JP2009086660A - 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】製造コストが低く、帯電防止性、硬度、及び、ヘイズや光透過率等の光学特性の全てにおいて優れた光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材及び上記光透過性基材の上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ、上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量が、０．５〜１８質量％である光学積層体。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止性、ハード性や帯電防止性等の種々の機能を有する層からなる光学積層体が設けられている。

このような光学積層体の機能層の一つとして、帯電防止性を付与するための帯電防止層が知られている。この帯電防止層は、アンチモンドープした酸化錫（ＡＴＯ）やスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物系の導電性超微粒子、有機導電ポリマーや４級アンモニウム塩系導電材等の帯電防止剤を添加することにより形成されている（特許文献１〜５）。ここで、４級アンモニウム塩は、塗布型の帯電防止剤としてしばしば使用されており、例えば、特許文献６には疎水性溶剤や樹脂への溶解性に優れる４級アンモニウム塩基を有するカチオン性共重合体が開示されている。
これらの帯電防止剤を使用する場合は、所望の帯電防止性と光学特性（低ヘイズ、高全光線透過率）を両立させるために、帯電防止剤を含有する１μｍ程度の薄膜層を形成することによって所望の機能を付与することが行われていた。

一方、別の機能層として、光学積層体としてある程度の強度を付与するためのハードコート層が知られている（特許文献７）。上記ハードコート層は、一般に、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであり、膜厚が０．１〜１００μｍ程度の層である。

しかしながら、これらの層は、それぞれの機能を有する層として別個に形成されていたため、例えば、基材上に、帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層を順に形成した場合、光学積層体の強度やヘイズは良好である（つまり、低ヘイズであり、全光線透過率が高く良好なこと）が、帯電防止性が不十分となり、一方、基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を順に形成した場合は、帯電防止性やヘイズは良好であるが強度が不充分であるといった問題があった。このように、帯電防止性、硬度及びヘイズや全光線透過率等の光学特性のすべての特性について良好な光学積層体が望まれていた。
特開平５−３３９３０６号公報 特開平１１−４２７２９号公報 特開２００２−３７５１号公報 特開２００４−３３８３７９号公報 特開２００５−１５４７４９号公報 特開２０００−１２９２４５号公報 特開２００６−１２６８０８号公報

本発明は、上記現状に鑑みて、製造コストが低く、帯電防止性、硬度、及び、ヘイズや全光線透過率等の光学特性の全てにおいて優れた光学積層体を提供することを目的とするものである。

本発明は、光透過性基材及び上記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ、上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量が、０．５〜１８質量％であることを特徴とする光学積層体である。
本発明はまた、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ
上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量は、０．１〜１０質量％であることを特徴とする光学積層体である。

上記４級アンモニウム塩は、光反応性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物は、更に、重量平均分子量１０００以上である６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。
上記重量平均分子量１０００以上である６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物は、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物であることが好ましい。
上記重量平均分子量１０００以上である６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物と、上記重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物との混合比は、固形分質量比で５／９５〜９０／１０であることが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
上記浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本発明の光学積層体は、更に低屈折率層を有することが好ましい。
本発明の光学積層体は、更に防汚層を有することが好ましい。

本発明はまた、光透過性基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものであることを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明はまた、光透過性基材上に、帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程、及び、上記帯電防止層上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものであることを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明はまた、光透過性基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、及び、上記ハードコート層上に帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものであることを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。

本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。

第一の本発明は、光透過性基材及び上記光透過性基材の上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ、上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量は、０．５〜１８質量％であることを特徴とする光学積層体である。このため、一層で帯電防止性、硬度及び光学特性のすべての特性において優れる光学積層体とすることができる。

すなわち、ハードコート層に、樹脂成分からなる帯電防止剤を使用することによって、ハードコート性に影響を与えることがなく、光学積層体に効率良く帯電防止性能を付与することができる。
更に、樹脂として低分子量の（メタ）アクリレート系化合物を浸透性溶剤と共に使用することで、上記低分子量の（メタ）アクリレート系化合物が基材に浸透し、これによって１回の塗装である程度帯電防止剤が表面付近に偏在したハードコート層を形成することができる。このため効率良く帯電防止性能を付与することができる。

第一の本発明の光学積層体は、特定の４級アンモニウム塩、特定の分子量及び官能基数を有する（メタ）アクリレート、並びに、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成されるハードコート層を有するものである。

第一の本発明の光学積層体におけるハードコート層は、帯電防止剤として、特定の範囲の分子量を有する４級アンモニウム塩を含むものである。
従来、帯電防止性及びハードコート性を付与するために、帯電防止層とハードコート層をそれぞれ別の層として形成していた。そのため光学積層体におけるこれらの層構成によって、優れた帯電防止性とハードコート性を同時に得ることは困難であった。
そこで、本発明では、１層において、帯電防止性とハードコート性を有する帯電防止性ハードコート層を形成することにより、上述した問題を生じることなく、所望の効果を得ることができるものとしたのである。

ここで、帯電防止性ハードコート層を形成する方法として、ハードコート層形成用組成物に帯電防止剤を添加して形成する方法が考えられるが、従来公知の帯電防止剤を添加した場合は、ハードコート層全体に帯電防止剤が存在するため、帯電防止性能（表面抵抗値）を良化させ満足する光学積層体を得るためには、帯電防止剤の添加量を増やす必要があった。しかし、帯電防止剤の添加量を増やした場合、硬度の低下、ヘイズの上昇、光透過率の低下が起こるという問題があった。本発明では、帯電防止剤として、特定の分子量を有する４級アンモニウム塩と、特定のバインダー樹脂及び溶剤とを使用することにより、初めて、従来の導電性超微粒子を用いる場合や、導電性有機高分子材料を用いる場合よりも少量の添加量で良好な帯電防止性能（表面抵抗値）を有する光学積層体を得ることができたものである。また、この光学積層体は、硬度の低下、ヘイズの上昇、光透過率の低下もないものである。

第一の本発明の光学積層体のハードコート層はまた、特定の分子量と官能基数を有する（メタ）アクリレート、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物からなるものであるため、基材との層間密着性が良好で、かつ層界面において干渉縞が発生しないものである。

本発明はまた、良好な帯電防止性、ハードコート性及び光学特性を兼ね備えた樹脂層を一層で形成することができるものであるため、光学積層体の製造工程を簡略化することができ、製造コストを低減することもできるものである。

