JP2013527898A - 磁気ベアリングの電気抵抗値の調整と磁気ベアリングに支承された物体のセンサレス位置測定のための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
が使用される。ここで、長さl=l0−rであり、l0は空隙の定格長さ、Aは空隙の有効面積、μ0は空気の透磁率である。
の形で計算される。ここで、Mは電磁石200の巻き数である。システムのインダクタンスが電磁石200の極から物体100までの距離に間接的に比例していることは明らかである。この重要な特性は、物体100の位置を求める多くの推定および観測アルゴリズムの基礎を成している。これに関しては、先行技術として文献[2,3,4]が挙げられる。
−磁気ベアリングの少なくとも1つの電磁石をパルス幅変調(PWM)された電圧によって駆動制御するステップ。その際、パルス幅変調された電圧の時間的経過は、少なくとも1つの第1段階(j=1)、特に充電段階と、少なくとも1つの第2段階(j=2)、特に放電段階とを有する。
−前記第1段階(j=1)と前記第2段階(j=2)における第1及び第2インダクタンス値
を求めるために電磁石の電流iと電圧uを測定及び評価するステップ。
−前記第1段階(j=1)の第1インダクタンス値
と前記第2段階(j=2)の第2インダクタンス値
を推定する、特に最小二乗推定するステップ。インダクタンス値
を推定する際、磁気ベアリングの、特に磁気ベアリングの電磁石の、電気抵抗Rnが考慮される。
−インダクタンス誤差
を求めるステップ。
−インダクタンス誤差
が零へと制御されるように電気抵抗を調整するステップ。
−磁気ベアリングの少なくとも1つの電磁石をパルス幅変調(PWM)された電圧によって駆動制御するステップ。その際、パルス幅変調された電圧の時間的経過は、少なくとも1つの第1段階(j=1)、特に充電段階と、少なくとも1つの第2段階(j=2)、特に放電段階とを有する。
−前記第1段階(j=1)と前記第2段階(j=2)における第1及び第2インダクタンス値
を求めるために電磁石の電流iと電圧uを測定及び評価するステップ。
−前記第1段階(j=1)の第1インダクタンス値
と前記第2段階(j=2)の第2インダクタンス値
を推定する、特に最小二乗推定するステップ。インダクタンス値
を推定する際、磁気ベアリングの、特に磁気ベアリングの電磁石の、電気抵抗Rnが考慮される。
−磁気ベアリングに対する物体の位置を推定されたインダクタンス値
に基づいて計算するステップ。
なおこの場合、電気抵抗Rnは上で述べた本発明による抵抗調整の方法によって求められる。
と電流終端状態
が求められる。これらの状態から、第1段階(j=1)と第2段階(j=2)の電流レベル差
が求められる。ここで、電流レベル差Δijはインダクタンス値
の推定に含められる。
を求めるために、
− 電流初期状態と電流終端状態tから求められた電流レベル差
− 測定点N1、N2の個数、
− 第1段階(j=1)及び第2段階(j=2)の電流平均値
− 第1段階(j=1)と第2段階(j=2)の推定されたインダクタンス値
の差
が使用される。最終的には、インダクタンス値の平均値から、物体の位置及び/又は速度が計算される。
インダクタンス推定は電気力学のファラデーの法則に依拠している。インダクタンスの再帰的計算に線形最小二乗法を適用できるように、ファラデーの法則は図3に示されているような等間隔の時間離散化によって処理される。
(k1=0,..,N1−1)が得られる。同様に、放電段階すなわち第2段階(j=2)の間にN2個の離散的な測定時点k2において行われる。つまり、電流のN2個の測定値
(k2=0,..,N2−1)が得られる。電圧測定についても同じことが当てはまる。
と2つの電流初期状態
が得られる。ここでも以下でもj∈{1,2}であり、j=1は第1段階(充電段階)を、j=2は第2段階(放電段階)を表している。
電気抵抗Rが一定の場合についてファラデーの法則を
と表し、時間Δt=t−t0にわたって積分すれば、
となる。さらに、鎖交磁束ψ(t)と電流i(t)との関係において、物体の位置rに対するインダクタンスL(r)の依存性を考慮するならば、
式(7)は
の形に書け、電流i(t)について解けば、
となる。差し当たり、PWM期間中のインダクタンスL(r)の変化は無視できる、つまり、L(r(t))=L(r(t0))であると仮定し、積分
