JP2010059171A - フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに、該共重合体中のフルオロスルホニル基(−SO2F)は、アルカリ加水分解した後、酸で処理することによって、スルホン酸基(−SO3H)に変換されうる。
また本発明は該課題を解決するモノマーであり、合成の困難性からこれまで知られていなかった環状構造を有するフルオロスルホニル基含有化合物の提供を課題とする。
1.下記化合物(3)をフッ素化して下記化合物(4)とし、つぎに該化合物(4)の分解反応を行うことを特徴とする下記フルオロスルホニル基含有化合物(5)の製造方法。
ただし、式中の記号は以下の意味である。RA〜RE、X1〜X3、およびEから選ばれる1つ以上は水素原子を含有する基または水素原子であり、かつ、RAF〜REF、X1F〜X3F、およびEFから選ばれる1つ以上はフッ素化されて形成した基または原子である。
RA:2価有機基。
RAF:RAに対応する基であり、RAがフッ素化された2価有機基またはRAと同一の2価有機基。
RB、RC、RD:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または1価有機基。
RBF、RCF、RDF:RBFはRBに、RCFはRCに、RDFはRDにそれぞれ対応する基であり、RB〜RDのいずれかが水素原子である場合のその水素原子に対応するRBF〜RDFは水素原子またはフッ素原子、RB〜RDのいずれかがハロゲン原子である場合のそのハロゲン原子に対応するRBF〜RDFはハロゲン原子、RB〜RDのいずれかが1価有機基である場合のその一価有機基に対応するRBF〜RDFは、対応するRB〜RDがフッ素化された1価有機基または対応するRB〜RDと同一の基。
RE:1価有機基。
REF:REに対応する基であり、REがフッ素化された1価有機基またはREと同一の1価有機基。
E:2価連結基。
EF:Eに対応する基であり、Eと同一の2価連結基またはEがフッ素化された2価連結基。
EF1:EFが切断されて形成した基。
X1、X2、X3:それぞれ独立に、水素原子、塩素原子、またはフッ素原子。
X1F、X2F、X3F:X1FはX1に、X2FはX2に、X3FはX3に対応する基であり、X1〜X3のいずれかが水素原子である場合のその水素原子に対応するX1F〜X3Fは水素原子またはフッ素原子、X1〜X3のいずれかがフッ素原子である場合のそのフッ素原子に対応するX1F〜X3Fはフッ素原子、X1〜X3のいずれかが塩素原子である場合のその塩素原子に対応するX1〜X3は塩素原子。
3.化合物(3)のフッ素含量が20〜86質量%である前記2に記載の製造方法。
4.化合物(3)の分子量が200〜1000である前記2または3に記載の製造方法。
5.REがペルフルオロ化された1価有機基であり、REFがREと同一の基である前記1〜4のいずれかに記載の製造方法。
6.フッ素化が、化合物(3)を実質的にペルフルオロ化する反応である前記1〜5のいずれかに記載の製造方法。
7.化合物(3)が下記化合物(3−1)であり、化合物(4)が下記化合物(4−1)であり、化合物(5)が下記化合物(5−1)である前記1〜6のいずれかに記載の製造方法。ただし、式中の記号は上記と同じ意味を示す。
10.下記化合物(5−1)を熱分解することを特徴とする下記化合物(7−1)の製造方法。ただし、下式中の記号は上記と同じ意味を示す。
12.下記化合物(7−1)の1種以上が重合したモノマー単位、または該化合物(7−1)の1種以上が重合したモノマー単位と該化合物(7−1)と共重合しうる重合性単量体の1種以上が重合したモノマー単位、を含むフルオロスルホニル基含有重合体。
13.分子量が5×103〜5×106であり、化合物(7−1)と共重合しうる重合性単量体の1種以上が重合したモノマー単位を含む場合には、該モノマー単位を0.1〜99.9モル%で含む前記12に記載のフルオロスルホニル基含有重合体。
14.前記11の方法で製造されたフルオロスルホニル基含有重合体のフルオロスルホニル基をアルカリ加水分解する、または、該アルカリ加水分解した後に酸処理する、ことを特徴とするスルホン酸塩基またはスルホン酸基含有重合体の製造方法。
15.下式で表されるモノマー単位、または該モノマー単位と該モノマー単位と共重合しうる他のモノマー単位、を含むフルオロスルホン酸含有重合体。ただし、Mは水素原子または対イオンを示す。
17.下式(7−1A)で表される化合物。ただし、RAF10は、炭素数1〜20のペルフルオロアルキレン基、または炭素数1〜20のペルフルオロ(エーテル性酸素原子含有アルキレン)基を示す。
有機基とは炭素原子を1以上含む基をいう。本明細書における有機基としては、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、またはハロゲン化(ヘテロ原子含有炭化水素)基が挙げられる。炭化水素基とは炭素原子と水素原子とからなる有機基をいう。特に記載のない限り有機基の炭素数は1〜20が好ましく、1〜10がより好ましい。また、ハロゲン化炭化水素基は、炭素原子に結合した水素原子の1個以上がハロゲン原子によって置換された炭化水素基をいう。ヘテロ原子含有炭化水素基は、ヘテロ原子(酸素原子、窒素原子、硫黄原子等)および/またはヘテロ原子団(−C−C(=O)−C−、−C−SO2−C−等)を含む炭化水素基をいう。また、ハロゲン化(ヘテロ原子含有炭化水素)基は、上記ヘテロ原子含有炭化水素基における炭素原子に結合した水素原子の1個以上が、ハロゲン原子によって置換された基をいう。
[方法A]下記化合物(A1)と下記化合物(A2)を反応させて化合物(3)を得る方法。
下記化合物(B1−1)と下記化合物(B2)と反応させて化合物(3)を得る方法。ただし、式中の記号は上記と同じ意味を示す。
