JP2010050232A - 溶解変形用薬液及び有機膜パターンの溶解変形処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 溶解変形用薬液は、アミド類とニトリル類とのうちの少なくとも何れか一方を含有する。前記アミド類がN,N−ジメチルアセトアミドである。前記ニトリル類がアセトニトリルである。
【選択図】 図2
Description
図1は本実施形態に係る溶解変形用薬液を用いて行う溶解変形処理方法を利用して、液晶表示装置のTFT基板の製造工程を削減する方法を示す一連の工程図である。
第2の実施形態では、上記の第1の実施形態と同様の溶解変形用薬液を用いて行う溶解変形処理方法を利用して、液晶表示装置のTFT基板の製造工程を削減する方法の一例(上記の第1の実施形態(図1)とは別の例)を説明する。
第3の実施形態では、上記の第1及び第2の実施形態と同様の溶解変形用薬液を用いて行う溶解変形処理方法を利用して、液晶表示装置のTFT基板の製造工程を削減する方法の一例(上記の第1及び第2の実施形態(図1、図6)とは別の例)を説明する。
(2)露光工程において2種以上のレチクルマスクを使用し、露光量を少なくとも2段階以上に変化させることにより、レジストマスクを形成する方法
ここでは、主に、ハーフトーンマスクを用いて、レジストマスク膜厚を部分的に制御し、2段階の膜厚を有するレジストパターンを形成したが、このレジストパターンは遮光部と半透光部とを有するレチクルとなっている。
レチクル基板上に、例えば、クロム金属で遮光部と半透光部とを形成する。
レチクル基板上に、例えば、クロム金属で遮光部を所定のパターンに形成する。半透光部となる領域のクロム金属がエッチングされ、薄膜部が形成されている。
レチクル基板上に、例えば、クロム金属で遮光部を所定のパターンに形成する。半透光部はハーフトーン部として形成される。
Claims (9)
- 基板上に形成された有機膜パターンを溶解変形させる溶解変形処理に用いられる薬液であって、アミド類とニトリル類とのうちの少なくとも何れか一方を含有することを特徴とする溶解変形用薬液。
- 基板上に有機膜パターンが形成され、前記有機膜パターンの表面には、該有機膜パターンの表層が変質してなる変質層と、該有機膜パターンの表面上に堆積物が堆積してなる堆積層と、のうち少なくとも一方からなる阻害層が形成されている場合に、前記有機膜パターンを溶解変形させる溶解変形処理に用いられる薬液であって、アミド類とニトリル類とのうちの少なくとも何れか一方を含有することを特徴とする溶解変形用薬液。
- 前記アミド類がN,N−ジメチルアセトアミドであり、前記ニトリル類がアセトニトリルであることを特徴とする請求項1又は2に記載の溶解変形用薬液
- さらに水を含有することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の溶解変形用薬液。
- 当該溶解変形用薬液は、前記有機膜パターンに当該溶解変形用薬液を液体のまま接触させることにより前記有機膜パターンを溶解変形させる溶解変形処理に用いられることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の溶解変形用薬液。
- 当該溶解変形用薬液は、前記有機膜パターンを当該溶解変形用薬液の蒸気に暴露させることにより前記有機膜パターンを溶解変形させる溶解変形処理に用いられることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の溶解変形用薬液。
- 基板上に形成された有機膜パターンに、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の溶解変形用薬液を液体のまま接触させることにより、前記有機膜パターンを溶解変形させることを特徴とする有機膜パターンの溶解変形処理方法。
- 基板上に形成された有機膜パターンを、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の溶解変形用薬液の蒸気に暴露させることにより、前記有機膜パターンを溶解変形させることを特徴とする有機膜パターンの溶解変形処理方法。
- 前記溶解変形用薬液を不活性ガスを用いてバブリングすることにより発生した蒸気を前記有機膜パターンに暴露させることを特徴とする請求項8に記載の有機膜パターンの溶解変形処理方法。
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