JP7326358B2 - ディスプレイ保護膜 - Google Patents
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Description
項1.
フッ素ポリマーを含有するディスプレイ保護膜であって、
前記フッ素ポリマーが、式(1):
で表される単量体単位を主成分として含む、
ディスプレイ保護膜。
項2.
前記フッ素ポリマーがフルオロオレフィン単位をさらに含む、項1に記載のディスプレイ保護膜。
項3.
前記フルオロオレフィン単位が含フッ素パーハロオレフィン単位、フッ化ビニリデン単位、トリフルオロエチレン単位、ペンタフルオロプロピレン単位、及び1,1,1,2-テトラフルオロ-2-プロピレン単位からなる群から選択される少なくとも1種である項2に記載のディスプレイ保護膜。
項4.
前記含フッ素パーハロオレフィン単位が、クロロトリフルオロエチレン単位、テトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)単位、及びパーフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)単位からなる群から選択される少なくとも1種である項3に記載のディスプレイ保護膜。
項5.
前記フルオロオレフィン単位が、クロロトリフルオロエチレン単位、テトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)単位、及びパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)単位からなる群から選択される少なくとも1種である項2に記載のディスプレイ保護膜。
項6.
平均膜厚が10nm以上である項1~5のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項7.
押込み硬さが250N/mm2以上且つ1000N/mm2以下である項1~6のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項8.
押込み弾性率が2.5GPa以上且つ10GPa以下である項1~7のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項9.
全光線透過率が90%以上である項1~8のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項10.
屈折率が1.29以上且つ1.37以下である項1~9のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項11.
アッベ数が80以上且つ100以下である項1~10のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項12.
24℃における吸水率が0.1%以下である項1~11のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項13.
前記フッ素ポリマーのガラス転移温度が110℃以上である項1~12のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
項14.
項1~13のいずれかに記載のディスプレイ保護膜を含むディスプレイ。
項15.
項1~13のいずれかに記載のディスプレイ保護膜形成用のコーティング剤であって、フッ素ポリマー及び非プロトン性溶媒を含有し、
前記フッ素ポリマーが、式(1):
で表される単量体単位を主成分として含む、
コーティング剤。
項16.
前記フッ素ポリマーの含有量が、コーティング剤全質量に対して、20質量%以上且つ65質量%以下である項15に記載のコーティング剤。
項17.
前記非プロトン性溶媒が、パーフルオロ芳香族化合物、パーフルオロトリアルキルアミン、パーフルオロアルカン、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロ環状エーテル、ハイドロフルオロエーテル、及び少なくとも一つの塩素原子を含むオレフィン化合物からなる群から選択される少なくとも1種の溶媒である項15又は16に記載のコーティング剤。
項18.
前記非プロトン性溶媒が、ハイドロフルオロエーテルの少なくとも1種である項15~17のいずれかに記載のコーティング剤。
本開示の後記説明は、実例の実施形態をより具体的に例示する。
本開示のいくつかの箇所では、例示を通してガイダンスが提供され、及びこの例示は、様々な組み合わせにおいて使用できる。
それぞれの場合において、例示の群は、非排他的な、及び代表的な群として機能できる。
本明細書で引用した全ての刊行物、特許及び特許出願はそのまま引用により本明細書に組み入れられる。
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
本明細書中、語句「含有する」は、語句「から本質的になる」、及び語句「からなる」を包含することを意図して用いられる。
本明細書中に記載されている工程、処理、又は操作は、特に断りのない限り、室温で実施され得る。本明細書中、室温は、10℃以上且つ40℃以下の範囲内の温度を意味することができる。
本明細書中、表記「Cn-Cm」(ここで、n、及びmは、それぞれ、数である。)は、当業者が通常理解する通り、炭素数がn以上且つm以下であることを表す。
平均膜厚
平均膜厚は、マイクロメーターで厚みを5回測定した平均値である。基板等の基材上に形成された膜をはがせない場合等、膜そのものの厚みを測定することが困難なときは、膜形成前の基材の厚みと膜形成された基材の厚みをマイクロメーターで各5回測定し、膜形成後の厚みの平均値からを膜形成前の厚みの平均値を控除することにより平均膜厚を算出する。
