JP2011528857A - アクチュエータおよび投影露光システム - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1a
Description
可動部の移動方向から見て変形ユニットの上流側に位置する第1の固定ユニットにより、可動部を固定するステップ、
可動部の移動方向から見て変形ユニットの下流側に位置する、可動部の第2の固定ユニットを解除するステップ、
デフォーマにより変形ユニットを変形するステップ、
第2の固定ユニットにより可動部を固定するステップ、
第1の固定ユニットを解除するステップ、および
変形ユニットからデフォーマを取り外すステップ、
を含む。
F*a*φ<2*kφ*φ
F*a<2*kφ
Claims (22)
- 有効方向、
ハウジング(2)、および
前記有効方向に、前記ハウジング(2)に対して移動可能な可動部(3)を有するアクチュエータ(1)であって、該アクチュエータ(1)は、
少なくとも一時的に前記可動部(3)に連結される前進ユニットを有し、該前進ユニットは、少なくとも1つの変形ユニット(6,601,610,620,630,640,650,660,670,680)および、該変形ユニット(6,601,610,620,630,640,650,660,670,680)を変形する少なくとも1つのデフォーマ(5,501,502,503,504,505,506)を有し、該少なくとも1つのデフォーマ(5,501,502,503,504,505,506)は、前記アクチュエータ(1)の前記有効方向に垂直なベクトル成分を用いて前記変形ユニット(6,601,610,620,630,640,650,660,670,680)を変形するのに適しており、該変形の結果、前記変形ユニット(6,601,610,620,630,640,650,660,670,680)の全長が前記有効方向において変化するようにしたことを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記ハウジング(2)は、前記変形ユニットを介して相互に連結可能な、少なくとも2つのハウジング部(21,22)で構成されたことを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項2に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記少なくとも2つのハウジング部(21,22)は、それぞれ、少なくとも1つの固定ユニット(41,42)を有し、前記可動部は前記固定ユニット(41,42)を用いて前記ハウジング部(21,22)のそれぞれに固定可能としたことを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項3に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、少なくとも1枚の板バネ(601)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項3に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)を、2枚の対向する板バネ(601)で構成した1対のバネとして設計したこと、および
前記1対のバネ上に少なくとも2つのデフォーマ(5)を配置し、該デフォーマにより前記板バネ(601)を外側から互いに向けて曲げるようにしたこと、
を特徴とするアクチュエータ。 - 請求項1に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記可動部(3)は、該可動部(3)の一部として設計される変形ユニット(6)を介して連結した第1の部分可動部および第2の部分可動部(31,32)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項6に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記部分可動部(31,32)のうちの1つを前記ハウジング(21,22)に対してそれぞれ固定可能な少なくとも2つの固定ユニット(41,42)を設けたことを特徴とする、
アクチュエータ。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記アクチュエータ(1)は、前記可動部(3)が前記アクチュエータ(1)の前記有効方向での移動を抑制する減衰素子(7)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は少なくとも1つの加圧可能な管(601)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、少なくとも1つの温度制御可能なバイメタル(620)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、少なくとも1つの磁気螺旋バネ(630)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、少なくとも1つの線バネ(650)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、断面および/または長さの異なる種々の螺旋バネ(670)の組み合わせを有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記変形ユニット(6)は、該アクチュエータ(1)の有効方向に、弾性特性の異なる少なくとも2つの部分(680,681)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記デフォーマ(5)は、圧電素子、特に、圧電積層体(810)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜15のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記デフォーマ(5)は、電磁コイル(502)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記デフォーマ(5)は、液圧シリンダまたは空気圧シリンダ(503)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記デフォーマは、空気圧ベローズ(504)を有することを特徴とする、アクチュエータ。 - 請求項1〜18のいずれか一項に記載のアクチュエータ(1)であって、
前記デフォーマ(5)は、コンデンサ極板(506)を有するコンデンサとして設計され、コンデンサ極板の電界により、コンデンサ極板(506)の間に配置された曲げ素子(640)を変形させることを特徴とする、アクチュエータ。 - 半導体リソグラフィ用の投影露光システム(310)であって、
前記投影露光システム(310)の光学素子(100)を、該投影露光システム(310)の光軸方向または該投影露光システム(310)の一部の光軸方向へ移動するために、請求項1〜19に記載のアクチュエータ(1)を有することを特徴とする、投影露光システム。 - 請求項20に記載の投影露光システム(310)であって、
前記光学素子(100)を、前記アクチュエータ(1)を介して、該投影露光システム(310)のさらなる構成要素に排他的に連結したことを特徴とする、投影露光システム。 - 有効方向、ハウジング(2)、および前記ハウジング(2)に対し、前記有効方向に移動可能な、変形ユニット(6)を持つ可動部(3)を有するアクチュエータ(1)の動作方法であって、
前記可動部の移動方向から見て前記変形ユニット(6)の上流側に位置する第1の固定ユニット(41)により、前記可動部(3)を固定するステップ、
前記可動部(3)の移動方向から見て前記変形ユニットの下流側に位置する、前記可動部(3)の第2の固定ユニット(42)を解除するステップ、
デフォーマにより前記変形ユニット(6)を変形するステップ、
前記第2の固定ユニット(42)により前記可動部を固定するステップ、
前記第1の固定ユニット(41)を解除するステップ、および
前記変形ユニット(6)から前記デフォーマ(5)を取り外すステップ、
により前記可動部を移動することを特徴とする方法。
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ITVI20120173A1 (it) * | 2012-07-17 | 2014-01-18 | Paolo Bonfiglio | Motore ad attuatori lineari |
CN104167953B (zh) * | 2014-08-26 | 2016-06-15 | 哈尔滨工业大学 | 一种内驱动式被动箝位压电驱动器 |
CN105406756B (zh) * | 2015-12-12 | 2017-10-20 | 西安交通大学 | 一种压电粗纤维和压电堆的尺蠖式作动器及作动方法 |
