JP6960232B2 - リソグラフィ装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、インプリント装置、露光装置、荷電粒子線描画装置等のリソグラフィ装置に適用できるが、以下の実施形態では、リソグラフィ装置の一例として、インプリント装置について説明する。まず、実施形態に係るインプリント装置の概要について説明する。インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材を型と接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。
第1実施形態では、基板10の面外方向の変形量の計測結果に基づいて凝着の判定を行ったが、本実施形態では、基板10の表面に沿った方向(面内方向)の変形量の計測結果に基づいて凝着の判定を行う。図7は、基板保持部16の吸着圧を変化させたときの基板10の面内方向の変形量の変化の例を示すグラフである。図7の横軸は、図6と同様、基板の吸着圧(すなわち基板保持部が基板を保持する保持力)を示しており、吸着圧が低くなるほど(すなわち左方向にいくほど)保持力が強くなり、吸着圧が高くなるほど(右方向にいくほど)保持力が弱くなる。
第1実施形態では、基板保持部16のメンテナンスを促す警告が出力されると、洗浄装置71による基板保持部16の洗浄を行う構成を説明した。これに対し本実施形態では、基板保持部16のメンテナンスを促す警告が出力されると、基板保持部16の交換を行う。基板保持部16の交換は、図5に示すステージ駆動機構17上に載置されている基板保持部16を、搬送ロボット61により、保管部72に搬送する。その後、洗浄済みの基板保持部16を搬送ロボット61により保管部72から取り出し、ステージ駆動機構17上に載置する。保管部72内は、例えば、洗浄済みの基板保持部16を格納する領域と、メンテナンスのためにステージ駆動機構17により降ろされた基板保持部16を格納する領域とに分かれている。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (13)
- 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部による前記基板の保持力を調整する調整部と、
前記基板の面外方向または面内方向の変形量を計測する計測部と、
前記基板保持部により前記基板が保持された状態から前記調整部により前記保持力を弱めながら前記計測部により計測された前記変形量に基づいて前記基板保持部と前記基板との接触状態が前記基板保持部と前記基板との間に凝着が生じた異常であるか否かを判定する判定部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記判定部は、前記調整部により前記保持力が所定値に調整されたときに前記計測部により計測された前記変形量がしきい値を超えていなければ、前記接触状態が前記異常であると判定することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記判定部は、前記計測部により前記変形量がしきい値を超えたときの前記保持力が所定値より弱ければ、前記接触状態が前記異常であると判定することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記計測部は、前記基板の面外方向の変形量を計測するように構成され、
前記しきい値は、前記面外方向の変形量により前記基板の前記基板保持部からの浮き上がりを判定するための値に設定されている
ことを特徴とする請求項2又は3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記計測部は、前記基板の面内方向の変形量を計測するように構成され、
前記しきい値は、前記面内方向の変形量により前記基板の前記基板保持部に対する滑りを判定するための値に設定されている
ことを特徴とする請求項2又は3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基板保持部により前記基板が保持されてから所定時間待機した後、前記保持力を弱め、その後、前記保持力を元に戻すことにより、前記基板と前記基板保持部との間の温度差によって前記基板に生じた歪みを除去する歪み除去処理の中で、前記判定部による判定が行われることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部による前記基板の保持力を調整する調整部と、
前記基板の面外方向の変形量を計測する計測部と、
前記基板保持部により前記基板が保持された状態から前記調整部により前記保持力を弱めながら前記計測部により計測された前記面外方向の変形量に基づいて前記基板保持部と前記基板との接触状態が正常か否かを判定する判定部と、
を有し、
前記判定部は、前記調整部により前記保持力が所定値に調整されたときに前記計測部により計測された前記面外方向の変形量がしきい値を超えていなければ、前記接触状態が異常であると判定するように構成され、
前記しきい値は、前記面外方向の変形量により前記基板の前記基板保持部からの浮き上がりを判定するための値に設定されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部による前記基板の保持力を調整する調整部と、
前記基板の面内方向の変形量を計測する計測部と、
前記基板保持部により前記基板が保持された状態から前記調整部により前記保持力を弱めながら前記計測部により計測された前記面内方向の変形量に基づいて前記基板保持部と前記基板との接触状態が正常か否かを判定する判定部と、
を有し、
前記判定部は、前記調整部により前記保持力が所定値に調整されたときに前記計測部により計測された前記面内方向の変形量がしきい値を超えていなければ、前記接触状態が異常であると判定するように構成され、
前記しきい値は、前記面内方向の変形量により前記基板の前記基板保持部に対する滑りを判定するための値に設定されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記基板保持部により前記基板が保持されてから所定時間待機した後、前記保持力を弱め、その後、前記保持力を元に戻すことにより、前記基板と前記基板保持部との間の温度差によって前記基板に生じた歪みを除去する歪み除去処理の中で、前記判定部による判定が行われることを特徴とする請求項7または8に記載のリソグラフィ装置。
- 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部による前記基板の保持力を調整する調整部と、
前記基板の変形量を計測する計測部と、
前記基板保持部により前記基板が保持された状態から前記調整部により前記保持力を弱めながら前記計測部により計測された前記変形量に基づいて前記基板保持部と前記基板との接触状態が正常か否かを判定する判定部と、
を有し、
前記基板保持部により前記基板が保持されてから所定時間待機した後、前記保持力を弱め、その後、前記保持力を元に戻すことにより、前記基板と前記基板保持部との間の温度差によって前記基板に生じた歪みを除去する歪み除去処理の中で、前記判定部による判定が行われる、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記基板のショット領域の形状を補正するために前記基板を加熱する基板加熱部を更に有し、
前記計測部は、前記基板加熱部により加熱された前記基板の変形量を計測する
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記判定部により前記接触状態が前記異常であると判定されたときは警告を出力することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記形成する工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を有し、
前記処理する工程で処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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