第一の本発明の光学積層体は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成されたハードコート層を有する。

上記４級アンモニウム塩は、重量平均分子量が１０００〜５万である。１０００未満であると、４級アンモニウム塩自身が基材中へ浸透してしまい、効率良くハードコートの表面に存在しないため、帯電防止性能（特に、表面抵抗）が満足できないものとなる。５万を超えると、粘度が高くなり塗工性が悪化する。

なお、上記４級アンモニウム塩の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。ＧＰＣ移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０１、ＧＰＣ ＫＦ−８０２、ＧＰＣ ＫＦ−８０３、ＧＰＣ ＫＦ−８０４、ＧＰＣ ＫＦ−８０５ ＧＰＣ−ＫＦ８００Ｄ（いずれも、商品名、昭和電工社製）等を挙げることができる。検出器には、ＲＩ（示差屈折率）検出器及びＵＶ検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１（昭和電工社製）等のＧＰＣシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。

上記４級アンモニウム塩は、光反応性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。上記光反応性不飽和結合を有することにより、ハードコート層が高硬度となりうるだけでなく、上記光反応性不飽和結合のない場合と比較して、ハードコート層とその上層に設ける他の層との密着性を向上させることができる。上記光反応性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、（メタ）アクリル基を有する化合物等を挙げることができる。

上記重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩の市販品としては、例えば、Ｈ６１００（三菱化学社製）、ユニレジンＡＳ−１０／Ｍ、ユニレジンＡＳ−１２／Ｍ、ユニレジンＡＳ−１５／Ｍ、ユニレジンＡＳＨ２６（いずれも新中村化学社製）等を挙げることができる。

上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量は、０．５〜１８質量％である。０．５質量％未満であると、帯電防止性能が発現されない。１８質量％を超えると、ハードコート層の硬度が低下する。また、コストの面でも劣る。上記含有量は、下限が２．０質量％、上限が１３質量％であることが好ましく、下限が５．０質量％、上限が１１質量％であることがより好ましい。

上記ハードコート層形成用組成物は、バインダー樹脂として、３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物を含む。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」及び「メタクリレート」を包含する。また、本発明において、「樹脂」とは、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等、反応性を有するもの全てを意味する。
上記３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、これら（メタ）アクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。

また、上記（メタ）アクリレート系化合物は、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等のオリゴマーであってもよい。
これらは、２種以上を併用してもよい。

上記（メタ）アクリレート系化合物は、重量平均分子量が７００以下である。７００を超えると、基材との密着性が悪化するだけでなく、干渉縞が消えないおそれがある。上記重量平均分子量は、２８０以上６００以下であることがより好ましい。

上記（メタ）アクリレート系化合物の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。ＧＰＣ移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ８００Ｄ（いずれも、商品名、昭和電工社製）等を挙げることができる。検出器には、ＲＩ（示差屈折率）検出器及びＵＶ検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１（昭和電工社製）等のＧＰＣシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。

上記ハードコート層形成用組成物は、バインダー樹脂として更に、６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物を含むことで、後述するように所望のハードコート性を付与することができ、鉛筆硬度性に優れた光学積層体とすることができる。上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物は、１０官能以上であることがより好ましい。
上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、ウレタン系、エーテル系、エポキシ系、エステル系又はシリコン系等の（メタ）アクリレート系化合物（モノマー、オリゴマー、プレポリマー）等を挙げることができる。なかでも、ウレタン系（メタ）アクリレート系化合物であることがより好ましい。

上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物は、重量平均分子量が１０００以上であることが好ましい。１０００未満であると、基材への浸透性が増し、充分な硬度が得られないおそれがある。上記重量平均分子量は、１０００以上５万以下であることがより好ましい。更に好ましくは、１０００以上１万５千以下であり、最も好ましくは、１０００以上６５００未満である。５万を超えると、粘度が高すぎて、好適な塗工をすることができないおそれがある。

なお、上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物の重量平均分子量は、上述の４級アンモニウム塩の重量平均分子量の測定方法と同様にして、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。

上記６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、上述した官能基数及び重量平均分子量を満たすものであれば、特に限定されず、公知のものを使用することができる。また、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、１種を使用しても、２種以上を併用してもよい。
なかでも、本発明においてより好ましいのは、重量平均分子量が１０００以上である６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物を１種以上含むことである。ウレタン（メタ）アクリレート系化合物を含むことにより、各層間の密着性を更に良好にすることができ、耐スチールウール特性も更に良好にすることができる。密着性については、本発明の光学積層体においてハードコート層の上に低屈折率層を設ける場合、特に良好になる。

本発明において好ましく使用することのできる上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の市販品としては、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業社製のアートレジンシリーズ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳＢＡ、ＵＮ９０００Ｈ、ＵＮ９５２、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６Ｈ、Ｕ６ＨＡ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学社製のビームセットシリーズ、３７１、５７７等が挙げられ；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズ、大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、ＣＮ９００６（サーマー社製）、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、ビームセット５７７（荒川化学社製）Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）等が挙げられる。

本発明においては、上記バインダー樹脂として、上記（メタ）アクリレート系化合物に加え、上述した官能基数及び重量平均分子量を満たす（メタ）アクリレート系化合物、特にウレタン（メタ）アクリレート系化合物を含むことにより、ハードコート層形成用組成物を基材上に塗布した場合、低分子量である上記（メタ）アクリレート系化合物が、後述する浸透性溶剤とともに基材に浸透し、高分子量である上記６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物は、ハードコート層の表面側に偏在するようになると考えられる。このため、これらを硬化させて樹脂層を形成することにより、基材とハードコート層との層間密着性が良好となり、また層の界面が形成されないため干渉縞の発生を防ぐことができる。また、ハードコート層の表面側に高分子の６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物が偏在することにより、形成される樹脂層に所望のハードコート性を好適に付与することができる。