DE102016107461A1 (de) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | Eto Magnetic Gmbh | Aktorvorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Aktorvorrichtung |
DE102017111642A1 (de) * | 2017-05-29 | 2017-08-10 | Eto Magnetic Gmbh | Kleingerätevorrichtung |
GB201818045D0 (en) | 2018-11-05 | 2018-12-19 | Nhs Blood & Transplant | Method for producing erythroid cells |
KR20200126231A (ko) | 2019-04-29 | 2020-11-06 | 한국전기연구원 | 열전소자를 이용한 sma 액추에이터 |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6223381A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-01-31 | Ube Ind Ltd | 圧電式アクチュエータ装置 |
JPS63148654A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Shimizu Constr Co Ltd | ウエ−ハカセツトのハンドリング装置 |
JPS6462154A (en) * | 1987-08-17 | 1989-03-08 | Welch Allyn Inc | Borescope or endoscope with hydrodynamic muscle |
JPS6483181A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-28 | Kinmon Seisakusho | Seismic sensor |
JPH0241668A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-09 | Canon Inc | 尺取虫型アクチュエータ |
JPH02151276A (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-11 | Nippon Electric Ind Co Ltd | 圧電駆動機構 |
JPH04304983A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-28 | Toshiba Corp | 管内移動装置及びその操縦方法 |
JPH06226579A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-16 | Sony Corp | 微小送り装置 |
JP2002218771A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アクチュエータおよびその製造方法 |
JP2003517807A (ja) * | 1999-08-23 | 2003-05-27 | イノベイティブ・テクノロジー・ライセンシング・エルエルシー | プッシュ・プル高出力電圧リニアモータ |
JP2003518752A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-10 | 1...リミテッド | 電気活性デバイス |
JP2003193957A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Nec Corp | 移動システムおよびその移動方法 |
JP2003230288A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 電歪アクチュエータ |
JP2005513767A (ja) * | 2001-12-19 | 2005-05-12 | カール ツアイス エスエムティー アーゲー | 投影露光機における撮像装置 |
JP2006345629A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Sony Corp | 駆動装置及び撮像装置 |
JP2007068794A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Okayama Univ | 流体アクチュエータ、流体アクチュエータの製造方法、流体アクチュエータを備えた筋力補助装置、及び流体アクチュエータで構成した拘束具 |
JP2007116889A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Canon Inc | インチワーム駆動によるアクチュエータ |
JP2008532470A (ja) * | 2005-03-03 | 2008-08-14 | プラット アンド ホイットニー カナダ コーポレイション | 電磁アクチュエータ |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1933205A1 (de) * | 1969-06-26 | 1971-01-07 | Siemens Ag | Mikroschritt-Motor |
JPS5576559A (en) * | 1978-12-01 | 1980-06-09 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron beam fine adjusting device |
US4570096A (en) * | 1983-10-27 | 1986-02-11 | Nec Corporation | Electromechanical translation device comprising an electrostrictive driver of a stacked ceramic capacitor type |
JPS61258679A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-17 | Nec Corp | 回転角制御装置 |
IL87312A (en) * | 1988-08-02 | 1992-02-16 | Zvi Orbach | Electromechanical translation apparatus of the inchworm linear motor type |
US4874979A (en) * | 1988-10-03 | 1989-10-17 | Burleigh Instruments, Inc. | Electromechanical translation apparatus |
JPH04372324A (ja) * | 1991-06-21 | 1992-12-25 | Toyoda Mach Works Ltd | 送り装置 |
US5319257A (en) * | 1992-07-13 | 1994-06-07 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Unitaxial constant velocity microactuator |
AU7691994A (en) * | 1993-08-30 | 1995-03-22 | Stm Medizintechnik Starnberg Gmbh | Endoscope with a movable frontal end area |
JPH0993961A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-04-04 | Kazuma Suzuki | 圧電アクチュエータ |
JPH09247968A (ja) * | 1996-03-06 | 1997-09-19 | Minolta Co Ltd | 電気機械変換素子を使用した駆動装置 |
JP2000147232A (ja) * | 1998-11-06 | 2000-05-26 | Canon Inc | 回折光学装置及びそれを用いた投影露光装置 |
US6836056B2 (en) * | 2000-02-04 | 2004-12-28 | Viking Technologies, L.C. | Linear motor having piezo actuators |
WO2001067431A1 (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-13 | Viking Technologies, Inc. | Method and system for automatically tuning a stringed instrument |
