JPH0541442A - ウエーハ計数方法及びその装置 - Google Patents
ウエーハ計数方法及びその装置Info
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- JPH0541442A JPH0541442A JP21632591A JP21632591A JPH0541442A JP H0541442 A JPH0541442 A JP H0541442A JP 21632591 A JP21632591 A JP 21632591A JP 21632591 A JP21632591 A JP 21632591A JP H0541442 A JPH0541442 A JP H0541442A
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- cassette
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- signal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体製造装置のカセット内に収納されたウェ
ーハの計数を行う場合のウェーハ位置基準点を正確に求
める。 【構成】ウェーハ４が所要枚数連続的に装填されたカセ
ット５に対し、ウェーハセンサ１５をウェーハ面に対し
て垂直方向に相対的に走査させ、ウェーハＯＮ−ＯＦＦ
信号とＯＮ−ＯＦＦ信号発生点の位置情報に基づき、ウ
ェーハ間隔、ウェーハ位置を求め、該ウェーハ間隔、ウ
ェーハ位置よりウェーハ検知開始位置を演算する様に
し、実際のウェーハの状態を判断し、且実際のウェーハ
の状態からウェーハ計数の為の基準位置を演算で求め
る。
ーハの計数を行う場合のウェーハ位置基準点を正確に求
める。 【構成】ウェーハ４が所要枚数連続的に装填されたカセ
ット５に対し、ウェーハセンサ１５をウェーハ面に対し
て垂直方向に相対的に走査させ、ウェーハＯＮ−ＯＦＦ
信号とＯＮ−ＯＦＦ信号発生点の位置情報に基づき、ウ
ェーハ間隔、ウェーハ位置を求め、該ウェーハ間隔、ウ
ェーハ位置よりウェーハ検知開始位置を演算する様に
し、実際のウェーハの状態を判断し、且実際のウェーハ
の状態からウェーハ計数の為の基準位置を演算で求め
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置に於い
て、カセット内のウェーハの状態を検出するウェーハ計
数方法及びその装置に関するものである。
て、カセット内のウェーハの状態を検出するウェーハ計
数方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体製造装置では、ウェーハの
取扱いはウェーハをカセットに装填した状態で行ってい
る。又、ウェーハを実際に処理する場合、１枚づつ処
理、或は移載する為、カセットにウェーハが何枚装填さ
れているか、或は歯抜けの有無等どの様な状態で装填さ
れているかを検知する必要がある。
取扱いはウェーハをカセットに装填した状態で行ってい
る。又、ウェーハを実際に処理する場合、１枚づつ処
理、或は移載する為、カセットにウェーハが何枚装填さ
れているか、或は歯抜けの有無等どの様な状態で装填さ
れているかを検知する必要がある。
【０００３】斯かる要請より、本出願人は特願平１−１
９８１７１号、特願平２−３４４６９号に於いてウェー
ハ枚数計数装置を提案している。
９８１７１号、特願平２−３４４６９号に於いてウェー
ハ枚数計数装置を提案している。
【０００４】このウェーハ枚数計数装置では、ビーム状
の光又は超音波を用い、ウェーハの周端面に向けて発射
し、周端面からの反射信号を検知する方式をとってお
り、センサに対しウェーハを面の垂直方向に移動させ、
ウェーハの周端面をセンサから発せられるビームを横切
らせている。カセット自体のウェーハ収納ピッチは分っ
ており、図５で示される様に該収納ピッチより小さいウ
ェーハ検知幅ＺS を設定し、該検知幅ＺS の間で前記反
射信号が有るかどうかでウェーハの有無を判定してい
る。
の光又は超音波を用い、ウェーハの周端面に向けて発射
し、周端面からの反射信号を検知する方式をとってお
り、センサに対しウェーハを面の垂直方向に移動させ、