上記６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物を併用する場合、上記６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物と上記（メタ）アクリレート系化合物との混合比（ウレタン（メタ）アクリレート系化合物／（メタ）アクリレート系化合物）は、固形分質量比で５／９５〜９０／１０であることが好ましい。６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物の割合が５未満であると、（メタ）アクリレート系化合物の割合が多くなるため、ハードコート層の上層に積層する層（例えば、ハードコート層、高屈折率層、防汚層、低屈折率層）との密着性が悪化するおそれがある。また（メタ）アクリレート系化合物が、５官能又は６官能である場合、その割合が多くなると、硬化熱が大量に発生するために、基材が熱によってダメージを受け、シワが入るおそれもある。６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物の割合が９０を超えると、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の割合が多くなるため、干渉縞が発生するおそれがあるだけでなく、基材との密着性が悪化するおそれがある。
上記混合比は、３０／７０〜７０／３０であることがより好ましい。

上記ハードコート層形成用組成物は、浸透性溶剤を含む。
上記浸透性溶剤とは、その溶剤を含む組成物を塗工する基材に対して、湿潤性、膨潤性を発現できる溶剤や、更に、基材の中に浸透することのできる溶剤をいう。上記浸透性溶剤を使用することにより、基材とハードコート層との層間密着性を良好にし、また干渉縞の発生を防ぐことができる。
上記浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類；テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類；その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、又は、これらの混合物が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。

上記浸透性溶剤の添加量は、上記ハードコート層形成用組成物中において、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、３０〜５００質量部であることが好ましい。３０質量部未満であると、塗工が困難となり、塗工面が悪化し品質的に問題となるおそれがある。また、干渉縞が発生するおそれがある。５００質量部を超えると、浸透性溶剤が、光透過性基材を溶解または膨潤させる程度が大になり、硬度が悪化するおそれがある。またバインダー樹脂も光透過性基材に浸透するために、十分な架橋反応が起こりにくく、十分な硬度が得られなくなるおそれがある。

上記ハードコート層形成用組成物は、拡散材を含んでいてもよい。拡散材を含むことにより、ハードコート層の表面に凹凸形状を形成して、光学積層体に防眩性、すなわち外部拡散性を付与することができ、また、拡散材とバインダー樹脂の屈折率差を制御することで、内部拡散性を付与することができる。上記防眩性を有する上記ハードコート層とは別に、新たに防眩層を積層してもよく、上記ハードコート層と光透過性基材との間、又は上記ハードコート層の上に積層できる。
上記拡散材としては、層表面に凹凸を形成し得る微粒子が挙げられる。上記微粒子の形状は、特に限定されず、真球状、楕円状、不定形等であってよい。また、上記微粒子は、透明性のものが好ましい。また、上記微粒子は、２種以上を含んでいてもよい。

上記拡散材としては、有機系微粒子又は無機系微粒子を使用することができる。
上記有機系微粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。上記プラスチックビーズとしては、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５３〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物（屈折率１．６６）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５０）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）等が挙げられる。なかでも、屈折率の調整が容易であるためアクリル−スチレンビーズであることが好ましい。
上記プラスチックビーズは、その表面に疎水基を有していてもよい。
上記有機系微粒子は、平均粒子径が０．５〜１０μｍであることが好ましい。上記平均粒子径は、コールターカウンターにより測定して得ることができる。

上記無機系微粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を挙げることができる。
上記不定形シリカとしては、分散性が良好である点で、平均粒子径０．５〜５μｍのシリカビーズであることが好ましい。上記平均粒子径は、コールターカウンターにより測定して得ることができる。

また、上記不定形シリカは、ハードコート層形成用組成物の粘度上昇を生じることなく上記不定形シリカの分散性を良好なものとするために、粒子表面に有機物処理を施して疎水化した不定形シリカであることがより好ましい。上記有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法や、ビーズ表面とは化学的な結合なしに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基又はシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。処理に使用する化合物としては、上記活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系材料等が用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン材料、分岐アルキル単置換シリコーン材料、或いはジ−ｎ−ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン材料、シラザン材料も有効に使用することができる。
必要機能に応じ、アルキル鎖の末端、乃至中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用しても構わない。
これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理材料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子材料とも、高い親和性を得ることができる。

本発明において使用することができる上記拡散材の市販品としては、例えば、日本触媒社製の樹脂球状微粒子（エポスターシリーズ）、積水化成品工業社製の光学用途球状粒子（ＭＢＸ、ＳＢＸ、ＭＳＸ、ＭＢＸ−Ｓ、ＭＢＸ−ＳＳシリーズ）、日硝産業社製のシリコーン樹脂微粒子（トスパールシリーズ）、富士シリシア化学社製のシリカ粒子（サイリシアシリーズ）、大日精化工業社製の不定形シリカ粒子、デグサ社製のアエロジル、日産化学工業社製のコロイダルシリカ（スノーテックス）等を挙げることができる。

上記拡散材の添加量は、バインダー樹脂固形分１００質量部に対し、１〜４０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、防眩性を充分に付与することができないおそれがある。４０質量部を超えると、ヘイズが高くなり、本発明の光学積層体を画像表示装置に設置した場合に視認性が低下するおそれがある。上記添加量は、１〜２０質量部であることがより好ましい。なお、上記拡散材の添加量は、拡散材を２種以上含む場合はそれらの合計量である。

上記ハードコート層形成用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、上述した以外の樹脂等を挙げることができる。

上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記バインダー樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、その他の樹脂は、公知のものを使用するとよい。

上記ハードコート層形成用組成物は、上記重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、浸透性溶剤及びその他の成分を混合分散することにより得ることができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等の公知の方法を使用することができる。

上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物を、後述する光透過性基材等の上に塗布し、必要に応じて乾燥し、そして活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。

上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

上記ハードコート層の層厚みは、０．５〜３０μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、塗工斑が出て外観が悪くなるだけでなく、硬度がでないおそれがある。また３０μｍを超えると、フィルム自身にクラックが入ったり、巻き取りも困難なだけでなく、コスト的にも高くなってしまう。またヘイズ上昇、光透過率も下がる危険性がある。上記層厚みは、１〜２０μｍであることがより好ましい。
上記層厚みは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。

第一の本発明の光学積層体は、光透過性基材を有するものである。上記光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物を挙げることができる。なかでも、トリアセチルセルロースであることが好ましい。

上記光透過性基材の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは下限が３０μｍであり、上限が２００μｍである。上記光透過性基材には、その上にハードコート層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

