JP2012094899A - 処理装置及び方法、パターン形成装置、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理装置は、移動体WTBに光を照射してその光の照射点における移動体表面のXY平面に直交するZ軸方向の位置情報を計測する複数の面位置センサ(72a〜72d等)を含み、移動体のZ軸方向及びXY平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する面位置計測システムと、移動体上に載置されたウエハWに対して検出ビームを照射してウエハW表面の複数の検出点における面位置情報を検出する面位置検出装置(90a、90b)と、面位置計測システムと面位置検出装置とを同時作動の状態にし、面位置検出装置による複数の検出点での検出結果を、同時作動により得られた面位置計測システムでの計測結果を基準としたデータ(Z1〜Zk)に換算する制御装置と、を備える。
【選択図】図18
Description
前記受光系64cは、偏光子(検光子)及び光検出器等を含む。
フォーカスマッピングを行う際、マッピングの際の基準となるZセンサ72a〜72dは、ウエハテーブルWTB表面上のある位置(XY座標位置)の面位置情報を検出している。そして、フォーカスマッピングは上述の説明から明らかなように、ウエハステージWSTのX位置を固定し、+Y方向に一直線でウエハステージWSTを移動させながら行われる。すなわち、フォーカスマッピングを行う際にZセンサ72a〜72dがその面位置情報を検出するライン(第2撥水板28b表面上)もY軸に平行な直線になる。
なお、この図33の状態では、前述のフォーカスマッピングは続行されている。
Decahydronaphthalene)などが挙げられる。あるいは、これら液体のうち任意の2種類以上の液体が混合されたものであっても良いし、純水にこれら液体の少なくとも1つが添加(混合)されたものであっても良い。あるいは、液体としては、純水に、H+、Cs+、K+、Cl−、SO4 2−、PO4 2−等の塩基又は酸を添加(混合)したものであっても良い。更には、純水にAl酸化物等の微粒子を添加(混合)したものであっても良い。これら液体は、ArFエキシマレーザ光を透過可能である。また、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系(先端の光学部材)、及び/又はウエハの表面に塗布されている感光材(又は保護膜(トップコート膜)あるいは反射防止膜など)に対して安定なものであることが好ましい。また、F2レーザを光源とする場合は、フォンブリンオイルを選択すれば良い。さらに、液体としては、純水よりも照明光ILに対する屈折率が高い液体、例えば屈折率が1.6〜1.8程度のものを使用しても良い。液体として、超臨界流体を用いることも可能である。また、投影光学系PLの先端光学素子を、例えば石英(シリカ)、あるいは、フッ化カルシウム(蛍石)、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成しても良いし、石英や蛍石よりも屈折率が高い(例えば1.6以上)材料で形成しても良い。屈折率が1.6以上の材料としては、例えば、国際公開第2005/059617号に開示される、サファイア、二酸化ゲルマニウム等、あるいは、国際公開第2005/059618号に開示される、塩化カリウム(屈折率は約1.75)等を用いることができる。
Claims (128)
- 所定の平面内で移動する移動体に載置された物体に所定の処理を行う処理装置であって、
前記移動体に光を照射し、その反射光を受光して前記光の照射点における前記移動体表面の前記平面に直交する方向の位置情報を計測する面位置センサを複数含み、前記移動体の前記平面に直交する方向及び該平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する面位置計測システムと、
前記移動体上に載置された前記物体に対して検出ビームを照射し該検出ビームの反射光を受光して、前記物体表面の複数の検出点における面位置情報を検出する面位置検出装置と、
前記面位置計測システムと前記面位置検出装置とを同時作動の状態にし、該同時作動により得られた前記面位置検出装置による前記複数の検出点での検出結果を、前記同時作動により得られた前記面位置計測システムでの計測結果を基準としたデータに換算する制御装置と、を備える処理装置。 - 請求項1に記載の処理装置において、
前記面位置計測システムに含まれる前記複数の面位置センサは、前記平面内の所定方向に沿って配置され、
前記面位置検出装置の前記複数の検出点は、前記複数の面位置センサに平行に前記所定方向に沿って配列され、
前記制御装置は、前記物体を載置した移動体が前記所定方向と交差する方向に沿って移動している最中に、前記面位置計測システムと前記面位置検出装置とに前記同時作動を行わせる処理装置。 - 請求項2に記載の処理装置において、
前記複数の面位置センサは、前記面位置検出装置の複数の検出点のうち、両端部近傍に位置する2つの検出点それぞれの近傍に少なくとも各1つ配置されているマッピング用面位置センサを含み、
前記制御装置は、前記面位置検出装置の各検出点における検出値を、前記各マッピング用面位置センサの計測結果に基づいて得られた基準面位置を基準としたデータに換算する処理装置。 - 請求項2又は3に記載の処理装置において、
