JP2008286735A - 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 - Google Patents
蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008286735A JP2008286735A JP2007134042A JP2007134042A JP2008286735A JP 2008286735 A JP2008286735 A JP 2008286735A JP 2007134042 A JP2007134042 A JP 2007134042A JP 2007134042 A JP2007134042 A JP 2007134042A JP 2008286735 A JP2008286735 A JP 2008286735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- height
- eds
- head
- coordinates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】蛍光X線分析装置で、試料上の測定点での位置を測定する位置検出器と、試料上の測定点の試料の高さを測定するラインセンサ3と、前記位置検出器で検出した試料上の位置座標と前記ラインセンサ3で測定した試料の高さを記録するメモリ14と、該メモリ14に記憶されている位置座標と試料の高さに基づき、EDSヘッド2の高さを制御する高さ制御手段13と、を有して構成される。
【選択図】図5
Description
(2)請求項2記載の発明は、蛍光X線分析装置で、試料上の測定点での位置を測定する位置検出器と、試料上の測定点の試料の高さを測定するラインセンサと、前記位置検出器で検出した試料上の位置座標と前記ラインセンサで測定した試料の高さを記録するメモリと、該メモリに記憶されている位置座標と試料の高さに基づき、EDSヘッドの高さを制御する高さ制御手段と、を有して構成されることを特徴とする。
(2)請求項2記載の発明によれば、位置検出器で検出した試料上の位置座標とラインセンサで測定した試料の高さを記録するメモリと、該メモリに記憶されている位置座標と試料の高さに基づき、EDSヘッドの高さを制御する高さ制御手段とを具備することで、最適なX線強度を得ることができる。
1)EDSヘッドがない状態で地殻コア表面の試料高さを測定する。
2)測定点のデータをメモリに記憶する。
3)EDSヘッドを試料位置に近づけて測定を行なう。
2a X線管
2b 検出器
3 ラインセンサ
5 試料
10 マルチチャネルアナライザ
11 制御装置
12 データ処理装置
13 モータ駆動ユニット
14 メモリ
Claims (2)
- 蛍光X線分析装置で、試料上の測定点での位置と試料の高さを試料移動ステージの座標とラインセンサで測定し、
測定した座標と試料の高さをメモリに記憶させておき、
前記記憶されている測定した座標と試料の高さに基づき、EDSヘッドの高さを制御し、最適な検出感度を得ることを特徴とする蛍光X線分析装置のEDSヘッド保護方法。 - 蛍光X線分析装置で、試料上の測定点での位置を測定する位置検出器と、
試料上の測定点の試料の高さを測定するラインセンサと、
前記位置検出器で検出した試料上の位置座標と前記ラインセンサで測定した試料の高さを記録するメモリと、
該メモリに記憶されている位置座標と試料の高さに基づき、EDSヘッドの高さを制御する高さ制御手段と、
を有して構成される蛍光X線分析装置のEDSヘッド保護機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007134042A JP2008286735A (ja) | 2007-05-21 | 2007-05-21 | 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007134042A JP2008286735A (ja) | 2007-05-21 | 2007-05-21 | 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008286735A true JP2008286735A (ja) | 2008-11-27 |
Family
ID=40146583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007134042A Pending JP2008286735A (ja) | 2007-05-21 | 2007-05-21 | 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008286735A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010071969A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-04-02 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置及びx線分析方法 |
JP2016065820A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | アンリツインフィビス株式会社 | X線検査装置 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5359455A (en) * | 1976-11-09 | 1978-05-29 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Radiation measuring apparatus |
JPS6263843A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-20 | Hitachi Medical Corp | 大型貨物x線検査装置 |
JPH0373834A (ja) * | 1989-05-16 | 1991-03-28 | Mitsubishi Materials Corp | 金属分析方法および分析装置 |
JPH07131191A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 電子部品自動装着装置 |
JPH08273580A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Jeol Ltd | 自動焦点合わせ機構付き電子プローブマイクロアナライザ |
JPH0996615A (ja) * | 1995-07-21 | 1997-04-08 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザーによるx線分析方法及び電子プローブマイクロアナライザー |
JPH09283071A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-10-31 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JP2000149851A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-30 | Shimadzu Corp | 電子プローブマイクロアナライザー |
JP2002203507A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 凹凸像形成装置及び電子線分析装置 |