第一の本発明の光学積層体は、更に、帯電防止層を有していてもよい。
上記帯電防止層は、光学積層体に導電性を付与して帯電を防止し、埃や塵が付着したり、帯電による工程内不良が発生したりするのを防ぐことができる層である。本発明の光学積層体は、上述のハードコート層一層で充分な帯電防止性能を有するが、更に帯電防止層を有していてもよい。
帯電防止層は、上記光透過性基材と上記ハードコート層との間に位置されていてもよいし、上記光透過性基材上に積層された上記ハードコート層上に位置していてもよい。
上記帯電防止層は、帯電防止剤、バインダー樹脂を含む帯電防止層形成用組成物を使用して形成される樹脂層である。

上記帯電防止剤としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー、あるいは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。なお、上記４級アンモニウム塩として、上述した重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩を使用することもできる。

上記帯電防止剤としてはまた、導電性超微粒子が挙げられる。導電性超微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。超微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。

また、上記帯電防止剤として、有機導電性組成物を利用することもでき、例えば、高分子型導電性組成物が挙げられ、上記した有機化合物以外に、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられる。更に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重合した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。

上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アルリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性に優れるという観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の光学積層体において、上記帯電防止層を基材上に形成する場合であって、上記光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材やハードコート層との密着性や透明性を向上させることができる。更に、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

上記帯電防止層のバインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

上記帯電防止層形成用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。

上記帯電防止層形成用組成物の調製方法は、上述した成分を溶剤とともに均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合分散することができる。
上記溶剤としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。

上記帯電防止層の形成方法は、公知の方法に従うとよい。例えば、上述したハードコート層の形成方法と同様の各種方法を用いることができる。また、得られた被膜の硬化方法は、上記組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、被膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。

第一の本発明の光学積層体は、更に低屈折率層を有していてもよい。上記低屈折率層は、上記ハードコート層又は上記帯電防止層の上に形成されることが好ましい。これによって、光学積層体における反射防止機能等の光学特性を良好なものとすることができる。また、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の上に低屈折率層を形成した場合、ハードコート層と低屈折率層との層間密着性にも優れるものであり、かつ、帯電防止性、硬度、光学特性にも優れるものである。

上記低屈折率層は、上記ハードコート層よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい態様によれば、上記ハードコート層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。

上記低屈折率層は、１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。

上記フッ素系材料とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。上記重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、公知のものを使用することができる。

上記溶剤としては、上述の帯電防止層の形成において使用できる溶剤と同様の溶剤を挙げることができる。なかでも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。

上記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合分散することができる。
低屈折率層の形成方法は、公知の方法に従うとよい。例えば、上記ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平７−１３３１０５、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調整することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

被膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、下限が８ｎｍであり上限が１００ｎｍであることがより好ましく、下限が１０ｎｍであり上限が８０ｎｍであることが更に好ましい。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂１００質量部に対して、通常０．１〜５００質量部程度、好ましくは１０〜２００質量部程度とするのが好ましい。

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましく、より好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）である。上記範囲の粘度とすることにより、可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、上記ハードコート層で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Ａは、下記式（Ｉ）：
ｄ_Ａ＝ｍλ／（４ｎ_Ａ） （Ｉ）
（上記式中、
ｎ_Ａは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（ＩＩ）：
１２０＜ｎ_Ａｄ_Ａ＜１４５ （ＩＩ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

第一の本発明の光学積層体は、防眩層を有していてもよい。上記ハードコート層が防眩層を兼ねる場合、別の層として上記ハードコート層と上記光透過性基材との間、又は、上記ハードコート層の上に設ける場合がある。
上記防眩層は、表面に凹凸形状を有し、外光による像の映り込みや反射、面ギラ（シンチレーション）等による視認性の低下を抑制するための層である。
上記表面に凹凸形状を形成する方法としては、拡散材によって凹凸を形成する方法やエンボス賦型処理を施すことにより形成する方法を挙げることができる。
上記防眩層はバインダー樹脂、拡散材及びその他の成分を溶剤に溶解又は分散させて得られる防眩層形成用組成物により形成することができる。

上記防眩層のバインダー樹脂としては、上述した帯電防止層の形成に使用できる樹脂と同様のものを挙げることができる。
上記拡散材としては、上述のハードコート層で使用できる拡散材と同様のものを挙げることができる。
上記溶剤としては、上述の低屈折率層の形成で使用できる溶剤と同様のものを挙げることができる。
上記防眩層の形成方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いればよく、例えば、上述のハードコート層の形成方法と同様の方法が挙げられる。

第一の本発明による光学積層体は、光透過性基材及びハードコート層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、上述した帯電防止層、低屈折率層、防眩層の他に、他のハードコート層、防汚層、高屈折率層、中屈折率層等を備えてなるものであってよい。上記防汚層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される、防汚剤、高屈折率剤、中屈折率剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。

第一の本発明の光学積層体の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。

第一の本発明の光学積層体のヘイズは、１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。また、防眩性を付与した場合の上記ヘイズは、好ましくは０．５〜７５％であり、より好ましくは１〜６５％である。防眩性がある場合、このヘイズは、凹凸に起因するものと、内部拡散に起因するもの両方を含む。上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。

第一の本発明の光学積層体の表面抵抗値は、１０^１１Ω／□以下であることが好ましい。
１０^１１Ω／□を超えると、目的とする帯電防止性能が発現しなくなるおそれがある。上記表面抵抗値は、１０^９Ω／□以下であることがより好ましい。
上記表面抵抗値は、表面抵抗値測定器（三菱化学社製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定することができる。

また、本発明の光学積層体は、最表面における飽和帯電量が２．０ｋＶ未満であることが好ましい。
本発明の光学積層体において、上述の表面抵抗値が１０^１１Ω／□を超える場合であっても、上記飽和帯電量が上述した範囲の値であると、光学積層体の最表面において埃が付着することを有効に防止することができる。
上記飽和帯電量が２．０ｋＶ以上であると、特にＩＰＳ モードの液晶ディスプレイにおいては、水平方向に配された電極間に電位をかけるので、液晶ディスプレイの表面の帯電により、表示が乱れやすくなるおそれがある。
上記飽和帯電量は、１．５ｋＶ以下であることがより好ましく、１．０ｋＶ以下であることが更に好ましく、０．５ｋＶ以下であることが最も好ましい。１．０ｋＶ以下であると、ＩＰＳモードの表面フィルムとして特に有効である。