前記移動体がその上に前記物体が載置される場所から、前記物体に対してエネルギビームを照射する処理が行われる場所へ移動するまでの過程において、前記制御装置は、前記同時作動及び換算処理を行う処理装置。 - 請求項3又は4に記載の処理装置において、
前記制御装置は、前記物体が載置された前記移動体を、前記所定方向に移動させつつ、前記面位置検出装置の前記複数の検出点を用いて順次検出した結果に基づいて、前記移動体が前記所定方向に移動する際に生じる、前記移動体の、前記平面に直交する方向における位置変動に関する情報を求める処理装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の処理装置において、
前記物体上に形成された、検出すべき複数のマークを検出するマーク検出装置をさらに備え、
前記マーク検出装置による前記検出すべき複数のマークの検出動作を開始してから、該複数のマークの検出動作を完了するまでの過程において、前記制御装置は、前記面位置計測システムと前記面位置検出装置との同時作動を開始させるとともに前記データの換算処理を開始する処理装置。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の処理装置において、
前記平面に平行な基準平面を備えた基準部材と、
前記面位置検出装置に、前記基準部材に対して前記検出ビームを照射させ、前記基準平面からの反射光を受光した前記面位置検出装置の出力に基づいて、前記面位置検出装置の複数の検出点の計測値間の関係を求める演算処理装置をさらに備える処理装置。 - 請求項7に記載の処理装置において、
前記基準部材は、前記平面内で前記移動体とは独立に移動する別の移動体上にキネマティックに支持されている処理装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の処理装置において、
前記面位置計測システムは、前記移動体の移動に伴って、前記複数の面位置センサ間において計測値の引き継ぎを行う処理装置。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の処理装置において、
前記面位置センサは、CDピックアップ方式のセンサである処理装置。 - 対象物体上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記対象物体が前記移動体上に載置された請求項1〜10のいずれか一項に記載の処理装置と、
前記パターンを生成するパターン生成装置と、を備えるパターン形成装置。 - 請求項11に記載のパターン形成装置において、
前記パターン生成装置は、エネルギビームを前記物体に照射するパターン形成装置。 - 光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記光学系と対向する表面の一部に前記物体の載置領域が設けられ、所定の平面内で第1及び第2方向に可動な移動体と、
前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関してそれぞれ検出点の位置が異なる複数のセンサを有し、前記複数の検出点で前記平面と直交する第3方向に関する前記移動体の表面の位置情報を計測可能な計測装置と、を備える露光装置。 - 請求項13に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体の表面のうち前記載置領域と異なる領域内に前記検出点が維持される前記複数のセンサの少なくとも1つによって前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置において、
前記移動体の移動を伴う所定の動作における前記移動体の移動範囲では、前記複数の検出点の少なくとも1つが前記異なる領域内に維持される露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置において、
前記所定の動作中に前記複数の検出点の少なくとも2つが前記異なる領域内に維持され、前記計測装置は、前記移動体の前記第3方向の位置情報、及び傾斜情報を計測する露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置において、
前記所定の動作中に前記複数の検出点のうち同一直線上にない少なくとも3つが前記異なる領域内に維持され、前記計測装置は、前記移動体の、前記第3方向の位置情報及び異なる2方向に関する傾斜情報を計測する露光装置。 - 請求項15〜17のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記所定の動作中に前記異なる領域内に前記検出点が維持されるセンサはその位置及び/又は個数が変化する露光装置。 - 請求項15〜18のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記所定の動作は、少なくとも前記エネルギビームによる前記物体の露光動作を含む露光装置。 - 請求項13〜19のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に前記計測装置によって計測される前記移動体の位置情報に基づいて、前記光学系を介して形成されるパターン像と前記物体との位置関係を調整する調整装置をさらに備える露光装置。 - 請求項13〜20のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記平面内での前記移動体の位置に応じて少なくとも1つが異なる複数の前記センサによってそれぞれ前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項13〜21のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記平面内での前記移動体の位置に応じて、前記複数のセンサのうち前記位置情報の計測に用いるセンサを切り替える露光装置。 - 請求項13〜22のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記検出点が所定間隔で前記物体の大きさと同程度以上の範囲に渡って設定される露光装置。 - 請求項23に記載の露光装置において、