マイクロメーターで測定できない場合は、測定対象膜の切断面のラインプロファイルを原子力間顕微鏡(AFM)で測定することにより得られる膜厚を平均膜厚とする。
具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
質量平均分子量
質量平均分子量は、次のGPC分析方法で測定する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
GPC分析方法
<サンプル調製法>
ポリマーをパーフルオロベンゼンに溶解させて2質量%ポリマー溶液を作製し、メンブレンフィルター(0.22μm)を通しサンプル溶液とする。
<測定法>
分子量の標準サンプル:ポリメチルメタクリレート
検出方法:RI(示差屈折計)
押込み硬さ及び押込み弾性率
ナノテック株式会社製超微小硬さ試験機ENT-2100を用いてサンプルのインデンテーション硬さ(HIT;押込み硬さ)を測定する。また、同時に押込み弾性率の測定を行う。押込み深さは厚みの1/10以下になるように調整して試験をおこなう。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
全光線透過率及びヘーズ測定方法
ヘーズメーターNDH 7000SPII(日本電色工業株式会社製)を使用し、JIS K7136(ヘーズ値)およびJIS K 7361-1(全光線透過率)に従い全光線透過率及びヘーズを測定する。平均膜厚100μmの膜を測定対象のサンプルとして使用する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
各波長における透過率
日立分光光度計U-4100を用いてサンプルの所定の波長における透過率を測定する。サンプルは平均膜厚100μmの膜とする。検出器としては積分球検知器を用いる。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
屈折率
サンプルをアタゴ社製 アッベ屈折率計(NAR-1T SOLID)を用いて23℃における屈折率を測定する。波長は装置付属のLEDを用いるためD線近似波長である。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
アッベ数
サンプルをアタゴ社製 アッベ屈折率計(NAR-1T SOLID)を用いて23℃におけるアッベ数を測定する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
反射率
日立分光光度計U-4100に絶対正反射装置をとりつけ、5°における550nmの反射率を測定する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
吸水率(24℃)
あらかじめ、十分乾燥させたサンプルの重量を測定してW0とし、W0の100質量倍以上の24℃の水中にサンプルを完全浸漬させ、24時間後の重量を測定してW24とし、次式から吸水率を求める。
吸水率(%)=100×(W24-W0)/W0
具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
吸水率(60℃)
あらかじめ、十分乾燥させたサンプルの重量を測定してW0とし、W0の100質量倍以上の60℃の水中にサンプルを完全浸漬させ、24時間後の重量を測定してW24とし、次式から吸水率を求める。
吸水率(%)=100×(W24-W0)/W0
具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
引張弾性率
アイティー計測制御社製の動的粘弾性装置DVA220でサンプル(長さ30mm、巾5mm、厚み0.1mm)を引張モード、つかみ巾20mm、測定温度25℃から150℃、昇温速度2℃/分、周波数1Hzの条件で測定し、25℃における弾性率の値を引張弾性率とする。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
引張強度
島津製作所社製のオートグラフAGS-100NXを用いて、サンプルの引張強度を測定する。サンプルはJIS K 7162記載の5Bダンベル形状に切り抜く。チャック間12mm、クロスヘッドスピード1mm/分、室温の条件で測定する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
熱分解温度
示差熱熱重量同時測定装置(日立ハイテクサイエンス社 STA7200)を用い、空気雰囲気の条件で昇温速度10℃/分の条件で、サンプルの質量減少率が0.1%および5%となった時点の温度を測定する。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
ガラス転移温度(Tg)
DSC(示差走査熱量計:日立ハイテクサイエンス社、DSC7000)を用いて、30℃以上且つ200℃以下の温度範囲を10℃/分の条件で昇温(ファーストラン)-降温-昇温(セカンドラン)させ、セカンドランにおける吸熱曲線の中間点をガラス転移温度(℃)とする。具体的には、本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
線膨張係数
熱機械分析装置(TMA8310;株式会社 リガク製)を用いてサンプルを2℃/分の条件で室温から150℃へ昇温(1stUP)、室温へ降温し、さらに150℃まで昇温(2ndUP)する。2ndUPにおける25℃以上且つ80℃以下における平均線膨張率を求め、線膨張係数とする。具体的には本開示の具体例にて記載された方法で決定される値である。
