JP2010052961A - カーボンナノチューブの製造方法及びカーボンナノチューブ - Google Patents
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Abstract
【課題】その成長位置が制御された状態で、基板上で一方向に高密度に配向成長したカーボンナノチューブを製造する方法を提供する。
【解決手段】表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD法により前記パターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
【選択図】図8
【解決手段】表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD法により前記パターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
【選択図】図8
Description
本発明は、カーボンナノチューブの製造方法及びカーボンナノチューブに関する。より詳しくは、サファイア単結晶基板の特定の結晶面にカーボンナノチューブを一方向に配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法及び該結晶面に配向成長したカーボンナノチューブに関するものである。
カーボンナノチューブは、グラフェンシート(炭素六員環からなる層)を円筒状に丸めた、直径が0.4nmから数十nm程度のチューブ状の物質であり、熱的・化学的安定性、力学的強度、電子伝導性、熱伝導性、近赤外域まで伸びた分光特性を有する優れたナノマテリアルとして注目されている。
カーボンナノチューブには、前記グラフェンシートが1層である単層カーボンナノチューブ(SWNT)、グラフェンシートが2層である2層カーボンナノチューブ(DWNT)、グラフェンシートが2層以上の多層カーボンナノチューブ(MWNT)があるが、この中でも特にSWNTやDWNTが注目されている。
カーボンナノチューブには、前記グラフェンシートが1層である単層カーボンナノチューブ(SWNT)、グラフェンシートが2層である2層カーボンナノチューブ(DWNT)、グラフェンシートが2層以上の多層カーボンナノチューブ(MWNT)があるが、この中でも特にSWNTやDWNTが注目されている。
また、カーボンナノチューブは、そのカイラリティ(螺旋度)の違いによってアームチェア型、ジグザグ型及びカイラル型に分類することができ、直径などの構造変化が生じると共に、その電気的特性(バンドギャップ、電子準位など)はカイラリティに依存して変化することが知られている。このような物性を利用して、金属性カーボンナノチューブは、希少金属を用いた透明導電材料の代替品として液晶ディスプレイや太陽電池パネル用の透明電極への利用が期待されており、また、半導体性カーボンナノチューブは、高性能トランジスタや超短光パルス発生、光スイッチなどの材料として期待されている。
ところで、電子デバイス用途への使用には、基板上にカーボンナノチューブを高密度に配向成長した材料が有用である。一方、サファイアと水晶などの単結晶基材を使用すると、高配向なSWNTが製造可能であることが報告されている。
例えば、特許文献1には、サファイア単結晶基板に触媒金属膜を形成した基材を使用したSWNTの製造方法が開示されている。また、非特許文献1には、金属系触媒の前駆体を含む溶液に、サファイア単結晶基材を含浸し、該単結晶基材上に金属系触媒を析出させた基材を使用したSWNTの製造方法が開示されている。
例えば、特許文献1には、サファイア単結晶基板に触媒金属膜を形成した基材を使用したSWNTの製造方法が開示されている。また、非特許文献1には、金属系触媒の前駆体を含む溶液に、サファイア単結晶基材を含浸し、該単結晶基材上に金属系触媒を析出させた基材を使用したSWNTの製造方法が開示されている。
ところで、カーボンナノチューブが配向成長した基板をより高度な電子デバイスへ応用するためには、成長位置を制御した状態で配向成長したカーボンナノチューブ(その集合体を含む)を直接トランジスタなどの電子素子として使用することが望まれている。
しかしながら、基板全面にカーボンナチューブを固着する特許文献1及び非特許文献1の方法では、カーボンナノチューブの成長位置が制御されておらず、カーボンナノチューブが基板全面から成長するため、成長したカーボンナノチューブを直接トランジスタなどの電子素子として使用することはできない。さらに、基板全面からカーボンナノチューブが成長した場合、密度が高くなるとカーボンナノチューブ同士が接触し、成長が抑制される。その結果、カーボンナノチューブの品質(長さ、密度の不均一性、炭素複生成物の発生)が低下する場合がある。
しかしながら、基板全面にカーボンナチューブを固着する特許文献1及び非特許文献1の方法では、カーボンナノチューブの成長位置が制御されておらず、カーボンナノチューブが基板全面から成長するため、成長したカーボンナノチューブを直接トランジスタなどの電子素子として使用することはできない。さらに、基板全面からカーボンナノチューブが成長した場合、密度が高くなるとカーボンナノチューブ同士が接触し、成長が抑制される。その結果、カーボンナノチューブの品質(長さ、密度の不均一性、炭素複生成物の発生)が低下する場合がある。
このような状況下、本発明の目的は、その成長位置が制御された状態で、基板上で一方向に高密度に配向成長したカーボンナノチューブを製造する方法を提供することである。
本発明者らは、カーボンナノチューブの製造方法について鋭意研究を重ねた結果、サファイア単結晶基板のR面にカーボンナノチューブを一方向に成長させる作用があり、適当な金属系触媒からなる規則的なパターン構造を形成することで、該金属系触媒パターン構造の特定の一方向を主体に高密度にカーボンナノチューブを配向成長させることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、次の発明に係るものである。
<1> 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD法により前記パターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法。