ウェーハの周端面をセンサから発せられるビームを横切
らせている。カセット自体のウェーハ収納ピッチは分っ
ており、図５で示される様に該収納ピッチより小さいウ
ェーハ検知幅ＺS を設定し、該検知幅ＺS の間で前記反
射信号が有るかどうかでウェーハの有無を判定してい
る。
【０００５】隣接するウェーハ検知幅ＺS は、ウェーハ
収納ピッチのウェーハ検知幅ＺS を除いた幅、ウェーハ
未検知幅Ｚd を隔てて始まっている。従って、ウェーハ
検知開始基準位置ＰS とすると、第１番目のウェーハ検
知幅に対してウェーハの有無を判定し、更にウェーハ未
検知幅Ｚd 分移動した位置から第２番目のウェーハの有
無判定を第２の検知幅ＺS について行う。この検知手順
を予定された全検知幅について、繰返し行いウェーハの
検知作業を完了する。
収納ピッチのウェーハ検知幅ＺS を除いた幅、ウェーハ
未検知幅Ｚd を隔てて始まっている。従って、ウェーハ
検知開始基準位置ＰS とすると、第１番目のウェーハ検
知幅に対してウェーハの有無を判定し、更にウェーハ未
検知幅Ｚd 分移動した位置から第２番目のウェーハの有
無判定を第２の検知幅ＺS について行う。この検知手順
を予定された全検知幅について、繰返し行いウェーハの
検知作業を完了する。
【０００６】前記した様に開始基準位置が正しく設定さ
れることで、ウェーハの有無検出が行うことができ、開
始基準位置が正しくない場合には、ウェーハが検知幅Ｚ
S から外れ検出不能ということになる。従来このウェー
ハ開始基準位置の設定は、人手によって行っていた。
れることで、ウェーハの有無検出が行うことができ、開
始基準位置が正しくない場合には、ウェーハが検知幅Ｚ
S から外れ検出不能ということになる。従来このウェー
ハ開始基準位置の設定は、人手によって行っていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが人手による開
始基準位置の設定は、作業者の感覚に頼る為、設定自体
に時間が掛かり、設定精度にバラツキがある。又、設定
時間、設定精度も設定者の習熟度に大きく左右されると
いう不具合があり、結果的に検知結果の信頼性が低いと
いう問題があった。
始基準位置の設定は、作業者の感覚に頼る為、設定自体
に時間が掛かり、設定精度にバラツキがある。又、設定
時間、設定精度も設定者の習熟度に大きく左右されると
いう不具合があり、結果的に検知結果の信頼性が低いと
いう問題があった。
【０００８】又、１つのウェーハの端面からの反射信号
を検出するということから、他のウェーハの端面等から
の反射信号が混存しない様にする為、センサのビーム発
射軸とウェーハが完全に平行、更にセンサの移動方向に
対してウェーハが完全に垂直であらねばならない。
を検出するということから、他のウェーハの端面等から
の反射信号が混存しない様にする為、センサのビーム発
射軸とウェーハが完全に平行、更にセンサの移動方向に
対してウェーハが完全に垂直であらねばならない。
【０００９】或は、ビーム発射軸とウェーハ周端面の接
線とが直角になっていなければ、正確な反射信号が得ら
れない等の理由からセンサとウェーハ即ちカセットとの
位置関係も確認せねばならない。従来、これらの確認作
業は人手、人の感覚で行っていた為、時間が掛かり、信
頼性が低いという問題があった。
線とが直角になっていなければ、正確な反射信号が得ら
れない等の理由からセンサとウェーハ即ちカセットとの
位置関係も確認せねばならない。従来、これらの確認作
業は人手、人の感覚で行っていた為、時間が掛かり、信
頼性が低いという問題があった。
【００１０】本発明は斯かる実情に鑑み、センサの検出
状態及びセンサとカセットの位置関係のチェックを行う
と共にウェーハ検知位置を自動的に設定し得るウェーハ
枚数計数方法及びその装置を提供しようとするものであ
る。
状態及びセンサとカセットの位置関係のチェックを行う
と共にウェーハ検知位置を自動的に設定し得るウェーハ
枚数計数方法及びその装置を提供しようとするものであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、ウェーハが所
要枚数連続的に装填されたカセットに対し、ウェーハセ
ンサをウェーハ面に対して垂直方向に相対的に走査さ