「フルオロアルキル基」の炭素数は、例えば、1~12、1~6、1~5、1~4、1~3、6、5、4、3、2、又は1であることができる。
「フルオロアルキル基」が有するフッ素原子の数は、1個以上(例:1~3個、1~5個、1~9個、1~11個、1個から置換可能な最大個数)であることができる。
「フルオロアルキル基」は、パーフルオロアルキル基を包含する。
「パーフルオロアルキル基」は、アルキル基中の全ての水素原子がフッ素原子で置換された基である。
パーフルオロアルキル基の例は、トリフルオロメチル基(CF3-)、ペンタフルオロエチル基(C2F5-)、ヘプタフルオロプロピル基(CF3CF2CF2-)、及びヘプタフルオロイソプロピル基((CF3)2CF-)を包含する。
「フルオロアルキル基」として、具体的には、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基(CF3-)、2,2,2-トリフルオロエチル基(CF3CH2-)、パーフルオロエチル基(C2F5-)、テトラフルオロプロピル基(例:HCF2CF2CH2-)、ヘキサフルオロプロピル基(例:(CF3)2CH-)、パーフルオロブチル基(例:CF3CF2CF2CF2-)、オクタフルオロペンチル基(例:HCF2CF2CF2CF2CH2-)、パーフルオロペンチル基(例:CF3CF2CF2CF2CF2-)及びパーフルオロヘキシル基(例:CF3CF2CF2CF2CF2CF2-)等が挙げられる。
「アルコキシ基」の例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、及びデシルオキシ等の、直鎖状又は分枝状の、C1-C10アルコキシ基を包含する。
「フルオロアルコキシ基」の炭素数は、例えば、1~12、1~6、1~5、1~4、1~3、6、5、4、3、2、又は1であることができる。
「フルオロアルコキシ基」が有するフッ素原子の数は、1個以上(例:1~3個、1~5個、1~9個、1~11個、1個から置換可能な最大個数)であることができる。
「フルオロアルコキシ基」は、パーフルオロアルコキシ基を包含する。
「パーフルオロアルコキシ基」は、アルコキシ基中の全ての水素原子がフッ素原子で置換された基である。
パーフルオロアルコキシ基の例は、トリフルオロメトキシ基(CF3O-)、ペンタフルオロエトキシ基(C2F5O-)、ヘプタフルオロプロピルオキシ基(CF3CF2CF2O-)、及びヘプタフルオロイソプロピルオキシ基((CF3)2CFO-)を包含する。
「フルオロアルコキシ基」として、具体的には、例えば、モノフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基(CF3CH2O-)、パーフルオロエトキシ基(C2F5O-)、テトラフルオロプロピルオキシ基(例:HCF2CF2CH2O-)、ヘキサフルオロプロピルオキシ基(例:(CF3)2CHO-)、パーフルオロブチルオキシ基(例:CF3CF2CF2CF2O-)、オクタフルオロペンチルオキシ基(例:HCF2CF2CF2CF2CH2O-)、パーフルオロペンチルオキシ基(例:CF3CF2CF2CF2CF2O-)及びパーフルオロヘキシルオキシ基(例:CF3CF2CF2CF2CF2CF2O-)等が挙げられる。
本開示の一実施態様は、所定のフッ素ポリマーを含有するディスプレイ保護膜である。
ディスプレイ保護膜は、前記フッ素ポリマーを含有することによって、硬度が高い。
ディスプレイ保護膜は、前記フッ素ポリマーを含有することによって、耐擦傷性が高い。
ディスプレイ保護膜は、前記フッ素ポリマーを含有することによって、反射率が低い。
ディスプレイ保護膜は、前記フッ素ポリマーを含有することによって、透明性が高い。
ディスプレイ保護膜は、前記フッ素ポリマーを含有することによって、吸水率が低い。
本明細書中、「単量体単位を主成分として含む」とは、ポリマー中の全ての単量体単位における特定の単量体単位の割合が50モル%以上であることを意味する。
フッ素ポリマーを構成する単量体単位は、単位(1)の1種単独又は2種以上を含んでよい。
フッ素ポリマーの全ての単量体単位における単位(1)の割合は、例えば70モル%以上とでき、80モル%以上が好ましく、90モル%以上がより好ましく、100モル%が特に好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C5フルオロアルキル基としては直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルキル基が好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルキル基としては直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルキル基が好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルキル基としては直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルキル基が好ましい。
C1-C2フルオロアルキル基としてはC1-C2パーフルオロアルキル基が好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C5フルオロアルコキシ基としては直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルコキシ基が好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルコキシ基としては直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルコキシ基が好ましい。