<2> 前記パターン構造が、R面における正のc軸投影方向に交差するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造である前記<1>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<3> 前記パターン構造が、金属膜を熱処理して形成したものである前記<1>または<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<4> 前記金属膜の膜厚が、0.1nm以上5nm以下である前記<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<5> 前記パターン構造が、金属系触媒の前駆体を熱分解して形成したものである前記<1>または<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<6> 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブ。
<1> 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD法により前記パターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法。
<2> 前記パターン構造が、R面における正のc軸投影方向に交差するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造である前記<1>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<3> 前記パターン構造が、金属膜を熱処理して形成したものである前記<1>または<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<4> 前記金属膜の膜厚が、0.1nm以上5nm以下である前記<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<5> 前記パターン構造が、金属系触媒の前駆体を熱分解して形成したものである前記<1>または<2>記載のカーボンナノチューブの製造方法。
<6> 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブ。
本発明の製造方法によれば、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板にカーボンナノチューブをR面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブが容易に製造できる。このカーボンナノチューブは、長尺で、直径が制御された状態で高密度に配向成長しており、電界効果型トランジスタ(FET)や高周波トランジスタなどの電子デバイスへ好適に適用可能であるため、工業的に極めて有用である。
以下、本発明につき詳細に説明する。
本願発明は、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板(以下、単に「基板」と呼ぶ場合がある。)の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により前記所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法に係るものである。
なお、本願発明において、「カーボンナノチューブ」とは、単層のSWNTだけでなく、2層のDWNT、複層のMWNT及びこれらの混合物を含む概念であるが、本発明の製造方法は、特にSWNTとDWNTの製造に適するものである。
本願発明は、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板(以下、単に「基板」と呼ぶ場合がある。)の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により前記所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させるカーボンナノチューブの製造方法に係るものである。
なお、本願発明において、「カーボンナノチューブ」とは、単層のSWNTだけでなく、2層のDWNT、複層のMWNT及びこれらの混合物を含む概念であるが、本発明の製造方法は、特にSWNTとDWNTの製造に適するものである。
本発明の基板として使用されるサファイア単結晶は、コランダム構造を持つ六方晶系の酸化アルミニウム(Al2O3)の単結晶であり多数の結晶面を持つ。その代表的な結晶面は図1(a)に示すR面、A面、C面がある。本発明の特徴の一つは、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板を使用することがあるが、このR面は、c軸のユニット長の半分の位置を32.4°の傾きを有して通過する面である(図1(b))。なお、本発明では、R面の方向において、c軸の正の方向([0 0 0 1]方向)をR面へ投影した方向を、「正のc軸投影方向」あるいは単に「c軸投影方向」と呼ぶ。
特許文献1などで開示されているように、R面及びA面にカーボンナノチューブの水平配向成長を促進する性質があることは従来知られているが、上述のように、本発明者らはさらにR面には、正のc軸投影方向の180°反対方向、という特定の一方向にカーボンナノチューブが配向成長する性質があることを発見した。以下において、特にカーボンナノチューブの成長方向の説明では「R面における正のc軸投影方向の180°反対方向」を「順方向」、「R面における正のc軸投影方向」を「逆方向」とよぶ場合がある。
なお、正のc軸投影方向の180°反対方向を結晶方向で表現すると、
と表現される。
なお、正のc軸投影方向の180°反対方向を結晶方向で表現すると、
と表現される。
R面における正のc軸投影方向の180°反対方向という特定の一方向へのカーボンナノチューブの配向成長が起こる理由について、完全に明らかになっているわけではないが、本発明者らはサファイアのR面におけるO原子とAl原子の原子配列に起因して、R面ではカーボンナノチューブ(特にSWNT)は本質的に正のc軸投影方向の180°反対方向(順方向)に成長しやすいと推測している。一方で、カーボンナノチューブは、単にカーボンナノチューブ生成用金属系触媒を固着した、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板を使用しても順方向を主体に高密度にカーボンナノチューブを成長させることができない。これは、基板の結晶面以外にも、使用する触媒(種類、大きさ、密度など)や、カーボンナノチューブの合成方法(炭素源、供給方法、温度)など様々な要素に依存して成長するためであり、その結果、カーボンナノチューブが順方向以外の方向(逆方向、その他の方向)に成長したり、また、成長したカーボンナノチューブ同士が衝突したりすることなどにより、基板表面でのカーボンナノチューブの配向性や密度が不均一になりやすい。