前記複数の検出点が設定される範囲は、前記移動体の大きさと同程度以上である露光装置。 - 請求項23又は24に記載の露光装置において、
前記複数の検出点が設定される範囲は、前記第1及び第2方向の一方に沿って設定される露光装置。 - 請求項13〜25のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記光学系の両側にそれぞれ前記検出点が所定間隔で設定される露光装置。 - 請求項13〜26のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、前記第3方向に関して前記移動体の表面との間隔が前記光学系と前記移動体の表面との間隔と同程度以下である露光装置。 - 請求項13〜27のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記検出点が所定間隔で前記物体の大きさと同程度以上の範囲に渡って設定される露光装置。 - 請求項13〜28のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体はその表面が前記第3方向に関して前記移動体に載置される前記物体の表面とほぼ一致する露光装置。 - 請求項13〜29のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記複数のセンサを有する第1検出系とは異なり、前記移動体に載置される前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する第2検出系を含む露光装置。 - 光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定の平面内で第1及び第2方向に可動な移動体と、
前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して検出点の位置が異なる複数のセンサを有し、前記各検出点で前記平面と直交する第3方向に関する前記移動体の表面の位置情報を計測可能な第1検出系と、前記第1検出系とは異なり、前記移動体に保持される前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する第2検出系とを含む計測装置と、を備える露光装置。 - 請求項30又は31に記載の露光装置において、
前記第2検出系は、前記第1及び第2方向の一方に沿って延びる検出領域を有し、前記検出領域内の複数点での前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項32に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記第2検出系によって前記一方の方向と交差する方向に関して前記検出領域と相対移動される前記物体のほぼ全面で前記第3方向の位置情報を計測可能である露光装置。 - 請求項33に記載の露光装置において、
前記検出領域は、前記一方の方向に関して前記物体と同程度の範囲に渡って形成される露光装置。 - 請求項30〜34のいずれか一項に記載の露光装置において
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時、前記第1検出系によって前記移動体の位置情報を計測しつつ、前記第2検出系によって計測された前記物体の面位置情報に基づいて、前記光学系を介して形成されるパターン像と前記物体との位置関係を調整する調整装置をさらに備える露光装置。 - 請求項35に記載の露光装置において、
前記調整装置は、前記物体を移動して前記パターン像との位置及び傾斜の調整を行う露光装置。 - 請求項30〜36のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1検出系は、前記複数の検出点が前記第1及び第2方向の一方に沿って配置されるとともに、前記第2検出系は、前記検出領域が前記第1及び第2方向の他方に関して前記複数の検出点と離れて配置され、前記第1検出系は、前記複数の検出点とは別に前記検出領域の近傍に配置される少なくとも2つの検出点を含む露光装置。 - 請求項37に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記第2検出系による前記物体の位置情報の計測時に、前記第1検出系によって前記少なくとも2つの検出点での前記移動体の表面の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項30〜38のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1及び第2検出系によって計測される位置情報の対応付けを行う制御装置をさらに備える露光装置。 - 請求項13〜39のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、フレーム部材に吊り下げ支持される計測フレームに設けられる露光装置。 - 請求項40に記載の露光装置において、