直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルコキシ基としては直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルコキシ基が好ましい。
C1-C2フルオロアルコキシ基としてはC1-C2パーフルオロアルコキシ基が好ましい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、C1-C2フルオロアルキル基、又はC1-C2フルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、C1-C2パーフルオロアルキル基、又はC1-C2パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4はそれぞれ独立して、フッ素原子、トリフルオロメチル、ペンタフルロエチル、又はトリフルオロメトキシであってよい。
R1~R4は、少なくとも2つの基がフッ素原子であり、残りの基は、当該残りの基が複数あるときは独立して、C1-C2パーフルオロアルキル基又はC1-C2パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4は、少なくとも3つの基がフッ素原子であり、残りの基は、C1-C2パーフルオロアルキル基又はC1-C2パーフルオロアルコキシ基であってよい。
R1~R4は、少なくとも3つの基がフッ素原子であり、残りの基は、C1-C2パーフルオロアルキル基であってよい。
R1~R4は、全てフッ素原子であってよい。
フッ素ポリマーを構成する単量体単位は、単位(1-1)の1種単独又は2種以上を含んでよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C5パーフルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C4フルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C4パーフルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C3フルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルキル基、あるいは直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、C1-C2フルオロアルキル基、又はC1-C2フルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、C1-C2パーフルオロアルキル基、又はC1-C2パーフルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、フッ素原子、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、又はトリフルオロメトキシであってよい。
単位(1-1)においてR1は、C1-C2パーフルオロアルキル基又はC1-C2パーフルオロアルコキシ基であってよい。
単位(1-1)においてR1は、C1-C2パーフルオロアルキル基であってよい。
フルオロオレフィン単位は1種で使用しても、2種以上併用してもよい。
フルオロオレフィン単位の割合は、全単量体単位の50モル%以下とでき、30モル%以下が好ましく、20モル%以下がより好ましく、10モル%以下がさらに好ましく、0%が特に好ましい。
フルオロオレフィン単位を構成する原子は、フッ素原子、フッ素原子以外のハロゲン原子、炭素原子、水素原子、及び酸素原子のみであってよい。
フルオロオレフィン単位を構成する原子は、フッ素原子、フッ素原子以外のハロゲン原子、炭素原子、及び水素原子のみであってよい。
フルオロオレフィン単位を構成する原子は、フッ素原子、炭素原子、及び水素原子のみであってよい。
フルオロオレフィン単位を構成する原子は、フッ素原子及び炭素原子のみであってよい。
含フッ素パーハロオレフィン単位は、クロロトリフルオロエチレン単位(-CFCl-CF2-)、テトラフルオロエチレン単位(-CF2-CF2-)、ヘキサフルオロプロピレン単位(-CF2-CF(CF3)-)、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)単位(-CF2-CF(OCF3)-)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)単位(-CF2-CF(OC2F5)-)、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)単位(-CF2-CF(OCF2C2F5)-)、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)単位(-CF2-CF(O(CF2)2C2F5)-)、及びパーフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)単位(-CF-CAF-(式中、Aは、式中に示された隣接炭素原子と共に形成されたパーフルオロジオキソラン環であってジオキソラン環の2位の炭素原子に2個のトリフルオロメチルが結合した構造を示す。))からなる群から選択される少なくとも1種を包含する。