これに対し、本発明の製造方法における特徴のひとつは、その基板表面上に金属系触媒からなる所定のパターン構造をカーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長を抑制せずに、順方向を主体としてカーボンナノチューブが配向成長するように形成している点にある。ここで、「順方向(R面における正のc軸投影方向の180°反対方向)を主体としてカーボンナノチューブが配向成長する」とは、具体的には順方向及び逆方向への配向成長していないカーボンナノチューブの割合が、全体の10%以下(好適には5%以下)であって、かつ、順方向に配向成長したカーボンナノチューブの割合が全体の60%以上(好適には70%以上)となるようにカーボンナノチューブが配向成長することを意味する。なお、成長したカーボンナノチューブの割合は、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した任意の本数(好適には100本以上)のカーボンナノチューブから求めることができる。
上記金属系触媒からなる所定のパターン構造は、カーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長を抑制しない形状であればよいが、高配向性のカーボンナノチューブを高密度に、形成できるという点では、具体的にはR面における正のc軸投影方向に交差(好適には直交)するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造であることが好ましい。なお、本発明において「ドット構造」とは、所定の間隔・形状・サイズを有する島状のパターン構造を意味する。
ここで、スリット構造の場合には、R面におけるカーボンナノチューブの配向成長方向であるc軸投影方向の180°反対方向(順方向)とスリット方向が平行であると、順方向に成長できるカーボンナノチューブの数が少なくなるため好ましくない。スリットの形状は特に限定されず、カーボンナノチューブを順方向に高密度に成長させるという観点からは、R面における正のc軸投影方向と直交する形状が好適である。
ここで、スリットの幅及びスリットの間隔については、基板の大きさ、成長させるカーボンナノチューブの長さ、密度などを勘案して適宜決定されるが、カーボンナノチューブを順方向に高密度に成長させるという観点からは、好適なスリットの幅は1〜100μm、スリットの間隔は、20〜500μm程度である。
ここで、スリットの幅及びスリットの間隔については、基板の大きさ、成長させるカーボンナノチューブの長さ、密度などを勘案して適宜決定されるが、カーボンナノチューブを順方向に高密度に成長させるという観点からは、好適なスリットの幅は1〜100μm、スリットの間隔は、20〜500μm程度である。
また、ドット構造の場合において、一つのドットの大きさは、特に制限がなく、一つのドット(金属触媒からなる島)からカーボンナノチューブが1〜50本程度成長可能な大きさがあればよい。具体的には円形のドットで直径0.5〜50μm程度である。ドットを形成する数は、基板の大きさ、カーボンナノチューブの収率などを勘案して適宜決定される。
次に本発明の製造方法に使用されるカーボンナノチューブ生成用金属系触媒について説明する。
本発明における、「カーボンナノチューブ生成用金属系触媒」とは、カーボンナノチューブを構成するグラフェンシートの形成に対しての触媒作用を有する金属系触媒を意味する。前記金属系触媒としては、Co、Fe、Ni、Mo、W、Mn、Ti、V、Cr、Nb、Mo、Ru、Pd、Rh、Ag、Au、Cu、Irなどの第4〜11族の遷移金属元素からなる金属やその金属化合物(例えば金属酸化物、金属ホウ化物、塩化物、硝酸塩)を用いることができる。また、これらはいずれか1種、またはこれらの2種以上の合金あるいは混合物として用いることもできる。これらの中でも、Fe、Co、Ni、Moあるいはこれらを含む合金は、特にカーボンナノチューブの生成に対する触媒活性が高く、また、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物が生成しにくいため、好適に用いられる。
本発明における、「カーボンナノチューブ生成用金属系触媒」とは、カーボンナノチューブを構成するグラフェンシートの形成に対しての触媒作用を有する金属系触媒を意味する。前記金属系触媒としては、Co、Fe、Ni、Mo、W、Mn、Ti、V、Cr、Nb、Mo、Ru、Pd、Rh、Ag、Au、Cu、Irなどの第4〜11族の遷移金属元素からなる金属やその金属化合物(例えば金属酸化物、金属ホウ化物、塩化物、硝酸塩)を用いることができる。また、これらはいずれか1種、またはこれらの2種以上の合金あるいは混合物として用いることもできる。これらの中でも、Fe、Co、Ni、Moあるいはこれらを含む合金は、特にカーボンナノチューブの生成に対する触媒活性が高く、また、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物が生成しにくいため、好適に用いられる。
この金属系触媒は、所定のパターン構造として、表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に固着される。固着する方法は、定法を適宜選択できるが、スパッタリング、蒸着などの方法で金属膜を形成する方法や金属系触媒の前駆体を含む溶液に前記基板を接触させる方法などがある。上記金属系触媒からなる所定のパターン構造を再現性よく形成可能であるという点では、金属膜から形成されることが好ましい。一方で、微細な金属系触媒微粒子を形成するという観点からは、金属前駆体を使用する方法が好ましい。 以下、それぞれの方法について具体的に説明する。