を例えば等間隔の積分ステップ幅Tsでの不足和として離散化すれば(他の離散化法も同様に可能である)、第1及び第2段階(j=1,2)の電圧
及び電流
のNj個の測定に対して、離散化された積分
が得られる(図3参照)。
が得られる。
が得られる。ここで、yjは(Nj×1)次元の測定ベクトルであり、Sjは(Nj×2)次元の回帰行列である。最小二乗法の意味で可能な最良の近似
は
によって与えられる。なお、Sj TSjは(2×2)対称行列
であり、Sj Tyjは(2×1)ベクトル
である。今やここで、電流初期状態とインダクタンス(の逆数)とに関する最小二乗同定アルゴリズムの、2つの異なるサンプリングレートへの分割を表現することができる。電流
のNj個の測定値は速いサンプリング時間Tsで取得される。これらの速いサンプリングステップの各々において、対称行列Sj TSjと行列Sj Tyjのエントリは最新の状態にされなければならない。しかし、明らかなように、これには単純な演算すなわち加算と乗算しか必要ない。とりわけ、エントリ
に関しては、測定値の数を指定するだけでよい。また、
の計算には、さらに1つの乗算と加算が必要とされる。最後に、エントリ
の計算には1つの加算が、
に関しては1つの乗算と1つの加算が必要である。
位置及び/又は速度のモデルに基づいた計算のためには、電流レベル差
が必要である。電流終端状態
は、先に求めた電流初期状態
を用いて、最後の最小二乗推定において推定することができる。そのために、2つの段階j=1及びj=2にわたり、線形離散近似によって電流波形i(t)が推定される。これにより、ベクトル記法で書けば、勾配ηiとステップ幅Tsを有する以下の式が得られる。
したがって、Nj,j∈{1,2}個の測定に対して、
が得られる。ここで、hjは(Nj×1)次元の測定ベクトルであり、Qjは曲線当てはめ問題
の(Nj×2)次元の回帰行列である。すると、電流終端状態
は
に従って計算できる。注目すべきは、付加的に1つの別のエントリを速いサンプリング時間Tsにおいて求めるだけでよいことである。
最小二乗法によって、PWM期間ごとに、立上りエッジと立下りエッジに関して、すなわち第1段階と第2段階に関して、インダクタンスの2つの値と、電流初期状態と電流終端状態の2つの値が得られる。2つのインダクタンス
から位置を計算する最も簡単な方法は、値の平均化と式(10)によるモデルに基づいた逆算である。しかし、この非常に簡単な方法は複数の欠点をもたらす。(i)支承される物体の速度の影響が考慮されない、(ii)PWMのデューティ比の変化が考慮されないままである、(iii)物体の速度を近似的に位置の微分によって求めなければならない。
j∈{1,2}の個数、ならびに部分期間の個々のインダクタンス
の差を一緒に用いて、支承される物体の位置と速度がモデルに基づいて計算される。
最小二乗同定によって推定値
を求める際、1つのPWM周期の立上りエッジと立下りエッジの時間の間、インダクタンスは一定であると仮定した。すなわち、最終的に式
を使用した。ここで、Rは電気抵抗である。期間
にわたる積分により、
が得られる。ここで、
はこの期間中の電流レベル差である。
を使用し、期間
にわたって積分しなければならない。
この式を電流レベル差で除して、左辺を推定されたインダクタンス
で置き換えれば、
が得られる。
−電流の時間微分が
により推定される。この仮定は、PWM周期が十分に短く、電流波形が近似的に三角形である場合に非常に良く満たされる。
−インダクタンスの時間微分はPWMの周期中一定である、すなわち
であると仮定する。
を導入するならば、推定すべき平均インダクタンスは
に従って、各部分期間の最小二乗推定から計算される。ここで、Tsはサンプリング時間であり、Njは測定点の個数である。明らかに、両方の最小二乗推定
の適切な重み付けによって、インダクタンス変化
の不所望な作用、ひいては物体の速度wの影響は補償される。
が導かれる。式(27)に現れるすべての量は最小二乗同定において既に計算されていることに注意されたい。したがって、支承される物体が静止していなくても、すなわちw≠0でも、システムのインダクタンスの有意な推定値を得ることが可能である。
はほぼ等しく、したがってまた電流平均値
もほぼ等しい。このため、平均は重み付き交差平均
に縮退する。勿論、この計算は遙かに簡単に実行できるが、例えば制御器が電流の(したがってまたデューティ比の)大きな変化を指定する場合には、時として不正確な結果をもたらす。