前記計測フレームは、前記フレーム部材に吊り下げ支持される前記光学系とは独立に前記フレーム部材に吊り下げ支持される露光装置。 - 請求項13〜41のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記平面内での前記移動体の位置情報を計測する計測システムをさらに備え、前記計測システムは、前記光学系と所定の位置関係で配置され、かつ表面に格子部が設けられる前記移動体が相対移動されるヘッドユニットを有するエンコーダシステムを含む露光装置。 - 請求項42に記載の露光装置において、
前記ヘッドユニットは、フレーム部材に吊り下げ支持される計測フレームに設けられる露光装置。 - 請求項43に記載の露光装置において、
前記計測フレームは、前記フレーム部材に吊り下げ支持される前記光学系とは独立に前記フレーム部材に吊り下げ支持される露光装置。 - 請求項42〜44のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のセンサは、前記ヘッドユニットと同一の部材に設けられる露光装置。 - 請求項42〜45のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体の表面のうち前記載置領域と異なる領域内に前記検出点が維持される前記複数のセンサの少なくとも1つによって前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報が計測され、前記異なる領域は、前記格子部が配置される領域の少なくとも一部を含む露光装置。 - 請求項42〜46のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記第1方向に延設される第1格子部を含み、前記エンコーダシステムは、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅より広い検出範囲を有する第1ヘッドユニットによって前記移動体の前記第1方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項47に記載の露光装置において、
前記第1格子部は、前記第2方向に関して前記物体を挟んで一対設けられ、前記第1ヘッドユニットは、前記第2方向に関して、前記光学系を介してパターン像が生成される露光領域の両側にそれぞれ前記検出範囲を有する露光装置。 - 請求項48に記載の露光装置において、
前記2つの検出範囲は、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅と同程度以上離れて設定される露光装置。 - 請求項47〜49のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1ヘッドユニットは、前記第2方向に関して位置が異なる複数の第1ヘッドを有し、前記エンコーダシステムは、前記検出範囲内で前記第1格子部と対向する第1ヘッドによって前記移動体の前記第1方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項50に記載の露光装置において、
前記複数の第1ヘッドは、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅よりも狭い間隔で配置される露光装置。 - 請求項47〜51のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記第2方向に延設される第2格子部を含み、前記エンコーダシステムは、前記第1方向に関して前記第2格子部の幅より広い検出範囲を有する第2ヘッドユニットによって前記移動体の前記第2方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項52に記載の露光装置において、
前記第2格子部は、前記第1方向に関して前記物体を挟んで一対設けられ、前記第2ヘッドユニットは、前記第1方向に関して、前記光学系を介してパターン像が生成される露光領域の両側にそれぞれ前記検出範囲を有する露光装置。 - 請求項52又は53に記載の露光装置において、
前記第2ヘッドユニットは、前記第1方向に関して位置が異なる複数の第2ヘッドを有し、前記エンコーダシステムは、前記検出範囲内で前記第2格子部と対向する第2ヘッドによって前記移動体の前記第2方向の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項54に記載の露光装置において、
前記複数の第2ヘッドは、前記第1方向に関して前記第2格子部の幅よりも狭い間隔で配置される露光装置。 - 請求項42〜55のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部は、前記第2方向に関して前記物体を挟んでそれぞれ前記第1方向に延設される一対の第1格子部と、前記第1方向に関して前記物体を挟んでそれぞれ前記第2方向に延設される一対の第2格子部とを含み、前記エネルギビームによる前記物体の露光動作では、前記一対の第1格子部及び前記一対の第2格子部の少なくとも3つが対応するヘッドユニットと対向する露光装置。 - 請求項56に記載の露光装置において