CH3CO−CH2OH・・・(B2−a)、
X4CORE・・・(B2−b)。
下記化合物(C1−2)と下記化合物(B2)を反応させて化合物(3)を得る方法。ただし、式中の記号は上記と同じ意味を示す。
CF3CF2−、
CF3(CF2)2OCF(CF3)−、
CF3(CF2)2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)−、
(CF3)2CF−、
CF3CF2CF(CF3)−、
反応器に化合物(3)と溶媒とを仕込み撹拌を開始して、所定の反応温度と反応圧力に制御した後、フッ素ガスまたはフッ素ガスと溶媒とを連続的に供給しながら反応させる方法。
反応器に溶媒を仕込み撹拌を開始して、所定の反応温度と反応圧力に制御した後、フッ素ガスと、化合物(3)とを所定のモル比で連続的かつ同時に供給する方法。
REF−EF2・・・(6)
エステル結合の分解反応生成物からは、化合物(5)のみを得ても、化合物(5)と化合物(6)の両方を得てもよい。
REF−COF・・・(6−1)
該化合物(6−1)は、方法Aにおいて、化合物(A1−1)と反応させる化合物(A2−1)として用いることにより、化合物(5−1)の連続製造が実施できる。
CF2=CF−(OCF2CFZ)t−O−Rf(7B)
ただし、tは0〜3の整数であり、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基であり、Rfは炭素数1〜12のペルフルオロアルキル基である。また、Rfは直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。
CF2=CFO(CF2)vCF3・・・(7B−1)、
CF2=CFOCF2CF(CF3)O(CF2)wCF3・・・(7B−2)、
CF2=CF(OCF2CF(CF3))xO(CF2)2CF3・・・(7B−3)。
これらの基の変換方法は、公知の方法および条件にしたがって実施できる。
すなわち、下記化合物(3−10)をフッ素化して下記化合物(4−10)とし、つぎに該化合物(4−10)のエステル結合を分解させることを特徴とする下記化合物(5−10)の製造方法である。該化合物(5−10)を熱分解することによる、または該化合物(5−10)を下記化合物(6−10)(ただし、M2はアルカリ金属原子イオンを示す。)に導いた後に熱分解することによる、下記化合物(7−10)の製造の製造方法である。さらに該化合物(7−10)の1種以上を重合させたモノマー単位、または該化合物(7−10)の1種以上を重合させたモノマー単位と、該化合物と共重合しうるコモノマーの1種以上を重合させたモノマー単位を含む重合体およびその製造方法である。さらに該重合体中のフルオロスルホニル基をアルカリ加水分解する、または、該アルカリ加水分解した後に酸処理する、ことによりスルホン酸塩基またはスルホン酸基含有重合体を製造する方法である。これらの製造方法における下記化合物は新規化合物である。
なお、以下において1,1,2−トリクロロトリフルオロエタンをR−113と記し、CClF2CF2CHClFをHCFC225cbと記し、ガスクロマトグラフィーをGCと、サイズ排除クロマトグラフィーをGPCと、数平均分子量をMnと、重量平均分子量をMWと記す。
CH3C(O)CH2OCOCF2CF3(B2−10)
CH3COCH2OH(150.0g)とトリエチルアミン(225.4g)をフラスコに入れ、氷浴下で撹拌した。窒素ガスで希釈したCF3CF2COF(377.5g)を、内温を10℃以下に保ちながら4時間かけて吹き込んだ。つぎに、室温で2時間撹拌して、氷水500mLに加えた。
得られた粗液を分液し、フルオロカーボン層を得た。さらにフルオロカーボン層を水(250mL)で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。さらに、ろ過して粗液を得た。ろ液を減圧蒸留して化合物(B2−10)(167.3g)を47.1〜47.9℃/0.7kPa(絶対圧)の留分として得た。留分のGCによる純度は、99%であった。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:CHCl3)δ(ppm):2.22(s,3H),4.92(s,2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−82.9(3F),−121.4(2F)。
200mLフラスコに例1で得た化合物(B1−10)(40.0g)、例2で得た化合物(B2−10)(32.1g)、オルトギ酸エチル(21.6g)およびNafion SAC−13(2.0g)を仕込み、内温80℃で4時間撹拌した。その後、反応器内を減圧にして低沸成分を除去し、粗液を得た。粗液を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:HCFC225cb)で精製して化合物(3−10)(64.3g)を得た。GC純度は93%であった。