金属膜の製法は特に制限はなく、上述のように公知の方法、例えば、蒸着法、スパッタ法などを適宜選択することができるが、均一な膜厚の金属系触媒膜を得られる点ではスパッタ法が好適である。具体的には、レジスト法(例えば、特開2002−285335号公報)などの定法によってスリットなどのパターン構造が形成されたマスクを基板上に形成し、上記の金属系触媒を構成する金属の一種あるいは2種以上をスパッタ法などで成膜後、前記マスクを除去することで作製できる。この金属膜を熱処理することで基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造を得ることができる。なお、金属膜は、熱処理することで凝集して粒子化し、カーボンナノチューブ生成用触媒作用が向上する。
熱処理温度は、適宜決定されるが、通常、200〜1000℃であり、粒径をその好適な範囲である0.4nm以上20nm以下とする観点からは、200〜900℃が好適である。なお、熱処理を行う雰囲気は、特に限定されないが、この熱処理は通常は、後述するカーボンナノチューブの合成工程の前段階で行われるため、通常、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気もしくは水素などの還元雰囲気で行われる。
熱処理温度は、適宜決定されるが、通常、200〜1000℃であり、粒径をその好適な範囲である0.4nm以上20nm以下とする観点からは、200〜900℃が好適である。なお、熱処理を行う雰囲気は、特に限定されないが、この熱処理は通常は、後述するカーボンナノチューブの合成工程の前段階で行われるため、通常、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気もしくは水素などの還元雰囲気で行われる。
金属系触媒膜の膜厚は、0.1nm以上5nm以下(特に0.3nm以上2nm以下)が好適である。膜厚が0.1nm未満であると触媒量が足りずにカーボンナノチューブの収率が著しく低下し、5nmを超えるとカーボンナノチューブの順方向と逆方向との成長の選択性がほとんどなくなり、順方向と逆方向以外へ成長する、配向性のないカーボンナノチューブの割合が増加する。ここで、カーボンナノチューブの順方向への一方向配向成長性という観点からでの好適な膜厚は2nm以下であり、その膜厚以下では70%以上の順方向へ一方向配向成長性を得ることができる。
次に、金属系触媒の前駆体を使用して、上記所定のパターン構造を形成する方法について説明する。金属系触媒の前駆体としては、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、金属カルボニルなどが挙げられ、これらは1種単独で使用してもよく、あるいは2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、金属系触媒の前駆体を分散あるいは溶解させる溶媒は特に限定されず、具体的に、水;メタノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸n−ブチル等のエステル類;ヘキサン、ヘプタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素類などが挙げられる。この方法では、まず、レジスト法などの定法によってスリットなどのパターンが形成されたマスクを基板上に形成したのちに、金属系触媒の前駆体を含む溶液に前記基板を接触させて、基板上に所定のパターンに金属系触媒の前駆体を固着する。この所定のパターンに金属系触媒の前駆体が固着した基板を加熱して前駆体を熱分解することで、基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造を得ることができる。
金属系触媒の前駆体を含む溶液を、基板に接触させる方法としては、前記基材上に分散溶液を滴下する方法、分散溶液中に前記基材を浸漬する方法などが挙げられ、通常は後者である。なお、浸漬時の温度は、0℃〜100℃、好ましくは20℃〜40℃であり、通常、室温である。浸漬時間は、前記基材に金属系触媒微粒子の前駆体が十分に吸着できる時間であればよく、通常、数分から24時間程度である。なお、前記基材と金属系触媒微粒子の前駆体とを接触させた後に、金属系触媒微粒子の前駆体を含まない溶媒で洗浄してもよい。
熱処理温度は、使用する金属系触媒微粒子の前駆体の分解温度を勘案して、適宜決定されるが、通常、200〜1000℃である。なお、熱処理を行う雰囲気は、特に限定されないが、窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気もしくは酸素を混入させた酸化雰囲気が好ましい。また、熱分解により形成した金属系触媒微粒子は、酸化物の状態であることが多く、後述するカーボンナノチューブの形成工程において、還元・活性化される。なお、還元の際の温度は、粒径をその好適な範囲である0.4nm以上20nm以下とする観点からは、200〜900℃が好適である。
以下、本発明のカーボンナノチューブの製造方法では、上述の金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成した基板を使用して、CVD法によってカーボンナノチューブ(特にSWNT、DWNT)を正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長させることができる。ここで、CVD法としては、熱CVD法またはプラズマCVD法などのいずれのCVD法でもよいが、装置の簡便性、制御性の点で熱CVD法が好適に用いられる。
CVD法における、カーボンナノチューブの炭素源としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、軽油などの炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類が挙げられる。これらの炭素源は、単独であるいは、アルゴンなどのキャリアを加えた混合物として使用される。
この中でも、メタンは、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物の生成が少なく、収率よくカーボンナノチューブを合成できるため、好適に用いられる。また、アルコール類、特にメタノール、エタノールを炭素源として使用すると、炭化水素を炭素源として利用した場合と比べて、低温でも高品質のカーボンナノチューブを成長させることができる。
