JP2012015544A - 接続構造体の製造方法及び接続構造体並びに接続方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板1の接続面11には、導電性粒子の移動方向を制御するガイド面部131,132を備えた誘導板13が形成されている。誘導板13は、隣接する配線電極12間領域を介して対峙する領域の一方に立設される。ガイド面部131,132は、誘導板13の立設方向と直交する側面方向が配線電極12を向く。熱加圧によって異方性導電フィルムを介してガラス基板1とICチップとを圧着接続し、配線電極12とバンプとを異方性導電接続させる。
【選択図】図1
Description
以下の導電性粒子含有層と絶縁性接着剤層とが積層された2層構造の異方性導電フィルムを作製した。
ビスA型フェノキシ樹脂(商品名YP50、新日鐵化学社製)30質量部、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(商品名EP828、三菱化学社製)30質量部、イミダゾール系潜在性硬化剤(商品名PHX3941HP、旭化成株式会社製)40質量部、エポキシ系シランカップリング剤(商品名A−187、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ株式会社製)1質量部、粒子径3.25μmの導電性粒子(商品名ミクロパールAU、積水化学工業社製)35質量部にトルエンを加え固形分50%の組成物を調整した。調整した組成物を剥離基材上に塗布し、オーブンで加熱することにより乾燥させ、厚み8μmの導電性粒子含有層を作製した。
ビスA型フェノキシ樹脂(商品名YP50、新日鐵化学社製)25質量部、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(商品名EP828、三菱化学社製)35質量部、イミダゾール系潜在性硬化剤(商品名PHX3941HP、旭化成株式会社製)40質量部、エポキシ系シランカップリング剤(商品名A−187、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ株式会社製)1質量部にトルエンを加え固形分50%の組成物を調整した。調整した組成物を剥離基材上に塗布し、オーブンで加熱することにより乾燥させ、厚み12μmの絶縁性接着剤層を調整した。
ガラス基板に形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部から配線電極までの最短距離、及び、ICチップに形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部からバンプまでの最短距離を導電性粒子の粒子径の1.5倍とした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
ガラス基板に形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部から配線電極までの最短距離、及び、ICチップに形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部からバンプまでの最短距離を導電性粒子の粒子径の2.0倍とした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
ガラス基板に形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部から配線電極までの最短距離、及び、ICチップに形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部からバンプまでの最短距離を導電性粒子の粒子径の3.0倍とした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
導電性粒子として平均粒径が2.25μmのものを用いた以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
導電性粒子として平均粒径が3.75μmのものを用いた以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
誘導板の高さを18μmとした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
誘導板の高さを8μmとした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
誘導板の高さを6μmとした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
ガラス基板に誘導板を形成しない以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
ガラス基板に形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部から配線電極までの最短距離、及び、ICチップに形成された誘導板のガイド面部の側面方向先端部からバンプまでの最短距離を導電性粒子の粒子径の0.5倍とした以外は、実施例1と同様にして接続構造体を得た。
実施例1〜9、比較例1、2の各接続構造体について、接続前にガラス基板の配線電極上にある導電性粒子の数(接続前粒子数)を次の式(1)により算出した。
接続前粒子数=導電性粒子含有層における導電性粒子の粒子(面)密度(個/mm2)×端子の面積(mm2) ・・(1)
粒子捕捉率=(接続後粒子数/接続前粒子数)×100 ・・(2)
実施例1〜5、比較例1〜3の各接続構造体を85℃、湿度85%の環境下で500時間放置した。この放置後の各接続構造体について、バンプと配線電極との接続部を含む抵抗値が10Ω未満であるものを◎、10Ω以上50Ω未満であるものを○、50Ω以上10Ω未満であるものを△、100Ω以上であるものを×として評価した。評価結果を[表1]に示す。
実施例1〜5、比較例1〜3の各種接続構造体について30Vの電圧を印加し(2端子法)絶縁抵抗を測定し、製造直後の接続構造体の隣接した配線電極間(10μmスペースの部分)のショートの発生数をカウントした。1つの接続構造体につき、測定総数40サンプルとしたとき、次の評価基準により絶縁信頼性を評価した。すなわち、評価基準は、20個以上を×、5個以上20個未満を△、1個以上5個未満を○、1個未満を◎とした。評価結果を[表1]に示す。
Claims (6)
- 絶縁性の接着剤組成物に導電性粒子が分散されてなる異方性導電接着剤を介して基板の複数の配線電極が並列されている接続面と、電子部品の複数の端子電極が並列されている接続面とが接続されてなる接続構造体の製造方法において、
前記基板の接続面及び前記電子部品の接続面の少なくとも一方には、前記導電性粒子の移動をガイドするガイド面部を備えた誘導板が立設され、
前記誘導板は、前記配線電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方、及び/又は、前記端子電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方に立設され、
前記ガイド面部は、前記誘導板の立設方向と直交する側面方向が前記配線電極又は前記端子電極を向き、
熱加圧によって、前記異方性導電接着剤を介して前記基板の接続面と前記電子部品の接続面とを圧着接続し、前記配線電極と前記端子電極とを異方性導電接続させる接続構造体の製造方法。 - 前記誘導板は、前記基板の接続面及び前記電子部品の接続面に形成されている請求項1記載の接続構造体の製造方法。
- 前記基板のガイド面部の側面方向先端部から前記配線電極までの最短距離、前記電子部品のガイド面部の側面方向先端部から前記端子電極までの最短距離は、何れも前記導電性粒子の粒子径の1.0〜3.0倍である請求項1又は2記載の接続構造体の製造方法。
- 前記基板の平面視における該基板の接続面に形成された誘導板の形状、前記電子部品の平面視における該電子部品の接続面に形成された誘導板の形状は、何れも前記ガイド面部によりV字状を構成する請求項1乃至3の何れか1項記載の接続構造体の製造方法。
- 絶縁性の接着剤組成物に導電性粒子が分散されてなる異方性導電接着剤を介して基板の複数の配線電極が並列されている接続面と、電子部品の複数の端子電極が並列されている接続面とが接続されてなる接続構造体において、
前記基板の接続面及び前記電子部品の接続面の少なくとも一方には、前記導電性粒子の移動をガイドするガイド面部を備えた誘導板が立設され、
前記誘導板は、前記配線電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方、及び/又は、前記端子電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方に立設され、
前記ガイド面部は、前記誘導板の立設方向と直交する側面方向が前記配線電極又は前記端子電極を向き、
熱加圧によって、前記異方性導電接着剤を介して前記基板の接続面と前記電子部品の接続面とが圧着接続され、前記配線電極と前記端子電極とが異方性導電接続されてなる接続構造体。 - 絶縁性の接着剤組成物に導電性粒子が分散されてなる異方性導電接着剤を介して基板の複数の配線電極が並列されている接続面と、電子部品の複数の端子電極が並列されている接続面とを接続する接続方法において、
前記基板の接続面及び前記電子部品の接続面の少なくとも一方には、前記導電性粒子の移動をガイドするガイド面部を備えた誘導板が立設され、
前記誘導板は、前記配線電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方、及び/又は、前記端子電極間の領域を介して対峙する領域の少なくとも一方に立設され、
前記ガイド面部は、前記誘導板の立設方向と直交する側面方向が前記配線電極又は前記端子電極を向き、
熱加圧によって、前記異方性導電接着剤を介して前記基板の接続面と前記電子部品の接続面とを圧着接続し、前記配線電極と前記端子電極とを異方性導電接続させる接続方法。
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