せ、ウェーハＯＮ−ＯＦＦ信号とＯＮ−ＯＦＦ信号発生
点の位置情報に基づき、ウェーハ間隔、ウェーハ位置を
求め、該ウェーハ間隔、ウェーハ位置よりウェーハ検知
開始位置を演算することを特徴とするものである。
要枚数連続的に装填されたカセットに対し、ウェーハセ
ンサをウェーハ面に対して垂直方向に相対的に走査さ
せ、ウェーハＯＮ−ＯＦＦ信号とＯＮ−ＯＦＦ信号発生
点の位置情報に基づき、ウェーハ間隔、ウェーハ位置を
求め、該ウェーハ間隔、ウェーハ位置よりウェーハ検知
開始位置を演算することを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】実際のウェーハの状態を自動的に判断し、更に
判断した結果よりウェーハ計数の基準位置を演算し求め
るので、バラツキがなく且人為的誤差が介在しないので
正確に基準位置の設定が行える。
判断した結果よりウェーハ計数の基準位置を演算し求め
るので、バラツキがなく且人為的誤差が介在しないので
正確に基準位置の設定が行える。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【００１４】図１中、１はカセットローダ、２はカセッ
ト棚、３は制御装置を示す。
ト棚、３は制御装置を示す。
【００１５】カセットローダ１は、ウェーハ４が装填さ
れたカセット５をカセット棚２に移載するものであり、
カセット５が乗載されるカセット受台６は昇降スクリュ
ーロッド７に螺合し、昇降モータ８による昇降スクリュ
ーロッド７の回転で昇降する様になっている。
れたカセット５をカセット棚２に移載するものであり、
カセット５が乗載されるカセット受台６は昇降スクリュ
ーロッド７に螺合し、昇降モータ８による昇降スクリュ
ーロッド７の回転で昇降する様になっている。
【００１６】前記カセット棚２は、前記カセットローダ
１に対峙して設けられ、カセット５を多段に収納するも
のである。
１に対峙して設けられ、カセット５を多段に収納するも
のである。
【００１７】前記制御装置３は、主に主制御部９、モー
タ制御部１０、モータ駆動部１１、ウェーハ検知部１
２、操作部１３、記憶部１６から構成され、昇降モータ
８を駆動制御すると共に、該昇降モータ８に設けたエン
コーダ１４からの位置信号が前記モータ駆動部１１にフ
ィードバックされる様になっている。
タ制御部１０、モータ駆動部１１、ウェーハ検知部１
２、操作部１３、記憶部１６から構成され、昇降モータ
８を駆動制御すると共に、該昇降モータ８に設けたエン
コーダ１４からの位置信号が前記モータ駆動部１１にフ
ィードバックされる様になっている。
【００１８】前記カセット棚２の前記カセットローダ１
に対向する位置に且前記カセット５が昇降した際に、該
カセット５が完全に通過する位置に、超音波センサ等反
射検出型のウェーハセンサ１５を取付ける。
に対向する位置に且前記カセット５が昇降した際に、該
カセット５が完全に通過する位置に、超音波センサ等反
射検出型のウェーハセンサ１５を取付ける。
【００１９】以下、ウェーハの計測作動について説明す
る。
る。
【００２０】先ず、最下部から連続して３枚のウェーハ
が収納されているカセット５を前記カセット受台６にセ
ットし、前記昇降モータ８を駆動して、前記ウェーハセ
ンサ１５に対してカセット５を通過させる。又、ウェー
ハ４通過前所要位置Ｐa よりウェーハ有無の検出を始め
る。
が収納されているカセット５を前記カセット受台６にセ
ットし、前記昇降モータ８を駆動して、前記ウェーハセ
ンサ１５に対してカセット５を通過させる。又、ウェー
ハ４通過前所要位置Ｐa よりウェーハ有無の検出を始め
る。
【００２１】この時のウェーハセンサ１５からのＯＮ−
ＯＦＦ信号を前記ウェーハ検知部１２に於いて取込み、
同時にＯＮ−ＯＦＦ信号の変化点（ＯＮ信号からＯＦＦ
信号に、或はＯＦＦ信号からＯＮ信号に変化する点）の
位置情報をエンコーダ１４からの信号を基に検出する。
この位置情報を基に主制御部９に於いて、ウェーハセン
サ信号ＯＮ区間Ｔ1 ，Ｔ2 ，Ｔ3 、ウェーハセンサ信号
ＯＦＦ区間Ｔ4 ，Ｔ5、ウェーハセンサ信号ＯＮ区間平
均ＴON、ウェーハセンサ信号ＯＦＦ区間平均ＴOFF 、ウ
ェーハセンサ信号ＯＮ−ＯＦＦの比率ＤＲ、ウェーハ中
心位置ＰZ1，ＰZ2，ＰZ3、ウェーハ間距離Ｚa ，Ｚb を