乾燥雰囲気下で三フッ化ホウ素エーテラート(32.01g)と脱水アセトン(4.5L)を混合し、例1で得た化合物(C1−10)(1198.1g)を脱水アセトン(1.2L)で希釈して上記混合物に滴下し、1時間加熱還流し、化合物(C1−20)とした。アセトンを約半分留去した後、例2で得た化合物(B2−10)(1031.41g)をトルエン(2L)で希釈して反応系に加え、65℃以下で加熱しながら減圧下で残りのアセトンを留去した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と氷の混合物に注ぎ、t−ブチルメチルエーテル(2.9L)で3回に分けて抽出し、抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤を減圧濾過で除去し、濾液を濃縮した。残存物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:HCFC225cb/n−ヘキサン1:1の後、HCFC225cbのみ)で精製して化合物(3−10)(1478.95g)を得た。GC純度は99%であった。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:CHCl3)δ(ppm):1.42,1.45(s,3H),3.82〜3.93(m,1H),4.11〜4.25(m,4H),4.35〜4.46(m,2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):43.3(1F),−82.9(3F),−84.1(2F),−110.9(2F),−121.4(2F)。
窒素ガスを1.0時間吹き込んだ後、窒素ガスで20%に希釈したフッ素ガス(以下、希釈フッ素ガスと記す。)を、流速12.72L/hで1時間吹き込んだ。つぎに、フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、例3で得た化合物(3−10)(20.0g)をR−113(200g)に溶解した溶液を7.6時間かけて注入した。
つぎに、希釈フッ素ガスを同じ流速で吹き込み、かつ、反応器圧力を0.15MPaに保ちながら、ベンゼン濃度が0.01g/mLのR−113溶液を25℃から40℃にまで昇温しながら23mL注入した。さらに、オートクレーブのベンゼン注入口を閉め、反応器圧力を0.15MPaに、反応器内温度を40℃に保ち、1.0時間撹拌を続けた。ベンゼンの注入総量は0.22g、R−113の注入総量は23mLであった。さらに、窒素ガスを1.0時間吹き込んだ。生成物を19F−NMRで分析した結果、標記化合物の生成が認められ、収率は98%であった。
19F−NMR(376.0MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):45.3(1F),−77.4(1F),−80.1(3F),−80.7〜−81.4(1F),−82.1(1F),−82.5(2F),−83.3(3F),−82.7〜−83.6(1F),−85.5〜−87.1(2F),−112.8(2F),−121.9(1F),−122.2(2F)。
例4で得た化合物(4−10)(10.6g)を、充分に乾燥させたKF粉末(0.18g)と共にフラスコに仕込み、室温で24時間撹拌した。冷却後、フラスコより回収したサンプル(8.8g)をろ過し、液状サンプルを回収した。NMR、およびGC−MSにより、主生成物が標記化合物であることを確認した。収率は77.8%であった。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):45.5(1F),24.4(1F),−77.9〜−79.1(1F),−81.7(3F),−81.9〜−82.4(3F),−82.8〜−83.9(2F),−112.7(2F),−123.5〜−124.7(1F)。
例5−1と同様の方法で、化合物(4−10)(706g)から化合物(5−10)を主成分とする反応液(531g)を得た。該反応液を減圧蒸留することにより純度99%の化合物(5−10)(481g)を得た。留出温度は71−73℃/5.3kPaであった。
100mLの3つ口フラスコに炭酸水素カリウム(3.21g、0.032モル)、1,2−ジメトキシエタン(24.4g)を仕込んだ。つぎに内温が5〜10℃になるまで冷却し、充分に撹拌しながら化合物(5−10)(15.4g、0.0314モル)を滴下した。滴下している間、フラスコ内温が5〜20℃に保つようにした。さらに室温で撹拌した。その後、1,2−ジメトキシエタンを減圧で留去して、生成した固体を粉砕し、減圧乾燥機を用いて80〜100℃で2日間乾燥することにより化合物(7−2)(13.9g、0.0264モル)を得た。
次に100mLの3つ口フラスコに化合物(7−2)(12.9g、0.0245モル)を仕込み、真空下、内温が190〜200℃になるまで加熱、熱分解反応を行った。生成物は真空ポンプ側のドライアイストラップにより回収した。さらに粗生成物を蒸留して、化合物(7−10)(1.47g)を得た。
精密質量(EI)423.9263(M+H)[理論値:C7O5F12S=423.9275]。
19F−NMR(564.55MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):45.3(1F),−82.0〜−83.7(5F),−87.7(1F),−112.8(2F),−125.2(1F),−126.5(1F),−128.4(1F)。
次に反応液にメタノールを加え、未反応の化合物(5−10)をメチルエステル化した。水洗後、蒸留により精製された化合物(5−10)を得た。沸点は48℃/2.7kPaであった。
例6−1で得た化合物(7−10)(1.25g)とペルフルオロ過酸化ベンゾイル(4.5mg)をガラス管に入れ、液体窒素で固めたのち真空下で封管した。70℃で45時間保持したのち、生成したポリマーを取り出し、n−C6F13Hに溶解してヘキサンで再沈殿させ、洗浄し、80℃で16時間減圧乾燥した。19FNMR(282.65MHz,溶媒:ペルフルオロベンゼンに重ベンゼンを添加、基準:CFCl3)のデータを図1に示す。46.0ppmに−SO2Fに由来する1F分のフッ素原子のシグナルが確認された。化合物(7−10)の単独重合体の収量は0.823g(収率66%)であった。GPCによるMnは6.5×104、MWは9.8×104であった。DSCで測定したガラス転移温度は92℃であった。
さらに、再沈殿および洗浄して、低沸点成分を減圧下で留去した。さらに80℃で16時間減圧乾燥した結果、標記重合体からなる粉状ポリマー(0.072g)を回収した。先に得たポリマーとあわせた収率は71%であった。