この中でも、メタンは、カーボンナノチューブ以外の炭素複生成物の生成が少なく、収率よくカーボンナノチューブを合成できるため、好適に用いられる。また、アルコール類、特にメタノール、エタノールを炭素源として使用すると、炭化水素を炭素源として利用した場合と比べて、低温でも高品質のカーボンナノチューブを成長させることができる。
以下において、炭素源としてメタンを使用した、熱CVD法を参照して具体的に説明する。
熱CVD法の場合の好適な条件は、合成温度が750〜950℃、合成時間が5〜60分、合成圧力が0.01〜1気圧である。また、ガス供給速度は、反応容器の大きさ、ガス濃度などを勘案して適宜され、一例を挙げるとメタン900sccm、水素100sccmである。上記条件の中でも、合成温度は、生成するカーボンナノチューブの直径、配向性などに影響を及し、合成温度が750℃未満であると、カーボンナノチューブの成長速度が小さくなり、収率が低下することがあり、950℃を超えると、金属系触媒微粒子が凝集して、その粒径が不均一になるため、生成するカーボンナノチューブの直径、配向性が不均一化したり、カーボンナノチューブの収率が低下したりすることがある。
上述した本発明の基板上に金属系触媒からなる所定のパターン構造が形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を使用することで、本発明の本発明の表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向(順方向)を主体に配向成長した、本発明のカーボンナノチューブを好適に製造することができる。なお、製造したカーボンナノチューブの配向性、長さ、密度、成長位置は、ラマン分光法、原子間力顕微鏡(AFM)、走査型電子顕微鏡(SEM)などで確認することができる。
本発明のカーボンナノチューブは、上述のようにサファイア単結晶(R面)基板上の所定のパターン構造から、R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長した、1本または2本以上からなる集合体である。本発明において、カーボンナノチューブの長さ、直径、密度及び基板上に形成したパターン構造については特に制限はなく、基板の大きさや基板上に形成したパターン構造やその使用目的に応じて適宜決定可能であるが、上述した電子デバイスへの応用を考えると好適な範囲を例示すると、その長さが、1〜300μm、その直径が0.4nm〜30nmであり、密度が0.5〜10本/μmである。なお、長さなどがこの範囲であれば、上述した本発明の製造方法によって、効率よく製造することが可能である。
また、サファイア単結晶(R面)基板上にファンデルワールス力などによってサファイア単結晶表面に適度な力で固着している。そのため、物理的力で容易に除去することが可能であり、必要に応じて基板上のすべてのカーボンナノチューブを除去したり、または、一部のカーボンナノチューブを除去したりして、その使用目的(例えば、電子素子)に適するようなカーボンナノチューブ(の集合体)の形状にしたりすることできる。
なお、本発明の基板上に成長したカーボンナノチューブの用途としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、電界効果型トランジスタ(FET)や高周波トランジスタなどの電子デバイスをはじめ、偏光板、ケミカルセンサなど様々な用途に使用することができる。
また、サファイア単結晶(R面)基板上にファンデルワールス力などによってサファイア単結晶表面に適度な力で固着している。そのため、物理的力で容易に除去することが可能であり、必要に応じて基板上のすべてのカーボンナノチューブを除去したり、または、一部のカーボンナノチューブを除去したりして、その使用目的(例えば、電子素子)に適するようなカーボンナノチューブ(の集合体)の形状にしたりすることできる。
なお、本発明の基板上に成長したカーボンナノチューブの用途としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、電界効果型トランジスタ(FET)や高周波トランジスタなどの電子デバイスをはじめ、偏光板、ケミカルセンサなど様々な用途に使用することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
10×10mm、厚さ約0.3mmのサファイア単結晶基板(京セラ株式会社製、表面結晶面:R面)を、IPA中で、超音波洗浄(45W、5分間)した後に、サファイア基板をスピンコーター(ミカサ製;1H−D7)に設置し、サファイア基板に反転ポジレジスト(AZエレクトロニックマテリアルズ製、AZ5214−E)を均等に基板に滴下し、スピンコーター3800rpm、20秒の条件でスピンコートを行った。その後、115℃、60秒間 プリベークを行うことで、サファイア基板上にレジスト膜(膜厚:約300nm)を形成した。
次に、このレジスト膜に対して、その下地であるサファイア基板における表面(R面)の正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するような所定のスリットパターンを形成した。次にマスクアライナー(共和理研製、K−309PW95)を用いてフォトマスクを介して1秒間、紫外線を照射し、さらにマスクを外して6秒間全面露光を行った。最後に現像液(東京応化製、NMD−3)でレジストを除去し、純水で洗浄し、120℃、120秒間 ポストベークを行うことで、レジストパターン(スリット型:スリット幅10μm,スリット間隔300μm)を形成したレジストパターン基板1を得た。
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
10×10mm、厚さ約0.3mmのサファイア単結晶基板(京セラ株式会社製、表面結晶面:R面)を、IPA中で、超音波洗浄(45W、5分間)した後に、サファイア基板をスピンコーター(ミカサ製;1H−D7)に設置し、サファイア基板に反転ポジレジスト(AZエレクトロニックマテリアルズ製、AZ5214−E)を均等に基板に滴下し、スピンコーター3800rpm、20秒の条件でスピンコートを行った。その後、115℃、60秒間 プリベークを行うことで、サファイア基板上にレジスト膜(膜厚:約300nm)を形成した。