下記の通り演算する。但し、Ｐ1 ，Ｐ2，Ｐ3 は信号が
ＯＮからＯＦＦに切替わる点、Ｐ1 ′，Ｐ2 ′，Ｐ3 ′
は信号がＯＦＦからＯＮに切替わる点である。
ＯＦＦ信号を前記ウェーハ検知部１２に於いて取込み、
同時にＯＮ−ＯＦＦ信号の変化点（ＯＮ信号からＯＦＦ
信号に、或はＯＦＦ信号からＯＮ信号に変化する点）の
位置情報をエンコーダ１４からの信号を基に検出する。
この位置情報を基に主制御部９に於いて、ウェーハセン
サ信号ＯＮ区間Ｔ1 ，Ｔ2 ，Ｔ3 、ウェーハセンサ信号
ＯＦＦ区間Ｔ4 ，Ｔ5、ウェーハセンサ信号ＯＮ区間平
均ＴON、ウェーハセンサ信号ＯＦＦ区間平均ＴOFF 、ウ
ェーハセンサ信号ＯＮ−ＯＦＦの比率ＤＲ、ウェーハ中
心位置ＰZ1，ＰZ2，ＰZ3、ウェーハ間距離Ｚa ，Ｚb を
下記の通り演算する。但し、Ｐ1 ，Ｐ2，Ｐ3 は信号が
ＯＮからＯＦＦに切替わる点、Ｐ1 ′，Ｐ2 ′，Ｐ3 ′
は信号がＯＦＦからＯＮに切替わる点である。
【００２２】 センサ信号ＯＮ区間 Ｔ1 ＝Ｐ3 ′−Ｐ3 Ｔ2 ＝Ｐ2 ′−Ｐ2 Ｔ3 ＝Ｐ1 ′−Ｐ1 センサ信号ＯＦＦ区間 Ｔ4 ＝Ｐ2 −Ｐ3 ′ Ｔ5 ＝Ｐ1 −Ｐ2 ′ センサ信号ＯＮ区間の平均 ＴON＝（Ｔ1 ＋Ｔ2 ＋Ｔ3 ）／３ センサ信号ＯＦＦ区間の平均 ＴOFF ＝（Ｔ4 ＋Ｔ5 ）／２ センサ信号ＯＮ−ＯＦＦの比率 ＤＲ＝｛ＴON／（ＴON＋ＴOFF ）｝×１００ ウェーハ中心位置 ＰZ1＝（Ｐ3 ′＋Ｐ3 ）／２ ＰZ2＝（Ｐ2 ′＋Ｐ2 ）／２ ＰZ3＝（Ｐ1 ′＋Ｐ1 ）／２ ウェーハ間距離 Ｚa ＝ＰZ2−ＰZ1 Ｚb ＝ＰZ3−ＰZ2 以上演算したデータより、ウェーハセンサ調整状態の良
否を判定するための判定結果を決定する。
否を判定するための判定結果を決定する。
【００２３】判定結果の１つは前記で求めたＤＲの値
から以下の表１により決定する。又、該表１は予め前記
記憶部１６に入力されていると共に該記憶部１６には良
否判定の基準、例えば表１のステータス＃２が設定され
ている。更に、後述するカセットスロットピッチ間隔Ｚ
2 についても予め入力されている。
から以下の表１により決定する。又、該表１は予め前記
記憶部１６に入力されていると共に該記憶部１６には良
否判定の基準、例えば表１のステータス＃２が設定され
ている。更に、後述するカセットスロットピッチ間隔Ｚ
2 についても予め入力されている。
【００２４】
【表１】
【００２５】判定結果の２は前記で求めたウェーハ間
距離Ｚa ，Ｚbの値が、予めパラメータとして設定した
ウェーハ検知幅に対し、その許容範囲に入っているか否
かで決定する。而して、カセットスロットピッチ間隔を
Ｚ2とし、許容範囲をカセットスロットピッチ間隔の±
１０％とした時以下の如くとなる。
距離Ｚa ，Ｚbの値が、予めパラメータとして設定した
ウェーハ検知幅に対し、その許容範囲に入っているか否
かで決定する。而して、カセットスロットピッチ間隔を
Ｚ2とし、許容範囲をカセットスロットピッチ間隔の±
１０％とした時以下の如くとなる。
【００２６】 許容範囲 上限：Ｚ2 ′＝Ｚ2 −Ｚ2 ×0.1 上限：Ｚ2 ″＝Ｚ2 ＋Ｚ2 ×0.1 許容範囲：Ｚ2 ′≦Ｚa ，Ｚb ≦Ｚ2 ″ となり、判定結果はウェーハ間距離Ｚa ，Ｚb が共に許
容範囲内の時“１”、それ以外の時“０”とする。
容範囲内の時“１”、それ以外の時“０”とする。
【００２７】前記判定結果１が、予め設定されている値
と一致し、且判定結果２が“１”の時のみ結果が良とな
る様にし、結果が良の時に以下に説明するウェーハ検知
開始位置ＰS の算出を行う。
と一致し、且判定結果２が“１”の時のみ結果が良とな
る様にし、結果が良の時に以下に説明するウェーハ検知
開始位置ＰS の算出を行う。
【００２８】ウェーハ検知開始位置ＰS は、最下段のウ
ェーハの中心位置ＰZ3からウェーハ検知幅の１／２分下
の位置となり、以下の様になる。
ェーハの中心位置ＰZ3からウェーハ検知幅の１／２分下
の位置となり、以下の様になる。
【００２９】 ウェーハ検知開始位置 ＰS ＝ＰZ3＋（ＺS ／２） 以上一連の処理が完了し、結果が良の時は、判定結果と
ウェーハ検知開始位置を、それ以外は判定結果のみを主
制御部９へ出力し、主制御部９はその結果を操作部１３
