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  1. バリア層を基板上に成膜するに当たり:
    基板の表面温度を100℃未満に維持しながら、以下の工程(a)および(b)を交互シークエンスで繰り返して二酸化チタンの薄膜を基板上に形成することを特徴とする方法:
    (a)基板をTiClを含むガス状の第1の先駆物質に曝露する工程;および
    (b)基板を不活性なガス状の酸素を含む第2の先駆物質で供給されるプラズマに曝露し、基板が第2の先駆物質のプラズマ活性化を介して形成される酸素ラジカルに曝露される工程。
  2. 前記基板の第1および第2の先駆物質に対する連続曝露を不活性ガスに対する分離曝露で分ける工程をさらに備える請求項1に記載の方法。
  3. 前記不活性な酸素を含む第2の先駆物質で供給されるプラズマが、乾燥した空気、O 、CO、CO、NO、NO、NOおよびそれらの混合物からなる群から選択された酸素含有化合物または混合物の励起によって形成される請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記第1および第2の先駆物質が、不活性ガスを導入した分離ゾーンによって分けられた第1および第2の先駆物質ゾーンの各々に導入され、
    前記基板を前記第1および第2の先駆物質ゾーン間で前後に前記基板を搬送する各回毎に前記分離ゾーンを介して複数回搬送する工程をさらに備える請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 前記基板を約0.2メートル/秒から約10メートル/秒の間の速度で搬送する請求項4に記載の方法。
  6. 前記基板が可撓性のウェブ材料である請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 前記基板の表面温度を、バリア層の成膜中に約5℃から80℃の間で維持する請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  8. 前記薄膜を基板の反対側に成膜する工程をさらに備える請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  9. 前記基板を工程(a)および(b)を開始する前に酸素プラズマで予備処理する工程をさらに備える請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  10. 二酸化チタン薄膜の原子層を基板上に100℃未満の温度で成膜することにより形成され、0.5g/m/日未満の水蒸気透過速度を有し、150オングストローム未満の厚さを有することを特徴とするバリア層。
  11. 前記薄膜が、100オングストローム未満の厚さおよび約0.01g/m/日未満の水蒸気透過速度を有する請求項10に記載のバリア層。
  12. 前記薄膜が、150オングストローム未満の厚さおよび約0.0001g/m/日未満の水蒸気透過速度を有する請求項10に記載のバリア層。
  13. 前記薄膜が、50オングストローム未満の厚さである請求項10に記載のバリア層。
  14. 前記薄膜が、ほぼ完全にアモルファスである請求項1013のいずれか1項に記載のバリア層。
  15. 前記薄膜が可撓性の基板上に成膜される請求項1014のいずれか1項に記載のバリア層。
  16. 前記薄膜が光触媒特性を有する請求項1015のいずれか1項に記載のバリア層。
  17. 前記TiOの原子層の成膜が、以下の工程(a)および(b)を交互シークエンスで繰り返すことを含む請求項1016のいずれか1項に記載のバリア層:
    (a)基板をTiClを含むガス状の第1の先駆物質に曝露する工程;および
    (b)基板を不活性なガス状の酸素を含む第2の先駆物質で供給されるプラズマに曝露し、基板が第2の先駆物質のプラズマ活性化を介して形成される酸素ラジカルに曝露される工程。
  18. 前記TiOの原子層の成膜が、前記基板の第1および第2の先駆物質に対する連続曝露を不活性ガスに対する曝露で分けることをさらに含む請求項17に記載のバリア層。
  19. 前記不活性な酸素を含む第2の先駆物質で供給されるプラズマが、乾燥した空気、O 、CO、CO、NO、NO、NOおよびそれらの混合物からなる群から選択された酸素含有化合物または混合物の励起によって形成される請求項17または18に記載のバリア層。
  20. 基板上に成膜された蒸気バリアであって、:
    150オングストローム未満の厚さで、0.5g/m/日未満の水蒸気透過速度を有する金属酸化物の薄膜を備えることを特徴とする蒸気バリア。
  21. 前記薄膜が、約0.0001g/m/日未満の水蒸気透過速度を有する請求項20に記載の蒸気バリア。
  22. 前記薄膜が、50オングストローム未満の厚さである請求項20に記載の蒸気バリア。
  23. 前記薄膜が、100オングストローム未満の厚さで、約0.01g/m/日未満の水蒸気透過速度を有する請求項20に記載の蒸気バリア。
  24. 前記薄膜が基板の反対側を被覆する請求項2023のいずれか1項に記載の蒸気バリア。
  25. 前記基板が、可撓性のポリマーフィルムである請求項2024のいずれか1項に記載の蒸気バリア。
  26. 前記薄膜が光触媒特性を有する請求項2025のいずれか1項に記載の蒸気バリア。
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