次に、このレジスト膜に対して、その下地であるサファイア基板における表面(R面)の正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するような所定のスリットパターンを形成した。次にマスクアライナー(共和理研製、K−309PW95)を用いてフォトマスクを介して1秒間、紫外線を照射し、さらにマスクを外して6秒間全面露光を行った。最後に現像液(東京応化製、NMD−3)でレジストを除去し、純水で洗浄し、120℃、120秒間 ポストベークを行うことで、レジストパターン(スリット型:スリット幅10μm,スリット間隔300μm)を形成したレジストパターン基板1を得た。
(B)Feスリットパターン膜の作製
レジストパターンを形成したサファイア基板(レジストパターン基板1)に、スパッタ装置(芝浦メカトロニクス製、CFS−4ES)を使用して、(Fe:FP300W、RP0W、Ar0.6Pa)の条件でスパッタリングを行った。
スパッタリング後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面(R面)上に正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するFeスリットパターン膜が形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。なお、カーボンナノチューブのスパッタリング時間を適宜調整し、膜厚が0.3〜5nmとなるようにしたFe膜厚の異なる複数のカーボンナノチューブ形成用基材を作製した。なお、膜厚は、AFMにより測定した。
レジストパターンを形成したサファイア基板(レジストパターン基板1)に、スパッタ装置(芝浦メカトロニクス製、CFS−4ES)を使用して、(Fe:FP300W、RP0W、Ar0.6Pa)の条件でスパッタリングを行った。
スパッタリング後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面(R面)上に正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するFeスリットパターン膜が形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。なお、カーボンナノチューブのスパッタリング時間を適宜調整し、膜厚が0.3〜5nmとなるようにしたFe膜厚の異なる複数のカーボンナノチューブ形成用基材を作製した。なお、膜厚は、AFMにより測定した。
(C)熱CVD法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を使用して、以下の方法でカーボンナノチューブの合成を行った。なお、CVD法には石英ガラス製の反応容器を備えたガス流通式のCVD装置(図示せず)を使用した。まず、カーボンナノチューブ形成用基材を反応容器に入れ、アルゴン流通下(350sccm)で900℃まで昇温した後に、水素を100sccm、10分間供給した。次に、900℃でメタン/水素混合ガス(メタン:900sccm、水素100sccm)メタン濃度:90体積%,全流量:1000sccm)を10分間流通させることでカーボンナノチューブを合成した。
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を使用して、以下の方法でカーボンナノチューブの合成を行った。なお、CVD法には石英ガラス製の反応容器を備えたガス流通式のCVD装置(図示せず)を使用した。まず、カーボンナノチューブ形成用基材を反応容器に入れ、アルゴン流通下(350sccm)で900℃まで昇温した後に、水素を100sccm、10分間供給した。次に、900℃でメタン/水素混合ガス(メタン:900sccm、水素100sccm)メタン濃度:90体積%,全流量:1000sccm)を10分間流通させることでカーボンナノチューブを合成した。
それぞれの基材で合成したカーボンナノチューブについて、SEMを用いて評価を行った。図2に代表例として膜厚1nmのSEM像を示すが、それぞれのスリットから正のc軸投影方向の180°反対方向(順方向)にカーボンナノチューブが配向成長していることがわかる。図3〜7にFe膜厚がそれぞれ0.3、0.5、1、2、4.5nmについて、スリットにおける1本のパターンを拡大したSEM像を示す。
膜厚が0.3nmのサンプル(図3)では、カーボンナノチューブが明らかに順方向に配向成長(順方向に略平行に成長)していることがわかる。一方、逆方向へ配向成長したカーボンナノチューブも確認される。なお、パターンの逆方向側へ成長したカーボンナノチューブには、配向性が認められないものも存在した。同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは90%以上であり、カーボンナノチューブの密度(単位長さ(μm)を交差するカーボンナノチューブの本数)は、2.0本/μmであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で25μm、逆方向で10μmであった。
膜厚が0.5nmのサンプル(図4)でも、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、膜厚が0.3nmのサンプルと比較して、明らかに逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブが増加していることがわかる。同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは80%以上であり、カーボンナノチューブの密度は、4.5本/μmであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で30μm、逆方向で20μmであった。
膜厚が1nmのサンプル(図5)では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、膜厚が0.3,0.5nmのサンプルと比較して、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブが増加していることがわかる。同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは70%以上であり、カーボンナノチューブの密度は、4.8本/μmであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で40μm、逆方向で32.5μmであった。