このようなその他の単量体単位は、CH2=CHRf(RfはC1-C10フルオロアルキル基を表す)単位、アルキルビニルエーテル単位(例:シクロヘキシルビニルエーテル単位、エチルビニルエーテル単位、ブチルビニルエーテル単位、メチルビニルエーテル単位)、アルケニルビニルエーテル単位(例:ポリオキシエチレンアリルエーテル単位、エチルアリルエーテル単位)、反応性α,β-不飽和基を有する有機ケイ素化合物単位(例:ビニルトリメトキシシラン単位、ビニルトリエトキシシラン単位、ビニルトリス(メトキシエトキシ)シラン単位)、アクリル酸エステル単位(例:アクリル酸メチル単位、アクリル酸エチル単位)、メタアクリル酸エステル単位(例:メタアクリル酸メチル単位、メタクリル酸エチル単位)、ビニルエステル単位(例:酢酸ビニル単位、安息香酸ビニル単位、「ベオバ」(シェル社製のビニルエステル)単位)などを包含する。
で表される化合物(本明細書中、「単量体(M1)」と称することがある。)である。
で表される化合物(本明細書中、「単量体(M1-1)」と称することがある。)である。
フルオロオレフィンは、例えば、含フッ素パーハロオレフィン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、及び1,1,1,2-テトラフルオロ-2-プロピレンからなる群から選択される少なくとも1種であってよい。フルオロオレフィンは、好ましくは、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、及びパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)からなる群から選択される少なくとも1種であってよい。
前記含フッ素パーハロオレフィンは、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)、及びパーフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)からなる群から選択される少なくとも1種であってよい。
好ましい重合方法は、フッ素ポリマーを高濃度に溶解した液を製造できることにより歩留まりが高く、厚膜形成及び精製に有利な溶液重合である。このため、フッ素ポリマーとしては溶液重合により製造されたフッ素ポリマーが好ましい。非プロトン性溶媒の存在下で単量体を重合させる溶液重合により製造されたフッ素ポリマーがより好ましい。
置換基としてのパーフルオロアルキル基は、例えば直鎖状又は分岐状の、C1-C6、C1-C5、又はC1-C4パーフルオロアルキル基であり、直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルキル基が好ましい。
置換基の数は、例えば1~4個、好ましくは1~3個、より好ましくは1~2個である。置換基が複数あるときは同一又は異なっていてよい。
パーフルオロ芳香族化合物の例は、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロキシレン、パーフルオロナフタレンを包含する。
パーフルオロ芳香族化合物の好ましい例は、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエンを包含する。
パーフルオロトリアルキルアミンの例は、パーフルオロトリメチルアミン、パーフルオロトリエチルアミン、パーフルオロトリプロピルアミン、パーフルオロトリイソプロピルアミン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリsec-ブチルアミン、パーフルオロトリtert-ブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオロトリイソペンチルアミン、パーフルオロトリネオペンチルアミンを包含する。
パーフルオロトリアルキルアミンの好ましい例は、パーフルオロトリプロピルアミン、パーフルオロトリブチルアミンを包含する。
パーフルオロアルカンの例は、パーフルオロペンタン、パーフルオロ-2-メチルペンタン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ-2-メチルヘキサン、パーフルオロへプタン、パーフルオロオクタン、パーフルオロノナン、パーフルオロデカン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオロ(メチルシクロヘキサン)、パーフルオロ(ジメチルシクロヘキサン)(例:パーフルオロ(1,3-ジメチルシクロヘキサン))、パーフルオロデカリンを包含する。
パーフルオロアルカンの好ましい例は、パーフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロへプタン、パーフルオロオクタンを包含する。
ハイドロフルオロカーボンの好ましい例は、CF3CH2CF2H、CF3CH2CF2CH3を包含する。
置換基としてのパーフルオロアルキル基は、例えば直鎖状又は分岐状の、C1-C6、C1-C5、又はC1-C4パーフルオロアルキル基である。好ましいパーフルオロアルキル基は直鎖状又は分岐状のC1-C3パーフルオロアルキル基である。
置換基の数は、例えば1~4個、好ましくは1~3個、より好ましくは1~2個である。置換基が複数あるときは同一又は異なっていてよい。
パーフルオロ環状エーテルの例は、パーフルオロテトラヒドロフラン、パーフルオロ-5-メチルテトラヒドロフラン、パーフルオロ-5-エチルテトラヒドロフラン、パーフルオロ-5-プロピルテトラヒドロフラン、パーフルオロ-5-ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロテトラヒドロピランを包含する。