前記各格子部は、前記延設される方向に周期的に配列される格子を有する露光装置。 - 請求項56又は57に記載の露光装置において、
前記各ヘッドユニットは、対応する格子部と交差する方向に関して所定間隔で配置される複数のヘッドを有する露光装置。 - 請求項42〜58のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ヘッドユニットは、前記第3方向に関して前記移動体の表面との間隔が前記光学系と前記移動体の表面との間隔と同程度以下である露光装置。 - 請求項42〜59のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エンコーダシステムによって計測される位置情報は、少なくとも前記エネルギビームによる前記物体の露光動作で用いられる露光装置。 - 請求項42〜60のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エンコーダシステムによって計測される位置情報は、少なくとも前記物体のマークの検出動作で用いられる露光装置。 - 請求項42〜61のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記移動体の位置情報を計測する干渉計システムを含み、前記干渉計システムによる前記移動体の位置情報の計測方向は、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む露光装置。 - 請求項62に記載の露光装置において
前記干渉計システムは、前記平面内の方向と異なる方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項62又は63に記載の露光装置において、
前記干渉計システムは、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の少なくとも1つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光装置。 - 請求項42〜64のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記移動体の位置情報を計測する干渉計システムを含み、前記エンコーダシステムの計測情報に基づく前記移動体の位置制御では、前記干渉計システムの計測情報も用いられる露光装置。 - 請求項65に記載の露光装置において、
前記位置制御で用いられる前記干渉計システムの計測情報は、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記移動体の位置情報を含む露光装置。 - 請求項42〜66のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補正する補正装置をさらに備える露光装置。 - 請求項13〜67のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記光学系と前記物体の間を液体で満たして液浸領域を形成する液浸システムをさらに備え、前記光学系及び前記液浸領域の液体を介して前記エネルギビームで前記物体を露光する露光装置。 - 請求項13〜68のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 所定の平面内で移動する移動体に載置された物体に所定の処理を行う処理方法であって、
前記移動体に光を照射し、その反射光を受光して前記光の照射点における前記移動体表面の前記平面に直交する方向の位置情報を計測する面位置センサを複数含み、前記移動体の前記平面に直交する方向及び該平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する面位置計測システムと、
前記移動体上に載置された前記物体に対して検出ビームを照射し該検出ビームの反射光を受光して、前記物体表面の複数の検出点における面位置情報を検出する面位置検出装置と、を同時作動の状態にする第1工程と、
前記第1工程における同時作動により得られた前記面位置検出装置による前記複数の検出点での検出結果を、前記同時作動により得られた前記面位置計測システムでの計測結果を基準としたデータに換算する第2工程と、を含む処理方法。 - 請求項70に記載の処理方法において、
前記面位置計測システムに含まれる前記複数の面位置センサは、前記平面内の所定方向に沿って配置され、
前記面位置検出装置の前記複数の検出点は、前記複数の面位置センサに平行に前記所定方向に沿って配列され、
前記物体を載置した移動体が前記所定方向と直交する方向に沿って移動している最中に、前記第1工程の処理が行われる処理方法。 - 請求項71に記載の処理方法において
前記複数の面位置センサは、前記面位置検出装置の複数の検出点のうち、両端部近傍に位置する2つの検出点それぞれの近傍に少なくとも各1つ配置されているマッピング用面位置センサを含み、
前記第2工程では、前記面位置検出装置の各検出点における検出値を、前記各マッピング用面位置センサの計測結果に基づいて得られた基準面位置を基準としたデータに換算する処理方法。 - 請求項71又は72に記載の処理方法において、
前記移動体がその上に前記物体が載置される場所から、前記物体に対して前記所定の処理が行われる場所へ移動するまでの過程において、前記第1、第2工程の処理が行われる処理方法。 - 請求項72又は73に記載の処理方法において、