上記飽和帯電量は、ＪＩＳ Ｌ１０９４に準拠して測定することができ、例えば、半減期測定法を挙げることができる。上記半減期測定法は、スタティックオネストメータＨ−０１１０（シシド静電気社製、測定条件；印加電圧１０ｋＶ、距離２０ｍｍ、２５℃、４０％ＲＨ）等の市販の測定器を使用して測定することができる。
具体的な測定方法としては、例えば、試料（４ｃｍ×４ｃｍ）をターンテーブルに固定し回転させて電圧を印可し、上記測定器により試料表面の耐電圧値（ｋＶ）を測定する。時間に対する耐電圧の減衰曲線を描くことにより、半減期（帯電量が初期値の半分に達するまでの時間）と飽和帯電量を測定できる。

第一の本発明の光学積層体の硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。なお、本発明の光学積層体を画像表示装置の最表面に用いる場合には、上記硬度は２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

第一の本発明の光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。図１は、上から順にハードコート層１及び光透過性基材２を備えてなる光学積層体を示す。本発明の光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層を有するものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。

第一の本発明の光学積層体を製造する方法は、光透過性基材上に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する。
上記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものである。
上記ハードコート層形成用組成物は、上述したものと同様のものを挙げることができる。上記ハードコート層を形成する方法については、上述した形成方法と同様の方法を挙げることができる。このような第一の本発明の光学積層体を製造する方法もまた、本発明の一つである。

第二の本発明は、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ、上記ハードコート層における上記４級アンモニウム塩の含有量は、０．１〜１０質量％であることを特徴とする光学積層体である。このため、帯電防止性能、硬度、及び、層間密着性の全てにおいて優れた光学積層体とすることができる。

すなわち、ハードコート層に含まれる上記４級アンモニウム塩の含有量が０．１〜１０質量％である場合は、帯電防止層を更に設けることにより、少量の添加で、顕著に帯電防止性能を向上させることができるのである。また。このような第二の本発明の構成によれば、光学特性に悪影響を与えず、強固な層を形成することができ硬度を充分なものとすることもできるのである。上記４級アンモニウム塩の含有量は、０．１〜５質量％であることがより好ましい。

第二の本発明の光学積層体は、ハードコート層中に４級アンモニウム塩を上述の特定量含む点と、帯電防止層を有する点以外は、上述の第一の本発明の光学積層体と同様の材料及び形成方法からなるものである。上記帯電防止層は、光透過性基材とハードコート層との間に位置していてもよいし、光透過性基材上に積層したハードコート層の上に位置していてもよい。このような構成であっても、所望の帯電防止性能、硬度及び層間密着性を得ることができる。

第二の本発明の光学積層体は、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、防眩層、低屈折率層、防汚層、高屈折率層、中屈折率層、他のハードコート層等を備えてなるものであってもよい。上記防眩層及び低屈折率層としては、上述した第一の本発明の光学積層体で形成することのできる防眩層及び低屈折率層と同じものが挙げられる。上記防汚層、高屈折率層、中屈折率層、他のハードコート層もまた、上述の第一の本発明の光学積層体で挙げたものと同様のものを使用することができる。

第二の本発明の光学積層体において、全光線透過率、ヘイズ、表面抵抗値、飽和帯電量及び硬度は、上述した第一の本発明の光学積層体のものとそれぞれ同様であることが好ましい。

第二の本発明の光学積層体の一態様を、図２及び図３に示す。図２は、上から順に帯電防止層３、ハードコート層１及び光透過性基材２を備えてなる光学積層体を示す。図３は、上から順にハードコート層１、帯電防止層３、光透過性基材２を備えてなる光学積層体を示す。本発明の光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層を有するものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。

第二の本発明の光学積層体を製造する方法は、光透過性基材上に、帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程、及び、上記帯電防止層上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有するものである。
また、第二の本発明の光学積層体を製造する方法は、光透過性基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、及び、上記ハードコート層上に帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程を有するものであってもよい。
上記ハードコート層形成用組成物及び上記帯電防止層形成用組成物は、上述の第一の本発明において使用できるものと同様のものを使用することができる。
上記ハードコート層及び上記帯電防止層の形成は、上述したそれぞれの層の形成方法と同様の方法で形成することができる。
これらの第二の本発明の光学積層体を製造する方法もまた、本発明の一つである。

第一の本発明の光学積層体及び第二の本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を、光透過性基材におけるハードコート層が存在する面と反対側の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板もまた、本発明の一つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。

上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、帯電防止性能、硬度、ヘイズ等の光学特性の全てにおいて優れたものとなる。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

以下の製造例１〜２２に示した配合によってハードコート層形成用組成物１〜２２を調製した。
＜製造例１ ハードコート層形成用組成物１＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例２ ハードコート層形成用組成物２＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ４．５質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） １質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に１．０％存在する）

＜製造例３ ハードコート層形成用組成物３＞
ウレタンアクリレート（ＢＳ（ビームセット）５７７；荒川化学社製、６官能、重量平均
分子量１０００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例４ ハードコート層形成用組成物４＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート（アロニックスＭ３１５；東亞合成社製、３官能、
重量平均分子量４２３） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例５ ハードコート層形成用組成物５＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例６ ハードコート層形成用組成物６＞
ウレタンアクリレート
（ＵＮ３３２０ＨＳＢＡ；根上工業社製、１５官能、重量平均分子量５０００）２質量部
（ＢＳ５７７；荒川化学社製、６官能、重量平均分子量１０００） ２質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） １．５質量部
ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４００
〜４３０） １．５質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例７ ハードコート層形成用組成物７＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） １．３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２．７質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５質量部
シクロヘキサノン １．６質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ７．２質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に１０．１％存在する）

＜製造例８ ハードコート層形成用組成物８＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ０．３７質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ０．９３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２．６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５質量部
シクロヘキサノン １．６質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ７．２質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に９．９％存在する）

＜製造例９ ハードコート層形成用組成物９＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ；日本化薬社製） １．６質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ３．２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１７質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０４７質量部
アクリル−スチレンビーズ（ＸＸ−１３６Ｃ；積水化成品工業社製、平均粒子径５．５μ
ｍ、屈折率１．５５） ０．６質量部
不定形シリカ（平均粒子径１．７μｍ） ０．０８質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（トルエン希釈１０％溶液、信越化学社製）
０．００８質量部
シクロヘキサノン １．９質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） １．４質量部
ｎ−ブタノール ２．８質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ３．３質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に８．２％存在する）