パーフルオロ環状エーテルの好ましい例は、パーフルオロ-5-エチルテトラヒドロフラン、パーフルオロ-5-ブチルテトラヒドロフランを包含する。
ハイドロフルオロエーテルの地球温暖化係数(GWP)は400以下が好ましく、300以下がより好ましい。
ハイドロフルオロエーテルの例は、CF3CF2CF2CF2OCH3、CF3CF2CF(CF3)OCH3、CF3CF(CF3)CF2OCH3、CF3CF2CF2CF2OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C2F5CF(OCH3)C3F7、(CF3)2CHOCH3、(CF3)2CFOCH3、CHF2CF2OCH2CF3、CHF2CF2CH2OCF2CHF2、CF3CHFCF2OCH3、CF3CHFCF2OCF3、トリフルオロメチル1,2,2,2-テトラフルオロエチルエーテル(HFE-227me)、ジフルオロメチル1,1,2,2,2-ペンタフルオロエチルエーテル(HFE-227mc)、トリフルオロメチル1,1,2,2-テトラフルオロエチルエーテル(HFE-227pc)、ジフルオロメチル2,2,2-トリフルオロエチルエーテル(HFE-245mf)、及び2,2-ジフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル(HFE-245pf)、1,1,2,3,3,3-ヘキサフルオロプロピルメチルエーテル(CF3CHFCF2OCH3)、1,1,2,2-テトラフルオロエチル2,2,2-トリフルオロエチルエーテル(CHF2CF2OCH2CF3)、及び1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メトキシプロパン((CF3)2CHOCH3)を含む。
ハイドロフルオロエーテルの好ましい例は、CF3CF2CF2CF2OCH3、CF3CF2CF2CF2OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C2F5CF(OCH3)C3F7を包含する。
ハイドロフルオロエーテルは、下記式(B1):
R21-O-R22 (B1)
[式中、R21は、直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロブチルであり、R22は、メチル又はエチルである。]
で表される化合物がより好ましい。
塩素原子の数は、1~置換可能な最大の数である。塩素原子の数は、例えば、1個、2個、3個、4個、5個等とできる。
少なくとも一つの塩素原子を含むオレフィン化合物は、少なくとも1つ(例えば、1個、2個、3個、4個、5個等)のフッ素原子を含んでもよい。
少なくとも一つの塩素原子を含むオレフィン化合物の例は、CH2=CHCl、CHCl=CHCl、CCl2=CHCl、CCl2=CCl2、CF3CH=CHCl、CHF2CF=CHCl、CFH2CF=CHCl、CF3CCl=CFCl、CF2HCl=CFCl、CFH2Cl=CFClを包含する。
少なくとも一つの塩素原子を含むオレフィン化合物の好ましい例はCHCl=CHCl、CHF2CF=CHCl、CF3CH=CHCl、CF3CCl=CFClを包含する。
重合開始剤のより好ましい例は、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ(ω-ハイドロ-ドデカフルオロヘプタノイル)パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、パーオキシピバル酸tert-ブチル、パーオキシピバル酸tert-ヘキシル、過硫酸アンモニウムを包含する。
ディスプレイ保護膜は、他の成分を本開示の効果が得られる限りにおいて適宜の量で含有できる。他の成分の含有量は、ディスプレイ保護膜の全質量に対して、例えば0質量%以上且つ50質量%以下、好ましくは0質量%以上且つ40質量%以下、より好ましくは0質量%以上且つ20質量%以下、特に好ましくは0質量%以上且つ10質量%以下とできる。
フッ素ポリマーは紫外光の透過率も高いため、ディスプレイ保護膜を紫外光用の光学材料としても利用できる。ディスプレイ保護膜の193nm以上且つ410nm以下の範囲における透過率は、例えば60%以上とでき、好ましくは70%以上である。
本開示の一実施態様は、前記ディスプレイ保護膜を含むディスプレイである。ディスプレイの種類は前記ディスプレイ保護膜が適用可能な限り、特に制限されない。ディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、プロジェクター等の映像表示を目的としたディスプレイだけでなく、文字、数字等の表示を目的として情報伝達用のディスプレイも包含する。
ディスプレイにおけるディスプレイ保護膜の詳細は前記のとおりである。
本開示の一実施態様は、所定のフッ素ポリマーを含有するディスプレイ保護膜形成用のコーティング剤である。
コーティング剤は、フッ素ポリマー及び非プロトン性溶媒を含有できる。
コーティング剤において、フッ素ポリマーの含有量は、コーティング剤全質量に対して、例えば5質量%以上且つ65質量%以下、10質量%以上且つ65質量%以下、20質量%以上且つ65質量%以下、30質量%以上且つ65質量%以下、30質量%超且つ65質量%以下、20質量%以上且つ40質量%以下などとできる。好ましくは20質量%超且つ65質量%以下、より好ましくは25質量%以上且つ60質量%以下、特に好ましくは30質量%以上且つ50質量%以下である。