前記物体が載置された前記移動体を、前記所定方向に移動させつつ、前記面位置検出装置の前記複数の検出点を用いて順次検出した結果に基づいて、前記移動体が前記所定方向に移動する際に生じる、前記移動体の、前記平面に直交する方向における位置変動に関する情報を求める第3工程をさらに含む処理方法。 - 請求項70〜74のいずれか一項に記載の処理方法において、
前記物体上に形成された、検出すべき複数のマークを、マーク検出装置により検出する動作を開始してから、該動作を完了するまでの過程において、前記第1、第2工程の処理がともに開始される処理方法。 - 請求項70〜75のいずれか一項に記載の処理方法において、
前記所定の処理には、前記物体上にパターンを形成する処理が含まれる処理方法。 - 請求項76に記載の処理方法において、
エネルギビームを照射することで、前記パターンが前記物体上に形成される処理方法。 - 請求項76又は77に記載の処理方法により、物体上にパターンを形成する工程と、
パターンが形成された前記物体を処理する工程と、を含むデバイス製造方法。 - 光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
前記光学系と対向する表面の一部に前記物体の載置領域が設けられ、所定の平面内で第1及び第2方向に可動な移動体に前記物体を載置する工程と、
前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関してそれぞれ検出点の位置が異なる複数のセンサを有する計測装置で、前記移動体表面の前記平面と直交する第3方向に関する位置情報を計測する工程を含む露光方法。 - 請求項79に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記移動体の表面のうち前記載置領域と異なる領域内に前記検出点が維持される前記複数のセンサの少なくとも1つによって前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項80に記載の露光方法において、
前記移動体の移動を伴う所定の動作における前記移動体の移動範囲では、前記複数の検出点の少なくとも1つが前記異なる領域内に維持される露光方法。 - 請求項81に記載の露光方法において、
前記所定の動作中に前記複数の検出点の少なくとも2つが前記異なる領域内に維持され、前記計測装置は、前記移動体の前記第3方向の位置情報、及び傾斜情報を計測する露光方法。 - 請求項81に記載の露光方法において、
前記所定の動作中に前記複数の検出点のうち同一直線上にない少なくとも3つが前記異なる領域内に維持され、前記計測装置は、前記移動体の、前記第3方向の位置情報及び異なる2方向に関する傾斜情報を計測する露光方法。 - 請求項81〜83のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記所定の動作中に前記異なる領域内に前記検出点が維持されるセンサはその位置及び/又は個数が変化する露光方法。 - 請求項81〜84のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記所定の動作は、少なくとも前記エネルギビームによる前記物体の露光動作を含む露光方法。 - 請求項79〜85のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に前記計測装置によって計測される前記移動体の位置情報に基づいて、前記光学系を介して形成されるパターン像と前記物体との位置関係を調整する工程を、さらに含む露光方法。 - 請求項79〜86のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記平面内での前記移動体の位置に応じて少なくとも1つが異なる複数の前記センサによってそれぞれ前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項79〜87のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記平面内での前記移動体の位置に応じて、前記複数のセンサのうち前記位置情報の計測に用いるセンサを切り替える露光方法。 - 請求項79〜88のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記検出点が所定間隔で前記物体の大きさと同程度以上の範囲に渡って設定される露光方法。 - 請求項89に記載の露光方法において、
前記複数の検出点が設定される範囲は、前記移動体の大きさと同程度以上である露光方法。 - 請求項89又は90に記載の露光方法において、
前記複数の検出点が設定される範囲は、前記第1及び第2方向の一方に沿って設定される露光方法。 - 請求項79〜91のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記光学系の両側にそれぞれ前記検出点が所定間隔で設定される露光方法。 - 請求項79〜92のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数のセンサは、前記第3方向に関して前記移動体の表面との間隔が前記光学系と前記移動体の表面との間隔と同程度以下である露光方法。 - 請求項79〜93のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数のセンサは、前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して前記検出点が所定間隔で前記物体の大きさと同程度以上の範囲に渡って設定される露光方法。 - 請求項79〜94のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体はその表面が前記第3方向に関して前記移動体に載置される前記物体の表面とほぼ一致する露光方法。 - 光学系を介して物体をエネルギビームで露光する露光方法であって、