上記複数のステップにおいて、インダクタンスの平均値
とインダクタンスの時間微分
が求められた。最後のステップでは、これらの値から、支承される物体の現在の位置r及び/又は速度wが求められなければならない。
が得られる。支承される物体の安定化のために、速度wも必要とされることが多々ある。従来式には、これは推定された位置
の近似的な微分によって求められる。しかしこの方法は、測定雑音によって雑音の多い速度推定値が生じる可能性があり、また近似的な微分によって相回転が生じ、再び閉ループ制御回路における安定性問題へと導かれ兼ねないという欠点を有している。
に関しては、
が成り立つことを考えれば、支承される物体の現在の速度の推定値として直ちに以下の表現を求めることができる。
−速いサンプリング時間で計算されなければならない数学的に非常に単純な部分と、格段に少ないサンプリング時間で求められる複雑な部分とに、計算を分割することができる。これは特に低コストのインプリメンテーションという観点で従来の方法に比べて大きな利点である。
−推定されたインダクタンス値の重み付けによって、支承される物体の位置も速度も推定することができる。また、速度及びパルス幅の影響を抑えることができる。
これまで、電気回路の電気抵抗Rは一定であり、かつ既知であると仮定してきた。今度は、この抵抗が動作中に温度変化のせいで変化する。それゆえ、抵抗Rの推定は実際のインプリメンテーションにとって更なる利点を供する。
を求める際には、PWM周期の立上りエッジ(j=1)と立下りエッジ(j=2)の時間の間、インダクタンスは一定であると仮定した。つまり、式(18)を前提とした。電気抵抗Rnを、
に従って、推定された抵抗
と抵抗誤差δRとの重ね合わせとして考えれば、誤差のあるインダクタンス推定に関して
を得る。下記の形式
の、又は式(33)も考慮して
の形式の鎖交磁束の全微分を期間
にわたって積分すれば、電流レベル差で除した後、
を得る。
−電流の時間微分が
によって推定される。この仮定は、PWM周期が十分に短く、電流波形が近似的に三角形である場合に非常に良く満たされる。
−インダクタンスの時間微分はPWMの周期中一定である、すなわち
であると仮定する。
が得られる。ここで、
は推定されるべき、Ln(t)の平均値である。さらに、部分期間にわたる電流平均値
を導入するならば、推定すべき平均インダクタンス
が計算される。ここで、Tsはサンプリング時間であり、Nj,j∈{1,2}は測定点の個数である。上記2つの推定されたインダクタンス値の差は、
となる。式(39)又は(40)に式(41)からのインダクタンスの時間微分を代入すれば、推定された抵抗値に依存しない平均
が得られる。もっとも、測定精度と計算精度が限られている現実のインプリメンテーションにとって、電気抵抗を推定することは有意義である。
上で既に述べたように、システム全体の温度変化のせいで電気抵抗は変化する。
は抵抗誤差δRとインダクタンスの時間全微分
との和に比例する。さらに、式(30)によれば、インダクタンスの時間全微分に対する微分のチェインルールによって
が成り立つ。しかし、時間全微分
は、速度がゼロのとき、すなわちw=0のときにしかゼロにならない。なぜならば、実際のシステムでは、空隙の後のインダクタンスの偏微分は決してゼロにならないからである。したがって、純粋に理論的には、I制御器だけから成る調整は静止した物体に対してのみインダクタンス誤差に基づいて機能する。ここに挙げる抵抗調整はインダクタンス誤差を予めフィルタリングして、速度の影響を取り除く。
を制御することによって電気抵抗を推定することができる。というのも、静止した物体に関しては
が成り立つので、インダクタンス誤差
は式(41)に従って抵抗誤差δRに直接比例するからである。電磁石の発熱により生じる抵抗変化は、支承される物体の動特性又は位置変化に比べて格段に遅い。したがって、ローパスフィルタリング
によって、インダクタンス誤差中の、外乱になりうる速度に依存した成分
をフィルタリング又は除去することができる(式(41)参照)。速度に依存しないインダクタンス誤差
はI制御器
によってゼロへと制御される。これにより、正しい抵抗値が推定される。
上記の導出から分かるように、支承される物体の位置と速度を求めるのに、この物体の動特性又は特性(例えば質量、減衰等)に関する情報は使用されていない。このことは、支承される物体がほぼ未知である場合に、この方法が非常に良い位置情報と速度情報を提供するならば、大きな利点である。