コーティング剤において、重合開始剤の含有量は、コーティング剤全質量に対して、例えば0.00001質量%以上且つ10質量%以下であり、好ましくは0.00005質量%以上且つ10質量%以下であり、より好ましくは0.0001質量%以上且つ10質量%以下である。
コーティング剤は、上述の、フッ素ポリマーの溶液重合によって得られる重合反応液(当該液はフッ素ポリマー及び非プロトン性溶媒を少なくとも含む)に、必要に応じて非プロトン性溶媒及び/又は他の成分を混合することによって製造できる。溶液重合によって、重合反応液におけるフッ素ポリマー濃度又はフッ素ポリマー溶解量を高くできること、重合反応液からフッ素ポリマーを単離する工程を省略できることから、コーティング剤は溶液重合の重合反応液を含有することが好ましい。
例えば、本開示のコーティング剤をコーティング後、80℃の乾燥機内で乾燥させることで膜を形成できる。或いは、本開示のコーティング剤からフッ素ポリマー膜を形成後、この膜上に他のディスプレイ構成部材等を形成できる。
開始剤溶液(1):ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート(10時間半減期温度:40℃)を50質量%含有するメタノール溶液
フッ素ポリマー(1-11):単位(1-11)で構成されたポリマー
Mw:質量平均分子量
<サンプル調製法>
ポリマーをパーフルオロベンゼンに溶解させて2質量%ポリマー溶液を作製し、メンブレンフィルター(0.22μm)を通しサンプル溶液とした。
<測定法>
分子量の標準サンプル:ポリメチルメタクリレート
検出方法:RI(示差屈折計)
液中のポリマーの溶解有無の判断は以下のように行った。
調製した液を目視で確認し、未溶解のポリマーが確認されず、かつ室温中で液全体が均一に流動する場合を溶解していると判断した。
平均膜厚は、マイクロメーターで厚みを5回測定した平均値とした。基板等の基材上に形成された膜をはがせない場合等、膜そのものの厚みを測定することが困難なときは、膜形成前の基材の厚みと膜形成された基材の厚み(膜厚及び基材厚の和)とをマイクロメーターで各5回測定し、膜形成後の厚みの平均値から膜形成前の厚みの平均値を控除することにより平均膜厚を算出した。
ナノテック株式会社製超微小硬さ試験機ENT-2100を用いてサンプルのインデンテーション硬さ(HIT;押込み硬さ)を測定した。また、同時に押込み弾性率の測定をおこなった。押込み深さは厚みの1/10以下になるように調整して試験をおこなった。
ヘーズメーターNDH 7000SPII(日本電色工業株式会社製)を使用し、JIS K7136(ヘーズ値)およびJIS K 7361-1(全光線透過率)に従い、全光線透過率及びヘーズを測定した。平均膜厚100μmの膜を測定対象のサンプルとして使用した。サンプルは、ガラス板に乾燥後の厚みが100μmになるようにコーティング剤をコートし、80℃で4時間乾燥して形成された平均膜厚100μmの膜をガラス板からはがすことで作製した。
日立分光光度計U-4100を用いてサンプル(平均膜厚100μmの膜)の所定の波長における透過率を測定した。検出器としては積分球検知器を用いた。
サンプルをアタゴ社製 アッベ屈折率計(NAR-1T SOLID)を用いて23℃における屈折率を測定した。波長は装置付属のLEDを用いたのでD線近似波長であった。
サンプルをアタゴ社製 アッベ屈折率計(NAR-1T SOLID)を用いて23℃におけるアッベ数を測定した。
日立分光光度計U-4100に絶対正反射装置をとりつけ、5°における550nmの反射率を測定した。
あらかじめ、十分乾燥させたサンプルの重量を測定してW0とし、W0の100質量倍以上の24℃の水中にサンプルを完全浸漬させ、24時間後の重量を測定してW24とし、次式から吸水率を求めた。
吸水率(%)=100×(W24-W0)/W0
あらかじめ、十分乾燥させたサンプルの重量を測定してW0とし、W0の100質量倍以上の60℃の水中にサンプルを完全浸漬させ、24時間後の重量を測定してW24とし、次式から吸水率を求めた。
吸水率(%)=100×(W24-W0)/W0
アイティー計測制御社製の動的粘弾性装置DVA220でサンプル(長さ30mm、巾5mm、厚み0.1mm)を引張モード、つかみ巾20mm、測定温度25℃から150℃、昇温速度2℃/分、周波数1Hzの条件で測定し、25℃における弾性率の値を引張弾性率とした。
島津製作所社製のオートグラフAGS-100NXを用いて、フィルムの引張強度を測定した。サンプルはJIS K 7162記載の5Bダンベル形状に切り抜いた。チャック間12mm、クロスヘッドスピード1mm/分、室温の条件で測定した。
示差熱熱重量同時測定装置(日立ハイテクサイエンス社 STA7200)を用い、空気雰囲気の条件で昇温速度10℃/分の条件で、サンプルの質量減少率が0.1%および5%となった時点の温度を測定した。
DSC(示差走査熱量計:日立ハイテクサイエンス社、DSC7000)を用いて、30℃以上且つ200℃以下の温度範囲を10℃/分の条件で昇温(ファーストラン)-降温-昇温(セカンドラン)させ、セカンドランにおける吸熱曲線の中間点をガラス転移温度(℃)とした。
熱機械分析装置(TMA8310;株式会社 リガク製)を引張モード、チャック間15mmに設定し、幅5mm、長さ20mmに切り出したサンプルをチャックにはさんで、2℃/分の条件で室温から150℃へ昇温(1stUP)、室温へ降温し、さらに150℃まで昇温(2ndUP)した。2ndUPにおける25℃以上且つ80℃以下における平均線膨張率を求め、線膨張係数とした。