に表示する。又、以上一連の処理の流れを図４で示す。
ウェーハ検知開始位置を、それ以外は判定結果のみを主
制御部９へ出力し、主制御部９はその結果を操作部１３
に表示する。又、以上一連の処理の流れを図４で示す。
【００３０】以上、センサ調整状態の判定が良、ウェー
ハ間距離Ｚa ，Ｚb の値が許容範囲に入っている場合
は、処理すべきウェーハを装填したカセットをカセット
受台６に乗載し、カセット受台６を昇降させ、ウェーハ
センサ１５からの検出信号（ＯＮ−ＯＦＦ信号）とエン
コーダ１４からの位置情報を基に主制御部９に於いて、
ウェーハ４の枚数、歯抜けの位置等を計数し、その後の
ウェーハ処理の情報とする。
ハ間距離Ｚa ，Ｚb の値が許容範囲に入っている場合
は、処理すべきウェーハを装填したカセットをカセット
受台６に乗載し、カセット受台６を昇降させ、ウェーハ
センサ１５からの検出信号（ＯＮ−ＯＦＦ信号）とエン
コーダ１４からの位置情報を基に主制御部９に於いて、
ウェーハ４の枚数、歯抜けの位置等を計数し、その後の
ウェーハ処理の情報とする。
【００３１】又、センサ調整状態の判定が不可の場合
は、再度調整を行うが、表示部に於いてウェーハセンサ
の調整の状態が表示されるので、再調整を容易に行え
る。
は、再度調整を行うが、表示部に於いてウェーハセンサ
の調整の状態が表示されるので、再調整を容易に行え
る。
【００３２】尚、ウェーハセンサは超音波センサに代え
て光センサであってもよく、又反射型でなく通過型でも
よく、又ウェーハセンサの調整状態を検出する為カセッ
トの最下段からから３枚ウェーハを装填したが、装填す
るウェーハの位置、ウェーハの数はこれに限定されるも
のではない。更に、ウェーハセンサの調整状態を検出す
る為の特別なカセットをセットすることなく、連続的に
ウェーハが装填されているものであれば、実際に処理す
べきウェーハが装填されたカセットを用いてもよい。
て光センサであってもよく、又反射型でなく通過型でも
よく、又ウェーハセンサの調整状態を検出する為カセッ
トの最下段からから３枚ウェーハを装填したが、装填す
るウェーハの位置、ウェーハの数はこれに限定されるも
のではない。更に、ウェーハセンサの調整状態を検出す
る為の特別なカセットをセットすることなく、連続的に
ウェーハが装填されているものであれば、実際に処理す
べきウェーハが装填されたカセットを用いてもよい。
【００３３】又、カセットは縦置型でなくとも横置型で
あってもよく、この場合カセットとウェーハセンサとは
水平方向に相対移動させればよい。
あってもよく、この場合カセットとウェーハセンサとは
水平方向に相対移動させればよい。
【００３４】
【発明の効果】以上述べた如く本発明に於いて、ウェー
ハセンサの調整状態を判定し、且判定が良の場合はウェ
ーハ位置基準点を自動的に設定するので、ウェーハ位置
基準点設定に個人の習熟度等によるバラツキがなく、設
定精度が向上する。又、センサの調整状態が不可であっ
ても、調整状態が分るので再調整を容易に行えるという
優れた効果を発揮する。
ハセンサの調整状態を判定し、且判定が良の場合はウェ
ーハ位置基準点を自動的に設定するので、ウェーハ位置
基準点設定に個人の習熟度等によるバラツキがなく、設
定精度が向上する。又、センサの調整状態が不可であっ
ても、調整状態が分るので再調整を容易に行えるという
優れた効果を発揮する。
【図１】本発明の一実施例の構成の既略の１例を示す説
明図である。
明図である。
【図２】ウェーハとウェーハ検出信号の変化点を示す説
明図である。
明図である。
【図３】ウェーハとウェーハ検出信号の変化点を示す線
図である。
図である。
【図４】作動の流れを示すフローチャートである。
【図５】カセット、ウェーハと検出幅を示す説明図であ
る。
る。
１ カセットローダ ２ 制御装置 ４ ウェーハ ５ カセット ９ 主制御部 １４ エンコーダ １５ ウェーハセンサ １６ 記憶部
Claims (4)
- 【請求項１】 ウェーハが所要枚数連続的に装填された
カセットに対し、ウェーハセンサをウェーハ面に対して
垂直方向に相対的に走査させ、ウェーハＯＮ−ＯＦＦ信
号とＯＮ−ＯＦＦ信号発生点の位置情報に基づき、ウェ
ーハ間隔、ウェーハ位置を求め、該ウェーハ間隔、ウェ
ーハ位置よりウェーハ検知開始位置を演算することを特