本発明の方法は、パルス幅変調された駆動制御により生じる固有の測定現象を利用するので、状態量を再構成するために付加的なハードウェアコストを要さない。電流測定及び電圧測定が利用できるだけでよい。
文献リスト
[1]Noh, Myounggyu D.: "Self-Sensing Magnetic Bearings Driven by Switching Power Amplifier", Diss., University of Virginia, Faculty of the School of Engineering and Applied Science, 1996
[2]Pawelczak, Dieter: "Nutzung inhaerenter Messeffekte von Aktoren und Methode zur sensorlosen Positionsmessung im Betrieb", Diss., Universitaet der Bundeswehr Muenchen, 2005
[3]Skricka, Norbert: "Entwicklung eines sensorlosen aktiven Magnetlagers", Fortschritt-Berichte, Reihe 8, Nr. 1027, VDI-Verlag Duesseldorf, 2004
[4]Yuan QingHui; Li, Perry Y.: "Self-sensing actuators in elektrohydraulic valves", in : Proceeding of the International Mechanical Engineering Congress and Exposition, Anaheim, California USA.
Claims (12)
- 磁気ベアリングの電気抵抗の値を調整する方法であって、
パルス幅変調(PWM)された電圧により前記磁気ベアリングの少なくとも1つの電磁石を駆動制御するステップであって、前記パルス幅変調された電圧の時間的経過が、少なくとも1つの第1段階(j=1)、特に充電段階と、少なくとも1つの第2段階(j=2)、特に放電段階を有している、ステップと、
前記第1段階(j=1)と前記第2段階(j=2)における第1及び第2インダクタンス値
を求めるために、前記電磁石の電流i及び電圧uを測定し評価するステップと、
前記第1段階(j=1)に対する第1インダクタンス値
と前記第2段階(j=2)に対する第2インダクタンス値
を推定する、特に最小二乗推定するステップであって、前記インダクタンス値
を推定する際に前記磁気ベアリングの、特に前記磁気ベアリングの電磁石の、電気抵抗Rnを考慮するステップと、
インダクタンス誤差
を求めるステップと、
前記インダクタンス誤差
をゼロへと制御することにより前記電気抵抗を調整するステップと
を有することを特徴とする方法。 - 前記抵抗の調整手段はローパスフィルタとI制御器とから成る、請求項1に記載の方法。
- 磁気ベアリングに支承された物体の、前記磁気ベアリングに対する、特に前記磁気ベアリングの電磁石に対する、位置をセンサレスに測定する方法であって、
パルス幅変調(PWM)された電圧により前記磁気ベアリングの少なくとも1つの電磁石を駆動制御するステップであって、前記パルス幅変調された電圧の時間的経過が、少なくとも1つの第1段階(j=1)、特に充電段階と、少なくとも1つの第2段階(j=2)、特に放電段階を有している、ステップと、
前記第1段階(j=1)と前記第2段階(j=2)における第1及び第2インダクタンス値
を求めるために、前記電磁石の電流i及び電圧uを測定し評価するステップと、
前記第1段階(j=1)に対する第1インダクタンス値
と前記第2段階(j=2)に対する第2インダクタンス値
を推定する、特に最小二乗推定するステップであって、前記インダクタンス値
を推定する際に前記磁気ベアリングの、特に前記磁気ベアリングの電磁石の、電気抵抗Rnを考慮するステップと、
前記物体の前記磁気ベアリングに対する位置を、前記推定されたインダクタンス値
に基づいて計算するステップと
を有することを特徴とする方法。 - 前記電気抵抗Rnを請求項1又は2記載の方法により求める、請求項5に記載の方法。
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