JP2003532136A (ja) * | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | 光学システムにおいてレンズを精密に配置および整列する装置、システム、および方法 |
DE10022526A1 (de) | 2000-05-09 | 2001-11-22 | Beiersdorf Ag | Einrastverschluß für Verpackungen |
EP1311007A1 (en) * | 2001-11-07 | 2003-05-14 | ASML Netherlands B.V. | Piezoelectric actuator, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7486382B2 (en) * | 2001-12-19 | 2009-02-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging device in a projection exposure machine |
DE10301818A1 (de) | 2003-01-20 | 2004-07-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Piezo-Linearantrieb mit einer Gruppe von Piezostapelaktuatoren |
US7045932B2 (en) * | 2003-03-04 | 2006-05-16 | Exfo Burleigh Prod Group Inc | Electromechanical translation apparatus |
US7309946B2 (en) * | 2003-03-19 | 2007-12-18 | Academia Sinica | Motion actuator |
US7548010B2 (en) * | 2004-09-21 | 2009-06-16 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Active material based actuators for large displacements and rotations |
JP4568234B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2010-10-27 | 株式会社東芝 | アクチュエータおよび撮像装置 |
EP2017949A1 (en) * | 2007-07-16 | 2009-01-21 | Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC) | Stepping actuator and method of fabrication |
DE102008034285A1 (de) | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Aktuator zur hochpräzisen Positionierung bzw. Manipulation von Komponenten und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
-
2008
- 2008-07-22 DE DE102008034285A patent/DE102008034285A1/de not_active Ceased
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2009
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-
2011
- 2011-01-19 US US13/009,438 patent/US20110128521A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-02-22 US US13/402,115 patent/US20120147344A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-08-31 US US14/840,394 patent/US9766550B2/en active Active
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6223381A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-01-31 | Ube Ind Ltd | 圧電式アクチュエータ装置 |
JPS63148654A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Shimizu Constr Co Ltd | ウエ−ハカセツトのハンドリング装置 |
JPS6462154A (en) * | 1987-08-17 | 1989-03-08 | Welch Allyn Inc | Borescope or endoscope with hydrodynamic muscle |
JPS6483181A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-28 | Kinmon Seisakusho | Seismic sensor |
JPH0241668A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-09 | Canon Inc | 尺取虫型アクチュエータ |
JPH02151276A (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-11 | Nippon Electric Ind Co Ltd | 圧電駆動機構 |
JPH04304983A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-28 | Toshiba Corp | 管内移動装置及びその操縦方法 |
JPH06226579A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-16 | Sony Corp | 微小送り装置 |
JP2003517807A (ja) * | 1999-08-23 | 2003-05-27 | イノベイティブ・テクノロジー・ライセンシング・エルエルシー | プッシュ・プル高出力電圧リニアモータ |
JP2003518752A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-10 | 1...リミテッド | 電気活性デバイス |
JP2002218771A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アクチュエータおよびその製造方法 |
JP2005513767A (ja) * | 2001-12-19 | 2005-05-12 | カール ツアイス エスエムティー アーゲー | 投影露光機における撮像装置 |
JP2003193957A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Nec Corp | 移動システムおよびその移動方法 |
JP2003230288A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 電歪アクチュエータ |
JP2008532470A (ja) * | 2005-03-03 | 2008-08-14 | プラット アンド ホイットニー カナダ コーポレイション | 電磁アクチュエータ |
JP2006345629A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Sony Corp | 駆動装置及び撮像装置 |
JP2007068794A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Okayama Univ | 流体アクチュエータ、流体アクチュエータの製造方法、流体アクチュエータを備えた筋力補助装置、及び流体アクチュエータで構成した拘束具 |
JP2007116889A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Canon Inc | インチワーム駆動によるアクチュエータ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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