズまでの距離は３００ｍｍである。Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃａｌｅは、０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定する。反射角θｒと入射角θｉとの差Δθ（Δθ＝θｒ－θｉ）が０．０°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＤ１とし、Δθが０．５°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＤ２とし、Δθが－０．５°±０．１°の範囲の反射光の輝度の平均値をＤ３とする場合に、「Ｄ＝（Ｄ２＋Ｄ３）／（２×Ｄ１）」の式によりＤが算出される。
  2. 　前記防眩層は、前記ギラツキ指標値Ｓが３．００％未満であり、前記反射像拡散性指標値Ｄが０．３０以上である、請求項１に記載のディスプレイユニット。
  3. 　前記防眩層の前記第１主面から、前記液晶層又は前記発光層まで、層毎に層の厚さを屈折率で除した値の前記総和が１．０ｍｍ以下である、請求項１又は２に記載のディスプレイユニット。
  4. 　前記防眩層がガラス基板であり、前記ガラス基板が前記凹凸を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のディスプレイユニット。
  5. 　前記防眩層がガラス基板とコーティング層とを含み、前記コーティング層が前記凹凸を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のディスプレイユニット。
  6. 　前記ガラス基板は、アルミノシリケートガラスである、請求項４又は５に記載のディスプレイユニット。
  7. 　前記ディスプレイユニットが車載用である、請求項１～６のいずれか１項に記載のディスプレイユニット。
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