容積0.1Lのステンレス製オートクレーブに、化合物(7−10)(7.9g)、ペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)(9.6g)、HCFC225cb(109.7g)、パーフルオロ過酸化ベンゾイル(255mg)を入れ、液体窒素で冷却して脱気した。70℃で5時間反応したのち、ヘキサンに投入することでポリマーを沈殿させた。ヘキサンで洗浄した後、100℃で真空乾燥することにより、白色のポリマー14.0gを得た。元素分析で求めた硫黄の含有量から得られたポリマーの組成は、化合物(7−10)/ペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)=34.6/65.4(モル比)であった。パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)を溶媒に用いて測定した30℃における固有粘度は0.16dl/gであった。
得られた共重合体(10g)にメタノール(40g)、10%KOH水溶液(160g)を添加し、1週間60℃に保持することにより共重合体中のフルオロスルホニル基をスルホン酸のカリウム塩に変換した。ろ過後、イオン交換水に浸漬し、60℃で一晩保持した。このろ過・水浸漬の操作を3回行った。ろ過後、1mol/Lの塩酸に60℃で一晩浸漬した。このろ過・塩酸浸漬の操作を4回行った。次いで、前記と同様のろ過・水浸漬の操作を3回行った。ろ液が中性であることを確認し、共重合体を空気下80℃のオーブン中で一晩乾燥した後、さらに80℃で一晩真空乾燥し、スルホン酸基含有共重合体を得た。
容積0.1Lのステンレス製オートクレーブに、化合物(7−10)(8.48g)、17mgのメタノールを含有するHCFC225cb(76.3g)、パーフルオロ過酸化ベンゾイル(170mg)を入れ、液体窒素で冷却して脱気した。テトラフルオロエチレン(11.3g)を導入した後、70℃で50分反応を行った。この間ゲージ圧力は0.97MPaから0.43MPaに低下した。冷却後、系内のガスをパージし、ヘキサンに投入することでポリマーを沈殿させた。ヘキサンで洗浄した後、100℃で真空乾燥することにより、白色のポリマー(14.1g)を得た。元素分析で求めた硫黄の含有量から得られたポリマーの組成は、化合物(7−10)/テトラフルオロエチレン=17.6/82.4(モル比)であった。
次に得られたポリマーの容量流速を測定した。本発明において容量流速とは、長さ1mm、内径1mmのノズルを用い、30kg/cm2の押出し圧力の条件で樹脂の溶融押出しを行った際の押出し量であって、単位はmm3/秒で表される。本実施例の共重合体の300℃における容量流速をフローテスタCFT−500A(島津製作所製)を用いて測定したところ34mm3/秒であった。
本実施例の共重合体を300℃で加圧プレスし、厚さ約100μmのフィルムを作成した。このフィルムをDMSO30%、KOH11%、水59%からなる液に90℃で16時間浸漬してフルオロスルホニル基をスルホン酸カリウム塩に変換した。水洗後、1mol/L硫酸に浸漬し、水洗することにより、スルホン酸基含有共重合体からなるフィルムに変換した。
CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2F(1.25g)とペルフルオロ過酸化ベンゾイル(4.5mg)をガラス管に入れて、液体窒素で固めた後、真空下で封管した。70℃で45時間反応させた後も、無色透明の液体のままであった。反応液を丸底フラスコに移し、HCFC225cbでガラス管壁を洗浄して、洗液を前記丸底フラスコに添加した。減圧下で低沸点成分を留去して、80℃で16時間減圧乾燥した。水飴状のオリゴマー(0.328g)を得た。ポリマー収率は26%。GPCによるMnは3.7×103、MWは4.7×103であった。
Claims (10)
- 下記化合物(3)をフッ素化して下記化合物(4)とし、つぎに該化合物(4)の分解反応を行うことを特徴とする下記フルオロスルホニル基含有化合物(5)の製造方法。
ただし、式中の記号は以下の意味である。
RA:炭素数1〜10の2価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基。
RAF:RAに対応する基であり、RAがフッ素化された炭素数1〜10の2価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基またはRAと同一の基。
RB、RC、RD:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜10の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基。
RBF、RCF、RDF:RBFはRBに、RCFはRCに、RDFはRDにそれぞれ対応する基であり、RB〜RDのいずれかが水素原子である場合のその水素原子に対応するRBF〜RDFは水素原子またはフッ素原子、RB〜RDのいずれかがハロゲン原子である場合のそのハロゲン原子に対応するRBF〜RDFはハロゲン原子、RB〜RDのいずれかが炭素数1〜10の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基である場合のその炭素数1〜10の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基に対応するRBF〜RDFは、対応するRB〜RDがフッ素化された炭素数1〜10の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基または対応するRB〜RDと同一の基。