50mLのガラス製容器に、単量体(M1-11)の10gと、溶媒としてのエチルノナフルオロブチルエーテルの20g、開始剤溶液(1)の0.041gを仕込んだ後、内温が40℃になるように加熱しながら20時間重合反応を行い、フッ素ポリマー(1-11)9.0g(Mw:97533)を製造した。重合反応液中の当該フッ素ポリマーは溶解しており、濃度は31質量%であった。
組成物中のポリマーの重量は、重合反応終了後に未反応の原料や溶媒、開始剤残渣、モノマーに微量含まれる不純物を120℃の真空乾燥により留去して測定した。
市販のフッ素ポリマーであるテフロン(登録商標)AF1600の2.0g(Mw:229738)をメチルノナフルオロブチルエーテル8.0gに加えて室温で2日間攪拌して均一に溶解した溶解液を調製した。
なお、テフロン(登録商標)AF1600は下記式(10)で表される単量体単位と(20)で表される単量体単位を65:35(モル比)で含む。
調製例1で得られた重合反応液をそのままコーティング剤として使用し、次のようにしてディスプレイ保護膜を製造した。
ガラス基板上にコーティング剤を乾燥後の厚みが100μmになるようにコートし、80℃で4時間乾燥し、透明な膜が形成された。その後、膜をガラス板からはがすことで平均膜厚が100μmの含フッ素ポリマー(1-11)の膜を得た。
全光線透過率 96%
ヘーズ 0.34%
透過率(193nm) 74.4%
透過率(550nm) 94.6%
屈折率 1.335
アッベ数 91
反射率(550nm) 0.62%
押込み硬さ 420N/mm2
押込み弾性率 3.3GPa
吸水率(24℃) 0.00%
吸水率(60℃) 0.09%
引張弾性率 3.1GPa
引張強度 20.9MPa
熱分解温度(0.1%) 294.5℃
熱分解温度(5%) 439.4℃
ガラス転移温度 129℃
線膨張係数 80ppm
得られた膜は、吸水率が低いため、吸水による膨張及び吸水による屈折率の変化が低減されていることが確認された。一般の光学樹脂、例えばポリメチルメタクリレートの吸水率は約2%である。
コーティング剤として比較調製例1で得られたフッ素ポリマー溶解液を使用して膜を形成した。コーティング剤をガラス基板上にコートし、80℃で4時間乾燥して、その後、膜をガラス板からはがすことで平均膜厚50μmの透明な膜を得た。得られた膜の押込み硬さ及び押込み弾性率は、各々、145N/mm2及び2GPaであり、いずれも実施例1の値を下回った。
Claims (16)
- 前記フッ素ポリマーがフルオロオレフィン単位をさらに含む、請求項1に記載のディスプレイ保護膜。
- 前記フルオロオレフィン単位が含フッ素パーハロオレフィン単位、フッ化ビニリデン単位、トリフルオロエチレン単位、ペンタフルオロプロピレン単位、及び1,1,1,2-テトラフルオロ-2-プロピレン単位からなる群から選択される少なくとも1種である請求項2に記載のディスプレイ保護膜。
- 前記含フッ素パーハロオレフィン単位が、クロロトリフルオロエチレン単位、テトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)単位、パーフルオロ(ブチルビニルエーテル)単位、及びパーフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)単位からなる群から選択される少なくとも1種である請求項3に記載のディスプレイ保護膜。
- 前記フルオロオレフィン単位が、クロロトリフルオロエチレン単位、テトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)単位、及びパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)単位からなる群から選択される少なくとも1種である請求項2に記載のディスプレイ保護膜。
- 平均膜厚が10nm以上である請求項1~5のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 押込み弾性率が2.5GPa以上且つ10GPa以下である請求項1~6のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 全光線透過率が90%以上である請求項1~7のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 屈折率が1.29以上且つ1.37以下である請求項1~8のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- アッベ数が80以上且つ100以下である請求項1~9のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 24℃における吸水率が0.1%以下である請求項1~10のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 前記フッ素ポリマーのガラス転移温度が110℃以上である請求項1~11のいずれかに記載のディスプレイ保護膜。
- 請求項1~12のいずれかに記載のディスプレイ保護膜を含むディスプレイ。
- 前記非プロトン性溶媒が、パーフルオロ芳香族化合物、パーフルオロトリアルキルアミン、パーフルオロアルカン、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロ環状エーテル、ハイドロフルオロエーテル、及び少なくとも一つの塩素原子を含むオレフィン化合物からなる群から選択される少なくとも1種の溶媒である請求項14に記載のコーティング剤。
- 前記非プロトン性溶媒が、ハイドロフルオロエーテルである請求項14又は15に記載のコーティング剤。
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