＜製造例１０ ハードコート層形成用組成物１０＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ０．３２質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ；日本化薬社製） １．２８質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ３．２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１７質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０４７質量部
アクリル−スチレンビーズ（ＸＸ−１３６Ｃ；積水化成品工業社製、平均粒子径５．５μ
ｍ、屈折率１．５５） ０．６質量部
不定形シリカ（平均粒子径１．７μｍ） ０．０８質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（トルエン希釈１０％溶液、信越化学社製）
０．００８質量部
シクロヘキサノン １．９質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） １．４質量部
ｎ−ブタノール ２．８質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ３．３質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に８．２％存在する）

＜製造例１１ ハードコート層形成用組成物１１＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．２８質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１４質量部
不定形シリカ（平均粒子径１．７μｍ） ０．４８質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（トルエン希釈１０％溶液、信越化学社製）
０．０１６質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に２．９％存在する）

＜製造例１２ ハードコート層形成用組成物１２＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ０．４質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ４．４質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５２質量部
シクロヘキサノン １．９質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ６．２質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に１７．１％存在する）

＜製造例１３ ハードコート層形成用組成物１３＞
ウレタンアクリレート（ＵＮ９５２；根上工業社製、１０官能、重量平均分子量６５００
〜１１０００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例１４ ハードコート層形成用組成物１４＞
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ；ダイセル・サイテック社製、２官
能、重量平均分子量２２６） ６質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．７％存在する）

＜製造例１５ ハードコート層形成用組成物１５＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
トルエン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例１６ ハードコート層形成用組成物１６＞
ウレタンアクリレート（ＵＸ８１０１Ｄ；日本化薬社製、２官能、重量平均分子量５００
０以上） ８質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に５．５％存在する）

＜製造例１７ ハードコート層形成用組成物１７＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ６．８質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ０．２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２％存在する）

＜製造例１８ ハードコート層形成用組成物１８＞
帯電防止剤（商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ、ＡＴＯ分散液、ザ・インクテック社製）
９．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） １００質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
シクロヘキサノン １００質量部

＜製造例１９ ハードコート層形成用組成物１９＞
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ５．１質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．０５２質量部
シクロヘキサノン １．８質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ６．０質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に２０．２％存在する）

＜製造例２０ ハードコート層形成用組成物２０＞
ウレタンアクリレート（Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９；ダイセル・サイテック社製、６官能
、重量平均分子量８００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例２１ ハードコート層形成用組成物２１＞
ウレタンアクリレート（Ｅｂｅｃｒｙｌ ８２１０；ダイセル・サイテック社製、４官能
、重量平均分子量６００） ４質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ；日本化薬社製、６官能、重量平
均分子量５２４） ３質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

＜製造例２２ ハードコート層形成用組成物２２＞
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ビスコート４００；大阪有機化学社製、４官
能、重量平均分子量３５２．３） ７質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン ７質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に６．１％存在する）

実施例１ 光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成させて、光学積層体を調製した。

実施例２〜１１
ハードコート層形成用組成物１の代わりに組成物２〜１１を使用し、表１に示す塗布量で帯電防止性ハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

実施例１２
実施例１で作製したハードコート層の上に、下記のオーバーコートＡ処方を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）のオーバーコート層を形成させて、光学積層体を調製した。
＜製造例 オーバーコート（ハードコート）Ａ処方＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ３０；日本化薬社製） １０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．４質量部
メチルエチルケトン １５質量部

実施例１３
実施例１２におけるオーバーコートＡ処方の代わりに下記のオーバーコートＢ処方を用いた点以外は、実施例１２と同様にして光学積層体を製造した。
＜製造例 オーバーコート（低屈折率樹脂）Ｂ処方＞
「空隙を有する」処理シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０質量％溶液；メチル
イソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） １１．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １．５８質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１質量部
シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学社製） ０．１質量部
メチルイソブチルケトン ３２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ２０質量部

実施例１４
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物７を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、３．０ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成した。
次に、上記帯電防止性ハードコート層の上に下記のオーバーコートＣ処方を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、７．０ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）のオーバーコート層を形成させて、光学積層体を調製した。
＜製造例 オーバーコート（防眩層）Ｃ処方＞
ポリマーアクリレート（ビームセットＢＳ３７１；荒川化学社製、重量平均分子量２万）
４質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ；日本化薬社製） ６質量部
アクリル−スチレンビーズ（ＳＳＸ−４２ＣＳＳ；積水化成品工業社製、平均粒子径３．
５μｍ、屈折率１．５５） ０．８質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．６６質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１１質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（トルエン希釈１０％溶液、信越化学社製）
０．００５質量部
トルエン １５．９質量部
シクロヘキサノン ７．６質量部
メチルイソブチルチルケトン １．８質量部

実施例１５
ハードコート層形成用組成物７の代わりに、ハードコート層形成用組成物８を用いた点以外は、実施例１４と同様にして光学積層体を調製した。

実施例１６
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物９を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、３．５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成した。
次に、上記帯電防止性ハードコート層の上に下記のオーバーコートＤ処方を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、４．０ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）のオーバーコート層を形成させて、光学積層体を調製した。
＜製造例 オーバーコート（クリア層）Ｄ処方＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ５．０質量部
ポリマーアクリレート（ＢＳ３７１；荒川化学社製、重量平均分子量２万）５．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．６０質量部
重合開始剤（イルガキュア９０７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．１００質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル（トルエン希釈１０％溶液、信越化学社製）
０．００２質量部
トルエン ９．３質量部
シクロヘキサノン ５．６質量部
メチルイソブチルチルケトン ３．７質量部

実施例１７
ハードコート層形成用組成物９の代わりに、ハードコート層形成用組成物１０を用いた点以外は、実施例１６と同様にして光学積層体を調製した。

実施例１８
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１１を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、３．５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成した。
次に、上記帯電防止性ハードコート層の上に、実施例１３と同様にしてオーバーコートＢ処方を用いてオーバーコートを形成し、光学積層体を調製した。

実施例１９
ハードコート層形成用組成物７の代わりにハードコート層形成用組成物１２を使用した点以外は、実施例１４と同様にして光学積層体を調製した。

実施例２０
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム：富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１３を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成させて、光学積層体を調製した。