JP2004069407A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2005147984A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Sii Nanotechnology Inc | 検出器移動機構を付加した蛍光x線装置 |
JP2006189281A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置及び表面検査方法 |
JP2006208013A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Jfe Steel Kk | 金属帯の表面処理皮膜付着量の測定装置及び測定方法 |
-
2007
- 2007-05-21 JP JP2007134042A patent/JP2008286735A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5359455A (en) * | 1976-11-09 | 1978-05-29 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Radiation measuring apparatus |
JPS6263843A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-20 | Hitachi Medical Corp | 大型貨物x線検査装置 |
JPH0373834A (ja) * | 1989-05-16 | 1991-03-28 | Mitsubishi Materials Corp | 金属分析方法および分析装置 |
JPH07131191A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 電子部品自動装着装置 |
JPH08273580A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Jeol Ltd | 自動焦点合わせ機構付き電子プローブマイクロアナライザ |
JPH0996615A (ja) * | 1995-07-21 | 1997-04-08 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザーによるx線分析方法及び電子プローブマイクロアナライザー |
JPH09283071A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-10-31 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JP2000149851A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-30 | Shimadzu Corp | 電子プローブマイクロアナライザー |
JP2002203507A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Shimadzu Corp | 凹凸像形成装置及び電子線分析装置 |
JP2004069407A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP2005147984A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Sii Nanotechnology Inc | 検出器移動機構を付加した蛍光x線装置 |
JP2006189281A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置及び表面検査方法 |
JP2006208013A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Jfe Steel Kk | 金属帯の表面処理皮膜付着量の測定装置及び測定方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010071969A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-04-02 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置及びx線分析方法 |
JP2016065820A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | アンリツインフィビス株式会社 | X線検査装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2963453B1 (en) | Mobile back scattering imaging security inspection apparatus and method | |
JP2014182123A (ja) | 複数画像の計測 | |
JP5713357B2 (ja) | X線応力測定方法とその装置 | |
TWI439664B (zh) | 放射線厚度計 | |
JP2019066336A (ja) | X線回折測定装置及びx線回折測定方法 | |
JP5563995B2 (ja) | 電子プローブマイクロアナライザにおけるデータ処理方法及び電子プローブマイクロアナライザ | |
JP6607127B2 (ja) | X線残留応力測定方法及びx線残留応力測定システム | |
JP6270215B2 (ja) | X線分析装置の光軸調整装置 | |
JP2008286735A (ja) | 蛍光x線分析装置のedsヘッド保護方法及び保護機構 | |
US20230408415A1 (en) | Auto-focussing libs system | |
JP6010547B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP7033246B2 (ja) | 搬送物の応力測定装置 | |
JP5013525B2 (ja) | X線回折測定方法及びx線回折装置 | |
JP2009047440A (ja) | 非破壊検査装置及び非破壊検査方法 | |
JP2003294848A (ja) | 放射線校正装置 | |
JP4853961B2 (ja) | 光束の拡がり角測定装置 | |
JPH07270346A (ja) | 微小部分析方法 | |
JP2015165228A (ja) | X線蛍光を用いた測定対象の測定方法 | |
JP2006275901A (ja) | 結晶評価装置および結晶評価方法 | |
JP6674835B2 (ja) | 原子力圧力容器のシート面検査装置 | |
US10697907B2 (en) | Metrology measuring apparatus | |
WO2019113955A1 (zh) | 膜下缺陷检测方法及膜下缺陷检测设备 | |
JP6818224B2 (ja) | X線回折測定装置 | |
JP2006177752A (ja) | X線分析装置 | |
JP5036644B2 (ja) | 表面検査方法、及びびびりマーク検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110913 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20111110 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120207 |