JP2013062330A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013062330A5 JP2013062330A5 JP2011198938A JP2011198938A JP2013062330A5 JP 2013062330 A5 JP2013062330 A5 JP 2013062330A5 JP 2011198938 A JP2011198938 A JP 2011198938A JP 2011198938 A JP2011198938 A JP 2011198938A JP 2013062330 A5 JP2013062330 A5 JP 2013062330A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011198938A JP5672204B2 (ja) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
| KR1020120086050A KR101851344B1 (ko) | 2011-09-13 | 2012-08-07 | 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011198938A JP5672204B2 (ja) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013062330A JP2013062330A (ja) | 2013-04-04 |
| JP2013062330A5 true JP2013062330A5 (ja) | 2013-10-03 |
| JP5672204B2 JP5672204B2 (ja) | 2015-02-18 |
Family
ID=48179158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011198938A Active JP5672204B2 (ja) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5672204B2 (ja) |
| KR (1) | KR101851344B1 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5993800B2 (ja) * | 2013-05-21 | 2016-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置および液面検出方法 |
| JP6487168B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2019-03-20 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP6344277B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2018-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP6332095B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2018-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 薬液供給装置の調整方法、記憶媒体及び薬液供給装置 |
| JP6478753B2 (ja) * | 2015-03-25 | 2019-03-06 | 旭有機材株式会社 | 液体吐出装置 |
| KR101817212B1 (ko) | 2016-04-29 | 2018-02-21 | 세메스 주식회사 | 처리액 분사 유닛 및 기판 처리 장치 |
| CN107728432A (zh) * | 2016-08-11 | 2018-02-23 | 东京毅力科创株式会社 | 高纯度分配*** |
| US10712663B2 (en) * | 2016-08-11 | 2020-07-14 | Tokyo Electron Limited | High-purity dispense unit |
| US10354872B2 (en) * | 2016-08-11 | 2019-07-16 | Tokyo Electron Limited | High-precision dispense system with meniscus control |
| JP6915498B2 (ja) * | 2017-10-23 | 2021-08-04 | 東京エレクトロン株式会社 | ノズル待機装置、液処理装置及び液処理装置の運転方法並びに記憶媒体 |
| JP7090005B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2022-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び検査方法 |
| JP7314634B2 (ja) * | 2019-06-11 | 2023-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP7331568B2 (ja) * | 2019-09-12 | 2023-08-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理装置の液検出方法 |
| JP7352419B2 (ja) * | 2019-09-13 | 2023-09-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | ノズル内部における気液界面の検出方法および基板処理装置 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2843134B2 (ja) * | 1990-09-07 | 1999-01-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
| JPH04158510A (ja) * | 1990-10-22 | 1992-06-01 | Nec Kyushu Ltd | 半導体製造装置 |
| JPH11176734A (ja) * | 1997-12-16 | 1999-07-02 | Sony Corp | レジスト塗布装置 |
| JP2000223403A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-11 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜の形成方法および塗布処理システム |
| JP2002126602A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回転式塗布装置 |
| JP4583235B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2010-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液吐出装置およびその動作検証方法ならびに同装置の駆動制御方法 |
| JP2006324677A (ja) * | 2006-05-29 | 2006-11-30 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置の自動設定装置 |
| JP5045218B2 (ja) * | 2006-10-25 | 2012-10-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
| JP4887310B2 (ja) * | 2008-01-29 | 2012-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP2010103131A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
| WO2010055551A1 (ja) * | 2008-11-11 | 2010-05-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液吐出検査方法、処理液吐出検査装置及びコンピュータ読取可能な記録媒体 |
| JP4900397B2 (ja) * | 2009-01-29 | 2012-03-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
| JP5336441B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2013-11-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
-
2011
- 2011-09-13 JP JP2011198938A patent/JP5672204B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-07 KR KR1020120086050A patent/KR101851344B1/ko active IP Right Grant