徴とするウェーハ計数方法。 - 【請求項２】 ウェーハＯＮ信号区間、ウェーハＯＦＦ
信号区間を求めると共にＯＮ信号区間とＯＦＦ信号区間
の比率を求め該比率によってウェーハセンサ調整状態を
判定する様にした請求項１のウェーハ計数方法。 - 【請求項３】 ウェーハＯＮ信号区間、ウェーハＯＦＦ
信号区間を求めると共にＯＮ信号区間とＯＦＦ信号区間
の比率を求め該比率によってウェーハセンサ調整状態を
判定すると共にウェーハ間隔が予め設定したウェーハ検
知幅に対して許容範囲に入っているか否かを判定し、そ
れぞれ判定結果が良の時にウェーハ検知開始位置を演算
する請求項１のウェーハ計数方法。 - 【請求項４】 カセットに装填されたウェーハに対し、
ウェーハ面と垂直方向に相対移動可能としたウェーハセ
ンサと、相対移動位置を検出する位置検出器と、該ウェ
ーハセンサと該位置検出器とからウェーハ間隔、ウェー
ハ位置を演算すると共にウェーハ検知開始位置を演算す
る制御部とを具備したことを特徴とするウェーハ計数装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21632591A JPH0541442A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | ウエーハ計数方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21632591A JPH0541442A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | ウエーハ計数方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0541442A true JPH0541442A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=16686765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21632591A Pending JPH0541442A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | ウエーハ計数方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0541442A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5700127A (en) * | 1995-06-27 | 1997-12-23 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US7751922B2 (en) | 2004-10-06 | 2010-07-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing of a semiconductor device |
| KR101400570B1 (ko) * | 2006-02-21 | 2014-05-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 측정 장치 및 방법, 처리 장치 및 방법, 패턴 형성 장치 및 방법, 노광 장치 및 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
| JP2014175608A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置、基板処理装置、基板取出方法および記憶媒体 |
| GB2599406A (en) * | 2020-09-30 | 2022-04-06 | Edwards Tim | A portable work surface |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP21632591A patent/JPH0541442A/ja active Pending
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