JP2011146663A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、基板を保持する基板保持装置であって、基板を吸着して保持する保持ユニットと、基板が保持ユニットに搭載された状態で、基板の吸着力に関する物理量を計測する計測部と、保持ユニットの移動を制御する制御部と、を備え、制御部は、保持ユニットの速度および加速度を、正常吸着用と異常吸着用で個別に設定し、計測部の計測結果が、予め設定された第１の条件を満たすかどうかを判定し、第１の条件を満たす場合に、予め設定された正常吸着用の速度および加速度に基づいて保持ユニットの移動を制御し、計測部の計測結果が、予め設定された第２の条件を満たすかどうかを判定し、第１の条件を満たさずに、かつ、第２の条件を満たす場合に、予め設定された異常吸着用の速度および加速度に基づいて保持ユニットの移動を制御することを特徴としている。
また、本発明の別の観点では、本発明のリソグラフィー装置は、基板を移動させるステージ装置と、ステージ装置から基板を受け取って搬送する基板搬送装置と、制御部と、を備えるリソグラフィー装置であって、ステージ装置は、基板を吸着して保持する保持ユニットと、基板が保持ユニットに搭載された状態で、基板の吸着力に関する物理量を計測する計測部と、を備え、制御部は、基板搬送装置による基板搬送の速度および加速度を、正常吸着用と異常吸着用で個別に設定し、計測部の計測結果が、予め設定された第１の条件を満たすかどうかを判定し、第１の条件を満たす場合に、予め設定された正常吸着用の速度および加速度に基づいて基板搬送装置による搬送を制御し、計測部の計測結果が、予め設定された第２の条件を満たすかどうかを判定し、第１の条件を満たさずに、かつ、第２の条件を満たす場合に、予め設定された異常吸着用の速度および加速度に基づいて基板搬送装置による搬送を制御することを特徴としている。

Claims (11)

1. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板を吸着して保持する保持ユニットと、
   前記基板が前記保持ユニットに搭載された状態で、前記基板の吸着力に関する物理量を計測する計測部と、
   前記保持ユニットの移動を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記保持ユニットの速度および加速度を、正常吸着用と異常吸着用で個別に設定し、
   前記計測部の計測結果が、予め設定された第１の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たす場合に、予め設定された正常吸着用の速度および加速度に基づいて前記保持ユニットの移動を制御し、
   前記計測部の計測結果が、予め設定された第２の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たさずに、かつ、前記第２の条件を満たす場合に、予め設定された異常吸着用の速度および加速度に基づいて前記保持ユニットの移動を制御することを特徴とする基板保持装置。
2. 前記保持ユニットは、負圧により前記基板を吸着し、
   前記計測部は、前記物理量として、前記吸着における負圧空間の圧力値を計測することを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
3. 前記第１の条件は、前記計測部によって計測された物理量が、予め設定された第１閾値よりも大きい吸着力を示す条件であり、
   前記第２の条件は、前記計測部によって計測された物理量が、予め設定された、前記第１閾値よりも小さい吸着力を示す第２閾値よりも大きい吸着力を示す条件である、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
4. 前記計測部は、前記保持ユニットの保持面における複数箇所で前記物理量を計測し、
   前記第１の条件は、前記複数箇所において計測された物理量がすべて所定の閾値よりも大きい吸着力を示す条件であり、
   前記第２の条件は、前記複数箇所の計測結果により決まる前記物理量の分布が所定の範囲を超える条件である、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
5. 前記第１の条件は、前記計測部によって計測された物理量が、第１時間が経過する前に所定の吸着力を示す第１閾値に達する条件であり、
   前記第２の条件は、前記計測部によって計測された物理量が、前記第１時間よりも長い第２時間が経過する前に前記第１閾値に達する条件である、ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
6. 前記制御部は、
   前記計測部の計測結果が、前記第１および第２の条件のいずれも満たさない場合に、前記正常吸着用の速度および加速度にもとづく前記保持ユニットの移動、および前記異常吸着用の速度および加速度にもとづいて前記保持ユニットの移動のいずれとも異なる処理を実行することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
7. 更に、前記計測部の計測結果の履歴情報を記憶する記憶部を備え、
   前記制御部は、前記履歴情報に基づいて、前記基板と前記保持ユニットのいずれに異常要因があるかを特定し、特定された異常要因に応じた処理を実行することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
8. 基板を保持する基板保持装置であって、
   前記基板を吸着して保持する保持ユニットと、
   前記基板が前記保持ユニットに搭載された状態で、前記基板の吸着力に関する物理量を計測する計測部と、
   前記保持ユニットの移動を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記保持ユニットの速度および加速度を、第１吸着用と第２吸着用で個別に設定し、
   前記計測部の計測結果が、予め設定された第１の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たす場合に、予め設定された第１吸着用の速度および加速度に基づいて前記保持ユニットの移動を制御し、
   前記計測部の計測結果が、予め設定された第２の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たさずに、かつ、前記第２の条件を満たす場合に、予め設定された第２吸着用の速度および加速度に基づいて前記保持ユニットの移動を制御することを特徴とする基板保持装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基板保持装置と、前記基板にパターンを転写する手段と、を備えることを特徴とするリソグラフィー装置。
10. 基板を移動させるステージ装置と、前記ステージ装置から前記基板を受け取って搬送する基板搬送装置と、制御部と、を備えるリソグラフィー装置であって、
    前記ステージ装置は、
    前記基板を吸着して保持する保持ユニットと、
    前記基板が前記保持ユニットに搭載された状態で、前記基板の吸着力に関する物理量を計測する計測部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記基板搬送装置による基板搬送の速度および加速度を、正常吸着用と異常吸着用で個別に設定し、
    前記計測部の計測結果が、予め設定された第１の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たす場合に、予め設定された正常吸着用の速度および加速度に基づいて前記基板搬送装置による搬送を制御し、
    前記計測部の計測結果が、予め設定された第２の条件を満たすかどうかを判定し、前記第１の条件を満たさずに、かつ、前記第２の条件を満たす場合に、予め設定された異常吸着用の速度および加速度に基づいて前記基板搬送装置による搬送を制御することを特徴とするリソグラフィー装置。
11. 請求項９または１０に記載のリソグラフィー装置を用いたデバイス製造方法であって、
    前記リソグラフィー装置を利用してパターンを基板に転写する工程を備えることを特徴とするデバイスの製造方法。