RE:炭素数1〜20の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基。
REF:REに対応する基であり、REがフッ素化された炭素数1〜20の1価の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、フルオロ炭化水素基またはフルオロ(ヘテロ原子含有)炭化水素基またはREと同一の基。
E:−COOCHR1−(ただし、該基の向きは限定されず、R1は水素原子または1価炭化水素基を示す)。
EF:Eに対応する基であり、−COOCFR1F−(ただし、該基の向きは限定されず、R1Fはフッ素原子またはぺルフルオロ化された1価炭化水素基を示す)。
EF1:−COF。
X1、X2、X3:それぞれ独立に、水素原子、塩素原子、またはフッ素原子。
X1F、X2F、X3F:X1FはX1に、X2FはX2に、X3FはX3に対応する基であり、X1〜X3のいずれかが水素原子である場合のその水素原子に対応するX1F〜X3Fは水素原子またはフッ素原子、X1〜X3のいずれかがフッ素原子である場合のそのフッ素原子に対応するX1F〜X3Fはフッ素原子、X1〜X3のいずれかが塩素原子である場合のその塩素原子に対応するX1〜X3は塩素原子。
- フッ素化反応を、液相中でフッ素と反応させることにより行う請求項1に記載の製造方法。
- 化合物(3)のフッ素含量が20〜86質量%であり、分子量が200〜1000である請求項2に記載の製造方法。
- フッ素化が、化合物(3)を実質的にペルフルオロ化する反応である請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- RAがフルオロアルキレン基またはフルオロ(エーテル性酸素原子含有アルキレン)基であり、RAFがペルフルオロアルキレン基またはペルフルオロ(エーテル性酸素原子含有アルキレン)基であり、RB、RC、RDが水素原子またはアルキル基であり、RBF、RCF、RDFがフッ素原子またはペルフルオロアルキル基であり、REとREFが同一の基であり、かつ、ペルフルオロアルキル基、またはペルフルオロ(エーテル性酸素原子含有アルキル)基であり、X1〜X3が水素原子であり、X1F〜X3Fがフッ素原子である請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項9の方法で製造されたフルオロスルホニル基含有重合体のフルオロスルホニル基をアルカリ加水分解する、または、該アルカリ加水分解した後に酸処理する、ことを特徴とするスルホン酸塩基またはスルホン酸基含有重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009250366A JP5040982B2 (ja) | 2001-10-30 | 2009-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001332813 | 2001-10-30 | ||
JP2001332813 | 2001-10-30 | ||
JP2009250366A JP5040982B2 (ja) | 2001-10-30 | 2009-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003540166A Division JP4492121B2 (ja) | 2001-10-30 | 2002-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010059171A true JP2010059171A (ja) | 2010-03-18 |
JP5040982B2 JP5040982B2 (ja) | 2012-10-03 |
Family
ID=19148179
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003540166A Expired - Lifetime JP4492121B2 (ja) | 2001-10-30 | 2002-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
JP2009250366A Expired - Lifetime JP5040982B2 (ja) | 2001-10-30 | 2009-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003540166A Expired - Lifetime JP4492121B2 (ja) | 2001-10-30 | 2002-10-30 | フルオロスルホニル基含有化合物および該化合物から誘導される化合物の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7271229B2 (ja) |
EP (1) | EP1440971B1 (ja) |
JP (2) | JP4492121B2 (ja) |
AT (1) | ATE383352T1 (ja) |
CA (1) | CA2464643C (ja) |
DE (1) | DE60224554T2 (ja) |
WO (1) | WO2003037885A1 (ja) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1126537B1 (en) * | 2000-02-15 | 2010-12-15 | Asahi Glass Company Ltd. | Block polymer, process for producing a polymer, and polymer electrolyte fuel cell |