所定の平面内で第1及び第2方向に可動な移動体上に前記物体を載置する工程と、
前記第1及び第2方向の少なくとも一方に関して検出点の位置が異なる複数のセンサを有し、前記各検出点で前記平面と直交する第3方向に関する前記移動体の表面の位置情報を計測可能な第1検出系と、前記第1検出系とは異なり、前記移動体に保持される前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する第2検出系とを含む計測装置を用いて、前記移動体表面及び前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する工程と、を含む露光方法。 - 請求項95又は96に記載の露光方法において、
前記第2検出系は、前記第1及び第2方向の一方に沿って延びる検出領域を有し、前記検出領域内の複数点での前記物体の前記第3方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項97に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記第2検出系によって前記一方の方向と交差する方向に関して前記検出領域と相対移動される前記物体のほぼ全面で前記第3方向の位置情報を計測可能である露光方法。 - 請求項98に記載の露光方法において、
前記検出領域は、前記一方の方向に関して前記物体と同程度の範囲に渡って形成される露光方法。 - 請求項95〜99のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エネルギビームによる前記物体の露光動作時に、前記第1検出系によって前記移動体の位置情報を計測しつつ、前記第2検出系によって計測された前記物体の面位置情報に基づいて、前記光学系を介して形成されるパターン像と前記物体との位置関係を調整する工程をさらに含む露光方法。 - 請求項100に記載の露光方法において、
前記調整する工程では、前記物体を移動して前記パターン像との位置及び傾斜の調整を行う露光方法。 - 請求項95〜101のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1検出系は、前記複数の検出点が前記第1及び第2方向の一方に沿って配置されるとともに、前記第2検出系は、前記検出領域が前記第1及び第2方向の他方に関して前記複数の検出点と離れて配置され、前記第1検出系は、前記複数の検出点とは別に前記検出領域の近傍に配置される少なくとも2つの検出点を含む露光方法。 - 請求項102に記載の露光方法において、
前記計測装置は、前記第2検出系による前記物体の位置情報の計測時に、前記第1検出系によって前記少なくとも2つの検出点での前記移動体の表面の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項96〜103のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1及び第2検出系によって計測される位置情報の対応付けを行う工程をさらに含む露光方法。 - 請求項79〜104のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記平面内での前記移動体の位置情報を計測する計測システムをさらに備え、前記計測システムは、前記光学系と所定の位置関係で配置され、かつ表面に格子部が設けられる前記移動体が相対移動されるヘッドユニットを有するエンコーダシステムを含む露光方法。 - 請求項105に記載の露光方法において、
前記移動体の表面のうち前記載置領域と異なる領域内に前記検出点が維持される前記複数のセンサの少なくとも1つによって前記移動体の表面の前記第3方向の位置情報が計測され、前記異なる領域は、前記格子部が配置される領域の少なくとも一部を含む露光方法。 - 請求項105又は106に記載の露光方法において、
前記格子部は、前記第1方向に延設される第1格子部を含み、前記エンコーダシステムは、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅より広い検出範囲を有する第1ヘッドユニットによって前記移動体の前記第1方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項107に記載の露光方法において、
前記第1格子部は、前記第2方向に関して前記物体を挟んで一対設けられ、前記第1ヘッドユニットは、前記第2方向に関して、前記光学系を介してパターン像が生成される露光領域の両側にそれぞれ前記検出範囲を有する露光方法。 - 請求項108に記載の露光方法において、
前記2つの検出範囲は、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅と同程度以上離れて設定される露光方法。 - 請求項107〜109のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1ヘッドユニットは、前記第2方向に関して位置が異なる複数の第1ヘッドを有し、前記エンコーダシステムは、前記検出範囲内で前記第1格子部と対向する第1ヘッドによって前記移動体の前記第1方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項110に記載の露光方法において、