膜厚が2nmのサンプル(図6)では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブも膜厚が1nmのサンプルと同程度存在した。同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは75%以上であり、カーボンナノチューブの密度は、4.5本/μmであった。また、順方向に成長したカーボンナノチューブの平均長さは順方向で40μm、逆方向で30μmであった。
膜厚が4.5nmのサンプル(図7)では、カーボンナノチューブに順方向に配向成長しているが、逆方向に配向成長しているカーボンナノチューブ及び配向成長が確認されないカーボンナノチューブの量が明らかに増加した。この傾向は、膜厚が3nm以上から確認され、膜厚が5nmを超えると配向性がさらに悪化すると思われる。
同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは60%程度であった。
同サンプルにおいて、任意のパターン300μmの範囲において、順方向に配向成長したカーボンナノチューブは60%程度であった。
SEM観察の結果から、カーボンナノチューブが順方向へ70%以上の割合で配向成長している膜厚が2nm以下のサンプルでは、順方向のカーボンナノチューブの長さが、逆方向のカーボンナノチューブの長さより長い傾向にあった。なお、膜厚2nm以上のサンプルでは、Fe膜のパターンが明確に確認されたが、膜厚1nm以下のサンプルではFe膜のパターンが明確に確認できず、パターン内でもナノチューブが成長していた。
さらに、膜厚5nm以下の基材から配向成長したカーボンナノチューブについて、サンプル数50でラマン分光法により、直径を算出した結果、ほとんどのカーボンナノチューブ直径は、1〜2nmの範囲であり、膜厚による直径選択性は確認されなかった。
さらに、膜厚5nm以下の基材から配向成長したカーボンナノチューブについて、サンプル数50でラマン分光法により、直径を算出した結果、ほとんどのカーボンナノチューブ直径は、1〜2nmの範囲であり、膜厚による直径選択性は確認されなかった。
実施例2
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
上述の実施例1と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板2(スリット型:スリット幅10μm,スリット間隔100μm)
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
上述の実施例1と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板2(スリット型:スリット幅10μm,スリット間隔100μm)
(B)CoMoスリットパターンの作製
レジストパターンを形成したサファイア基板(レジストパターン基板2)に、10-5Mの硝酸コバルト(II)六水和物(和光純薬工業株式会社)と5×10-7Mのビスアセチルアセトナート二酸化モリブデン(Aldrich)とを含むエタノール溶液に10分間浸漬し、1mm/minのスピードで引き上げたのちに、大気雰囲気下、室温で自然乾燥することで、基板上にCo及びMoの前駆体を固着させた。なお、この前駆体は以下に示す熱CVDにおける昇温過程で分解して、金属系触媒粒子となる。前駆体を固着後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面(R面)上に正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するCoMoスリットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
レジストパターンを形成したサファイア基板(レジストパターン基板2)に、10-5Mの硝酸コバルト(II)六水和物(和光純薬工業株式会社)と5×10-7Mのビスアセチルアセトナート二酸化モリブデン(Aldrich)とを含むエタノール溶液に10分間浸漬し、1mm/minのスピードで引き上げたのちに、大気雰囲気下、室温で自然乾燥することで、基板上にCo及びMoの前駆体を固着させた。なお、この前駆体は以下に示す熱CVDにおける昇温過程で分解して、金属系触媒粒子となる。前駆体を固着後の基板を、アセトン中で超音波洗浄することでレジストを除去し、サファイア基板表面(R面)上に正のc軸投影方向の180°反対方向に直交するCoMoスリットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
(C)熱CVD法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例1と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例1と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
合成したカーボンナノチューブについて、SEMを用いて評価を行った。図8から明らかなように、この基板で作製したカーボンナノチューブは、ほとんどすべてが順方向に配向成長していることがわかる。一方で、成長したカーボンナノチューブの密度は2本/μm以下であり、その長さは数μmから100μm程度で広く分布し、特に10μm程度の短いカーボンナノチューブが少なからず存在した。
実施例3
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
スリット型フォトマスクの代わりに、所定のドット型フォトマスクを使用したこと以外は、上述の実施例1と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板3(ドット型:ドット10×10μm、間隔100μm)
(A)サファイア基板上へのレジストパターンの作製
スリット型フォトマスクの代わりに、所定のドット型フォトマスクを使用したこと以外は、上述の実施例1と同様な方法で、以下のレジストパターンを形成したサファイア基板を得た。
・レジストパターン基板3(ドット型:ドット10×10μm、間隔100μm)
(B)CoMoドットパターンの作製
レジストパターン基板2の代わりに、レジストパターン基板3を使用したこと以外は実施例2と同様にして、CoMoドットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