実施例２１
ハードコート層形成用組成物１３の代わりにハードコート層形成用組成物２０を使用した点以外は、実施例２０と同様にして光学積層体を調製した。

実施例２２
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム：富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１を塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２０ｍＪになるように照射して塗膜をハーフキュアさせることにより、１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止性ハードコート層を形成させて、光学積層体を調製した。
更に、その上に下記の低屈折率層形成組成物１を膜厚が約１００ｎｍになるように塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、反射防止光学積層体を調整した。
＜製造例 低屈折率層形成組成物１＞
中空状処理シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０質量％溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径５０ｎｍ） ７３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １０質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
０．３５質量部
シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学社製） １質量部
メチルイソブチルチルケトン ３２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） １６１質量部

実施例２３及び２４
ハードコート層形成用組成物１の代わりにハードコート層形成用組成物２１又は２２を使用した点以外は、実施例２２と同様にして光学積層体を調製した。

比較例１〜５
ハードコート層形成用組成物１の代わりに上述したハードコート層形成用組成物１４〜１８を使用した以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

比較例６
ハードコート層形成用組成物７の代わりにハードコート層形成用組成物１９を使用した点以外は、実施例１４と同様にして光学積層体を調製した。

実施例、比較例で得られた光学積層体を以下の方法により評価した。結果を表１に示した。
（評価１：表面抵抗値）
表面抵抗値（Ω／□）は、表面抵抗値測定器（三菱化学社製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて印加電圧１０００Ｖで測定した。

（評価２：飽和帯電圧）
飽和帯電圧は、スタティックオネストメータＨ−０１１０（シシド静電気社製）を用いて、印加電圧１０ｋＶ、距離２０ｍｍ、２５℃、４０％ＲＨの条件下で、ＪＩＳ Ｌ １０９４に従い測定した。
なお、飽和帯電圧が１以下であると、表面電荷の影響を受けやすいＩＰＡモードにおいても特に有効に使用することができる。

（評価３：干渉縞の発生の有無）
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を評価した。
評価は、干渉縞がなく良好な場合を「なし」、干渉縞が発生した場合を「あり」とした。

（評価４：鉛筆硬度試験）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度Ｈ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。

（評価５：耐スチールウール）
光学積層体の最表面を、＃００００番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重（２００〜１２００ｇの範囲内で２００ｇ毎に変化させた）で１０往復摩擦し、その後の塗膜に傷がついたかどうかを蛍光灯下で目視し下記の基準にて評価した。
評価基準
評価◎：１２００g荷重で塗膜に傷が全くなかった。
評価○：８００ｇ荷重で塗膜に傷が全くなかった。
評価×：８００ｇ荷重で塗膜に傷がついた。

（評価６：塗膜密着度）
塗膜密着度は、クロスカット碁盤目試験により行い、元のカット部数１００に対して、粘着テープを剥がした後に基材上に残存したカット部数を計測した。なお、残存したカット部数が１００である場合は合格とし、１箇所でも剥がれのある場合は不合格と判断した。また、１箇所分の剥がれには満たないが、カットエッジで微小な欠けがみられる場合は「エッジ欠け」とし、不合格と判断した。

（評価７：全光線透過率）
全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従い測定した。全光線透過率が９０％以上を良好と判断した。

（評価８：ヘイズ値）
ヘイズ値（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従い測定した。
防眩性のない光学積層体は、０．５％未満の場合を良好とした。防眩性のある光学積層体については、最初に防眩材を添加しない状態の樹脂組成物で、ヘイズが０．５％未満である材料を選択して実施例、比較例としているため、ヘイズ値に関しては全て良好である。

表１より、実施例の光学積層体は、干渉縞が発生せず、帯電防止性能、硬度、光学特性（光透過率及びヘイズ）の全てにおいて優れるものであった。一方、比較例の光学積層体は、上記評価のすべてにおいて優れるものはなかった。

実施例２５〜３５、比較例７〜１３
以下の製造例２３〜３７に示した配合によって帯電防止層形成用組成物１〜５、並びに、ハードコート層形成用組成物２３〜３２を調製した。
＜製造例２３ 帯電防止層形成用組成物１＞
帯電防止剤（ＡＴＯ分散液、ザ・インクテック社製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ、固形分
４２％、ＰＶ３００） ９．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ０．０５質量部
シクロヘキサノン ４５質量部
重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名；イルガキュア１８４）
０．１５質量部

＜製造例２４ 帯電防止層形成用組成物２＞
帯電防止剤（ＡＴＯ分散液、ザ・インクテック社製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ、固形分
４２％、ＰＶ３００） ９．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ０．５質量部
シクロヘキサノン ４５質量部
重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名；イルガキュア１８４）
０．１５質量部

＜製造例２５ 帯電防止層形成用組成物３＞
帯電防止剤（ポリチオフェン分散液、出光テクノファイン社製 ＴＡ２０１０）
３質量部（固形分１００％換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） １質量部
イソプロピルアルコール ５０質量部
エタノール ５０質量部
重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名；イルガキュア１８４）
０．０２質量部

＜製造例２６ 帯電防止層形成用組成物４＞
帯電防止剤（アンチモン酸亜鉛分散液、ＺｎＳｂ_２Ｏ_６ ６０％分散メタノールゾル、日
産化学社製、セルナックスＣＸ−Ｚ６９３−Ｆ） １０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） １８質量部
メタノール ４５０質量部
重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名；イルガキュア１８４）
０．７質量部

＜製造例２７ 帯電防止層形成用組成物５＞
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２０質量部
メタノール ４５０質量部
重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名；イルガキュア１８４）
０．７質量部

＜製造例２８ ハードコート層形成用組成物２３＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４９質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
１８） ４９質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２０％存在する）

＜製造例２９ ハードコート層形成用組成物２４＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量Ｍｗ
２０００） ４０質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
１８） ４０質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に２．２３％存在する）

＜製造例３０ ハードコート層形成用組成物２５＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量Ｍｗ
２０００） ３０質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
１８） ３０質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ４０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に５．００％存在する）

＜製造例３１ ハードコート層形成用組成物２６＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ４９質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
１８） ４９質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
酢酸メチル １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２０％存在する）