前記複数の第1ヘッドは、前記第2方向に関して前記第1格子部の幅よりも狭い間隔で配置される露光方法。 - 請求項107〜111のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記格子部は、前記第2方向に延設される第2格子部を含み、前記エンコーダシステムは、前記第1方向に関して前記第2格子部の幅より広い検出範囲を有する第2ヘッドユニットによって前記移動体の前記第2方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項112に記載の露光方法において、
前記第2格子部は、前記第1方向に関して前記物体を挟んで一対設けられ、前記第2ヘッドユニットは、前記第1方向に関して、前記光学系を介してパターン像が生成される露光領域の両側にそれぞれ前記検出範囲を有する露光方法。 - 請求項112又は113に記載の露光方法において、
前記第2ヘッドユニットは、前記第1方向に関して位置が異なる複数の第2ヘッドを有し、前記エンコーダシステムは、前記検出範囲内で前記第2格子部と対向する第2ヘッドによって前記移動体の前記第2方向の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項114に記載の露光方法において、
前記複数の第2ヘッドは、前記第1方向に関して前記第2格子部の幅よりも狭い間隔で配置される露光方法。 - 請求項105〜115のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記格子部は、前記第2方向に関して前記物体を挟んでそれぞれ前記第1方向に延設される一対の第1格子部と、前記第1方向に関して前記物体を挟んでそれぞれ前記第2方向に延設される一対の第2格子部とを含み、前記エネルギビームによる前記物体の露光動作では、前記一対の第1格子部及び前記一対の第2格子部の少なくとも3つが対応するヘッドユニットと対向する露光方法。 - 請求項116に記載の露光方法において、
前記各格子部は、前記延設される方向に周期的に配列される格子を有する露光方法。 - 請求項116又は117に記載の露光方法において、
前記各ヘッドユニットは、対応する格子部と交差する方向に関して所定間隔で配置される複数のヘッドを有する露光方法。 - 請求項105〜118のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ヘッドユニットは、前記第3方向に関して前記移動体の表面との間隔が前記光学系と前記移動体の表面との間隔と同程度以下である露光方法。 - 請求項105〜119のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エンコーダシステムによって計測される位置情報は、少なくとも前記エネルギビームによる前記物体の露光動作で用いられる露光方法。 - 請求項105〜120のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エンコーダシステムによって計測される位置情報は、少なくとも前記物体のマークの検出動作で用いられる露光方法。 - 請求項105〜121のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測システムは、前記移動体の位置情報を計測する干渉計システムを含み、前記干渉計システムによる前記移動体の位置情報の計測方向は、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向を含む露光方法。 - 請求項122に記載の露光方法において、
前記干渉計システムは、前記平面内の方向と異なる方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項122又は123に記載の露光方法において、
前記干渉計システムは、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の少なくとも1つの計測方向に関して前記移動体の位置情報を計測する露光方法。 - 請求項105〜124のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測システムは、前記移動体の位置情報を計測する干渉計システムを含み、前記エンコーダシステムの計測情報に基づく前記移動体の位置制御では、前記干渉計システムの計測情報も用いられる露光方法。 - 請求項125に記載の露光方法において、
前記位置制御で用いられる前記干渉計システムの計測情報は、前記エンコーダシステムによる前記移動体の位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記移動体の位置情報を含む露光方法。 - 請求項105〜126のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補正する工程をさらに含む露光方法。 - 請求項79〜127のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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