RU2278854C2 (ru) | 2000-11-28 | 2006-06-27 | Асахи Гласс Компани Лтд. | Способ получения содержащего атом фтора сульфонилфторидного соединения |
ATE383352T1 (de) | 2001-10-30 | 2008-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | Fluorsulfonylverbindungen und verfahren zur herstellung von davon abgeleiteten verbindungen |
CN100389518C (zh) * | 2003-01-20 | 2008-05-21 | 旭硝子株式会社 | 固体高分子型燃料电池用电解质材料的制造方法及固体高分子型燃料电池用膜电极接合体 |
JP4774988B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2011-09-21 | 旭硝子株式会社 | 固体高分子電解質材料、製造方法及び固体高分子型燃料電池用膜電極接合体 |
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JP4776536B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2011-09-21 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の製造方法 |
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JP4894154B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2012-03-14 | 旭硝子株式会社 | フルオロスルホニル基を含有する化合物の重合体 |
KR20060131922A (ko) * | 2004-04-02 | 2006-12-20 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 고체 고분자형 연료 전지용 전해질 재료, 전해질막 및막전극 접합체 |
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JP4940608B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2012-05-30 | 旭硝子株式会社 | 新規な含フッ素エポキシ化合物およびその製造方法 |
WO2006046620A1 (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Asahi Glass Company, Limited | 電解質材料、電解質膜、及び固体高分子形燃料電池用膜電極接合体 |
JP4776303B2 (ja) * | 2004-11-22 | 2011-09-21 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 含フッ素化合物の製造方法、含フッ素化合物、含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料若しくは電気材料 |
JP2006282619A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Asahi Glass Co Ltd | 新規な、ペルフルオロ(2,2−ジビニル−1,3−ジオキソラン)構造を有する化合物および含フッ素重合体 |
JP2006290779A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Asahi Glass Co Ltd | 新規な、含フッ素化合物および含フッ素重合体 |
JP4973135B2 (ja) * | 2005-11-10 | 2012-07-11 | 旭硝子株式会社 | 新規な含フッ素化合物の製造方法および新規化合物 |
US8415070B2 (en) * | 2006-12-21 | 2013-04-09 | E I Du Pont De Nemours And Company | Partially fluorinated cyclic ionic polymers and membranes |
US7790817B2 (en) | 2006-12-29 | 2010-09-07 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing fluoropolymer |
JP4867843B2 (ja) | 2007-08-09 | 2012-02-01 | 旭硝子株式会社 | フルオロスルホニル基含有モノマーおよびそのポリマー、ならびにスルホン酸基含有ポリマー |
JP2010095470A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Asahi Glass Co Ltd | フルオロスルホニル基を有する含フッ素化合物の製造方法 |
EP2436705B1 (en) | 2009-05-29 | 2018-01-24 | Asahi Glass Company, Limited | Electrolyte material, liquid composite, and membrane electrode assembly for solid polymer fuel cells |
