JP2010199002A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、荷電粒子ビームを試料に照射する荷電粒子線装置において、試料の周囲における複数の所望位置に検出器を移動させ、検出器位置を最適化することに関する。本発明により、試料の姿勢や形状に応じた最適な検出信号を得ることができるため、高精度な試料観察、例えば、SEM観察,STEM観察、及びFIB観察が可能となる。また、FIB−SEM装置においては、FIB加工の終点検知を高精度に実施することが可能となる。
【選択図】 図1
Description
また、検出器ステージ6の移動動作の際、退避機構により検出器7を試料室側へ退避させることより、試料ステージ,SEM鏡筒、及びFIB鏡筒等の他のユニットとの干渉を防ぐことができる。
2 試料室
3 FIB鏡筒
4 SEM鏡筒
5 試料ステージ
6 検出器ステージ
7 検出器
8 デポガス銃
9 電子ビーム
10 イオンビーム
11 透過電子
12 信号
Claims (14)
- 回転可能な試料ステージと、試料からの信号を検出する検出器と、を備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、試料ステージを中心に回転可能である装置。 - 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
電子ビームを照射する電子ビーム光学系と、イオンビームを照射するイオンビーム光学系とを備え、
電子ビーム光学系とイオンビーム光学系のクロスポイントを中心に、前記検出器が回転可能であることを特徴とする装置。 - 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、電子ビーム光学系の光軸上であって、試料を透過した電子ビームが通過する位置に移動できることを特徴とする装置。 - 請求項3記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている試料の試料面が電子ビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする装置。 - 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、イオンビーム光学系の光軸に対して、電子ビームの光軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする装置。 - 請求項5記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている試料の試料面がイオンビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする装置。 - 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、前記試料面の法線に対して、電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする装置。 - 請求項7記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている試料の試料面がイオン光学系の光軸と平行となるように回転できることを特徴とする装置。 - 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、前記試料面の法線に対して、イオンビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置に移動できることを特徴とする装置。 - 請求項9記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記試料ステージが、当該試料ステージに保持されている試料の試料面が電子ビーム光学系を向くように回転できることを特徴とする装置。 - 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、透過電子像及び2次粒子像を取得できることを特徴とする装置。 - 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、回転半径方向に伸縮できることを特徴とする装置。 - 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、試料ステージから離れる方向に退避できることを特徴とする装置。 - イオンビーム光学系と、電子ビーム光学系と、保持する試料の傾斜方向を変更可能な試料ステージと、当該試料からの信号を検出する検出器と、を備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記検出器が、
電子ビーム光学系の光軸上であって、試料を透過した電子ビームが通過する位置と、
イオンビーム光学系の光軸に対して、電子ビームの光軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
前記試料面の法線に対して、電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
前記試料面の法線に対して、電子ビーム光学系の主軸と該検出器の主軸が線対称となる位置と、
に移動できることを特徴とする装置。
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