レジストパターン基板2の代わりに、レジストパターン基板3を使用したこと以外は実施例2と同様にして、CoMoドットパターンが形成されたカーボンナノチューブ形成用基材を得た。
(C)熱CVD法によるカーボンナノチューブの合成
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例1と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
作製したカーボンナノチューブ形成用基材を用いて、上記実施例1と同様な方法でカーボンナノチューブを合成した。
合成したカーボンナノチューブについて、SEMを用いて評価を行った。図9及びその拡大図である図10から明らかなようにこの基板で作製したカーボンナノチューブは、このように実施例2のスリット型パターンと同様にほとんどすべてが順方向に配向成長しており、その配向性は極めてよく、正のc軸投影方向の180°反対方向(順方向)とほぼ平行であり、配向性のないカーボンナノチューブはほとんど存在しなかった。
成長したカーボンナノチューブの密度は1本/μm以下であり、その長さは数μmから80μm程度であった。
成長したカーボンナノチューブの密度は1本/μm以下であり、その長さは数μmから80μm程度であった。
本発明の製造方法によれば、表面がR面のサファイア単結晶基板表面に長尺で高密度に配向成長したカーボンナノチューブが容易に製造でき、この基板に配向成長したカーボンナノチューブは電界効果型トランジスタ(FET)や高周波トランジスタなどの電子デバイスをはじめ、偏光板、ケミカルセンサなど様々な用途に使用することができる。
Claims (6)
- 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、CVD法により前記パターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記パターン構造が、R面における正のc軸投影方向に交差するように一定の間隔を設けて形成されたスリット構造または一定の間隔を設けて形成されたドット構造である請求項1記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記パターン構造が、金属膜を熱処理して形成したものである請求項1または2記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記金属膜の膜厚が、0.1nm以上5nm以下である請求項3記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記パターン構造が、金属系触媒の前駆体を熱分解して形成したものである請求項1または2記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 表面の結晶面がR面であるサファイア単結晶基板の表面に形成されたカーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造から前記R面における正のc軸投影方向の180°反対方向を主体に配向成長したカーボンナノチューブ。
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WO2011108545A1 (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-09 | 国立大学法人 東京大学 | カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ |
JP2011207635A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Kyocera Kinseki Corp | カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ |
JP2012235129A (ja) * | 2011-05-04 | 2012-11-29 | National Cheng Kung Univ | 薄膜トランジスタ及びトップゲート型薄膜トランジスタの製造方法 |
US20130255565A1 (en) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Method for making epitaxial structure |
-
2008
- 2008-08-26 JP JP2008217111A patent/JP2010052961A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011108545A1 (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-09 | 国立大学法人 東京大学 | カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ |
JPWO2011108545A1 (ja) * | 2010-03-01 | 2013-06-27 | 国立大学法人 東京大学 | カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ |
JP2011207635A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Kyocera Kinseki Corp | カーボンナノチューブの製造方法,カーボンナノチューブ製造用の単結晶基板,およびカーボンナノチューブ |
JP2012235129A (ja) * | 2011-05-04 | 2012-11-29 | National Cheng Kung Univ | 薄膜トランジスタ及びトップゲート型薄膜トランジスタの製造方法 |
US20130255565A1 (en) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Method for making epitaxial structure |
US9613802B2 (en) * | 2012-03-28 | 2017-04-04 | Tsinghua University | Method for making epitaxial structure |
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