＜製造例３２ ハードコート層形成用組成物２７＞
ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７；荒川化学社製、６官能、重量平均分子量１０００）
４９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ３０；日本化薬社製、３官能、重量平均
分子量２９８） ４９質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２０％存在する）

＜製造例３３ ハードコート層形成用組成物２８＞
ウレタンアクリレート（アートレジンＵＮ３３２０ＨＳＢＡ；根上工業社製、１５官能、
重量平均分子量５０００） ４９質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート（Ｍ３１５；東亞合成社製、３官能、重量平均分子
量４２３） ４９質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２０％存在する）

＜製造例３４ ハードコート層形成用組成物２９＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ５０質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
２８） ５０質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ０．２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．０２％存在する）

＜製造例３５ ハードコート層形成用組成物３０＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ５０質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
２８） ５０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に存在しない）

＜製造例３６ ハードコート層形成用組成物３１＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製、１０官能、重量平均分子量２０
００） ３０質量部
ポリエステルトリアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製、３官能、重量平均分子量４
２８） ３０質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ４０質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
トルエン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に５．００％存在する）

＜製造例３７ ハードコート層形成用組成物３２＞
ウレタンアクリレート（ＵＶ２０００Ｂ；日本合成社製、２官能、重量平均分子量１３０
００） ４９質量部
ラウリルアクリレート（ライトアクリレート；共栄社化学社製、１官能、重量平均分子量
２４０） ４９質量部
帯電防止剤（Ｈ６１００；三菱化学社製、重量平均分子量１５００、固形分５０％、４級
アンモニウム塩成分は固形分中２１％） ２質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（※４級アンモニウム塩成分は固形分中に０．２０％存在する）

実施例２５ 光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層形成用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、１ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止層を形成させた。次いで、得られた帯電防止層上にハードコート層形成用組成物２３を塗布し、帯電防止層形成時と同様に乾燥し、紫外線を積算光量が１５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させ１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）のハードコート層を形成し、これにより光透過性基材、帯電防止層、ハードコート層を順に有する光学積層体を調製した。

実施例２６〜３４、比較例７〜１３
実施例２５において帯電防止層形成用組成物１及びハードコート層形成用組成物２３の代わりに、表２に示す帯電防止層形成用組成物及びハードコート層形成用組成物を使用した以外は、実施例２５と同様にして光学積層体を製造した。

実施例３５
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物２４を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が１５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させ１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）のハードコート層を形成した。次いで、得られたハードコート層上に帯電防止層形成用組成物２を塗布し、ハードコート層形成時と同様に乾燥し、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、１ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の帯電防止層を形成し、これにより光透過性基材、ハードコート層、帯電防止層を順に有する光学積層体を調製した。

実施例２５〜３５、比較例７〜１３で得られた光学積層体を以下の方法により評価した。結果を表２に示した。
（評価１：表面抵抗値）
表面抵抗値（Ω／□）は、表面抵抗値測定器（三菱化学社製、製品番号；Ｈｉｒｅｓｔａ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて印加電圧１０００Ｖで測定した。

（評価２：飽和帯電圧）
飽和帯電圧は、スタティックオネストメータＨ−０１１０（シシド静電気社製）を用いて、印加電圧１０ｋＶ、距離２０ｍｍ、２５℃、４０％ＲＨの条件下で、ＪＩＳ Ｌ １０９４に従い測定した。
なお、飽和帯電圧が１以下であると、表面電荷の影響を受けやすいＩＰＡモードにおいても特に有効に使用することができる。

（評価３：干渉縞の発生の有無）
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を評価した。
評価は、干渉縞がなく良好な場合を「なし」、干渉縞が発生した場合を「あり」とした。

（評価４：塗膜密着度）
塗膜密着度は、クロスカット碁盤目試験により行い、元のカット部数１００に対して、粘着テープを剥がした後に基材上に残存したカット部数を計測した。なお、残存したカット部数が１００である場合は合格とし、１箇所でも剥がれのある場合は不合格と判断した。また、１箇所分の剥がれには満たないが、カットエッジで微小な欠けがみられる場合は「エッジ欠け」とし、不合格と判断した。

（評価５：鉛筆硬度試験）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度Ｈ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。

表２より、実施例の光学積層体は、帯電防止性能が良好であり、干渉縞の発生がなく、密着性、硬度において全て優れるものであった。一方、比較例の光学積層体は、これらの評価の全てにおいて優れるものはなかった。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。

第一の本発明の光学積層体の断面の概略図の一例である。 第二の本発明の光学積層体の断面の概略図の一例である。 第二の本発明の光学積層体の断面の概略図の一例である。

符号の説明

１ ハードコート層
２ 光透過性基材
３ 帯電防止層

Claims (15)

1. 光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ、
   前記ハードコート層における前記４級アンモニウム塩の含有量が、０．５〜１８質量％である
   ことを特徴とする光学積層体。
2. 光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を有する光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、重量平均分子量が１０００〜５万である４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むハードコート層形成用組成物によって形成された樹脂層であり、かつ
   前記ハードコート層における前記４級アンモニウム塩の含有量は、０．１〜１０質量％である
   ことを特徴とする光学積層体。
3. ４級アンモニウム塩は、光反応性不飽和結合を有する化合物である請求項１又は２記載の光学積層体。
4. ハードコート層形成用組成物は、更に、重量平均分子量１０００以上である６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物を含む請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. 重量平均分子量１０００以上である６官能以上の（メタ）アクリレート系化合物は、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物である請求項４記載の光学積層体。
6. 重量平均分子量１０００以上である６官能以上のウレタン（メタ）アクリレート系化合物と、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物との混合比は、固形分質量比で５／９５〜９０／１０である請求項５記載の光学積層体。
7. 光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
8. 浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
9. 更に低屈折率層を有する請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体。
10. 更に防汚層を有する請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学積層体。
11. 光透過性基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
    前記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものである
    ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
12. 光透過性基材上に、帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程、及び、前記帯電防止層上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
    前記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものである
    ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
13. 光透過性基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程、及び、前記ハードコート層上に帯電防止層形成用組成物を塗布して帯電防止層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
    前記ハードコート層形成用組成物は、重量平均分子量１０００〜５万の４級アンモニウム塩、重量平均分子量７００以下である３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物、及び、浸透性溶剤を含むものである
    ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
14. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
    前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
15. 最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９若しくは１０記載の光学積層体、又は、請求項１４記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。

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