US20110027687A1 (en) | 2009-07-31 | 2011-02-03 | Asahi Glass Company, Limited | Electrolyte material, liquid composition and membrane/electrode assembly for polymer electrolyte fuel cell |
JP5807493B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-11-10 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素化合物の製造方法 |
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JPWO2022075462A1 (ja) | 2020-10-09 | 2022-04-14 |
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JP4701491B2 (ja) * | 2000-11-20 | 2011-06-15 | 旭硝子株式会社 | ガスクロマトグラフ法を用いるフッ素化されたエステル化合物の製造方法 |
JP4032738B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2008-01-16 | 旭硝子株式会社 | 固体高分子電解質材料、液状組成物、固体高分子型燃料電池、含フッ素ポリマー及び含フッ素ポリマーからなる固体高分子電解質膜 |
ATE383352T1 (de) | 2001-10-30 | 2008-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | Fluorsulfonylverbindungen und verfahren zur herstellung von davon abgeleiteten verbindungen |
-
2002
- 2002-10-30 AT AT02778016T patent/ATE383352T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-10-30 CA CA2464643A patent/CA2464643C/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-30 EP EP02778016A patent/EP1440971B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-30 DE DE60224554T patent/DE60224554T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-30 JP JP2003540166A patent/JP4492121B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-30 WO PCT/JP2002/011310 patent/WO2003037885A1/ja active IP Right Grant
-
2004
- 2004-04-23 US US10/830,140 patent/US7271229B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-07-27 US US11/829,579 patent/US7709665B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-10-30 JP JP2009250366A patent/JP5040982B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05213929A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-24 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素化合物及びその製造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4492121B2 (ja) | 2010-06-30 |
EP1440971B1 (en) | 2008-01-09 |
US7709665B2 (en) | 2010-05-04 |
US20080287694A1 (en) | 2008-11-20 |
JP5040982B2 (ja) | 2012-10-03 |
WO2003037885A1 (fr) | 2003-05-08 |
CA2464643A1 (en) | 2003-05-08 |
CA2464643C (en) | 2011-06-07 |
JPWO2003037885A1 (ja) | 2005-02-17 |
ATE383352T1 (de) | 2008-01-15 |
DE60224554T2 (de) | 2009-01-08 |
EP1440971A4 (en) | 2005-01-26 |
US7271229B2 (en) | 2007-09-18 |
DE60224554D1 (de) | 2008-02-21 |
US20040230018A1 (en) | 2004-11-18 |
EP1440971A1 (en) | 2004-07-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120612 |
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|
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |