JP2008224754A - 分割逐次近接露光方法及び分割逐次近接露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】分割逐次近接露光装置PEは、基板Wを保持する基板保持部21と、サイズの異なる複数の露光パターンPを有するマスクMを保持するマスク保持部12と、パターン露光用の光をマスクMを介して基板Wに照射する照射手段40と、マスクMの中間位置Cを越える位置まで移動してパターン露光用の光を部分的に遮光する下側及び上側アパーチャ91、92、93、94を有するマスクアパーチャ機構19を備える。
【選択図】図1
Description
(1) 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、サイズの異なる第1及び第2の露光パターンを少なくとも有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記マスクの露光パターンを前記基板上の複数の所定位置に対向させるように前記基板保持部と前記マスク保持部とを相対的に移動させる送り機構と、前記マスクと前記基板との対向面間のギャップを調整するギャップ調整機構と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備えた分割逐次近接露光装置を用いた分割逐次近接露光方法であって、
前記マスクアパーチャ機構のアパーチャ部材を前記マスクの中間位置を越える位置まで移動させて、前記第1及び第2の露光パターンの一方を遮光する工程と、
前記第1及び第2の露光パターンの一方を遮光した状態で、前記第1及び第2の露光パターンの他方を前記照射手段によって前記基板に露光転写する工程と、
を備えることを特徴とする分割逐次近接露光方法。
(2) 前記基板と前記マスクの対向面の周囲にアライメントカメラ及びギャップセンサが配置されるように、該アライメントカメラ及び該ギャップセンサを有するセンサキャリアを前記マスクの中間位置を越える位置まで移動させることを特徴とする(1)に記載の分割逐次近接露光方法。
(3) 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、マスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記マスクの露光パターンを前記基板上の複数の所定位置に対向させるように前記基板保持部と前記マスク保持部とを相対的に移動させる送り機構と、前記マスクと前記基板との対向面間のギャップを調整するギャップ調整機構と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備える分割逐次近接露光装置であって、
前記マスクアパーチャ機構のアパーチャ部材は、前記マスクの中間位置を越える位置まで移動可能であることを特徴とする分割逐次近接露光装置。
(4) アライメントカメラ及びギャップセンサを有し、該アライメントカメラ及び該ギャップセンサを少なくとも前記マスクの中間位置を越える位置まで移動可能なセンサキャリアを更に備えることを特徴とする(3)に記載の分割逐次近接露光装置。
(5) 前記マスク保持部に保持される前記マスクは、サイズの異なる第1及び第2の露光パターンを少なくとも有することを特徴とする(3)または(4)に記載の分割逐次近接露光装置。
なお、「前記第1及び第2の露光パターンの一方を遮光した状態で、前記第1及び第2の露光パターンの他方を前記照射手段によって前記基板に露光転写する」とは、第1及び第2の露光パターンが複数あるような場合には、一方の露光パターンと他方の露光パターンの一部を遮光した状態で、他方の露光パターンの残りを露光する場合と、一方の露光パターンの一部を遮光した状態で、一方の露光パターンの残りと他方の露光パターンを露光する場合を含む。
先ず、基板移動機構22によって基板保持部21を水平移動させて、基板保持部21に保持された大型の基板Wと、マスク保持枠12に保持されたマスクMとを所定位置に対向配置する。1ショット目では、図5(a)に示すように、基板Wの紙面左下部分とマスクMが対向するように、基板保持部21がマスク保持枠12に対して相対移動する。
次いで、図6(a)に示すように、基板Wの紙面左上部分とマスクMとが対向するように、基板保持部21が基板移動機構22によってマスク保持枠12に対してY方向へ相対移動する。また、図6(b)に示すように、紙面上方に位置する下側及び上側アパーチャ92,94を後退させることで、マスクMの全ての露光パターンPa、Pb1、Pb2、Pb3、Pb4が露光可能な部分となる。
次いで、図7(a)に示すように、基板Wの紙面右上部分とマスクMとが対向するように、基板保持部21が基板移動機構22によってマスク保持枠12に対してX方向へ相対移動する。また、図7(b)に示すように、紙面下方に位置する下側及び上側アパーチャ92,94をマスクMのY方向中間位置CYを越える位置まで前進させると共に、紙面の左方に位置する下側及び上側アパーチャ91,93をマスクMのX方向中間位置CXを若干越える位置まで前進させることで、マスクMの露光パターンPb3、Pb4が露光可能な部分となる。
以後、図8(a)〜(e)に示すように、基板保持部21を基板移動機構22によってマスク保持枠12に対してY方向へ相対移動させながら、第2露光パターンPb3、Pb4を露光可能な部分とした状態で(図7(b)参照。)、順々に露光転写が行なわれる。これにより、4ショット目では、パターンP9、P10(図8(a)参照。)、5ショット目では、パターンP11、P12(図8(b)参照。)、6ショット目では、パターンP13、P14(図8(c)参照。)、7ショット目では、P15、P16(図8(d)参照。)、8ショット目では、P17、P18(図8(e)参照。)が得られる。
17 ギャップセンサ
18 アライメントカメラ
19 マスクアパーチャ機構
21 基板保持部
24 Y軸送り機構(送り機構)
26 X軸送り機構(送り機構)
27 Z−チルト調整機構(ギャップ調整機構)
40 照明光学系(照射手段)
70 センサキャリア
91,92 下側アパーチャ(アパーチャ部材)
93,94 上側アパーチャ(アパーチャ部材)
CX,CY マスクの中間位置
M マスク
Pa,Pc 第1の露光パターン
Pb,Pd 第2の露光パターン
PE 分割逐次近接露光装置
W 基板(被露光材)
Claims (5)
- 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、サイズの異なる第1及び第2の露光パターンを少なくとも有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記マスクの露光パターンを前記基板上の複数の所定位置に対向させるように前記基板保持部と前記マスク保持部とを相対的に移動させる送り機構と、前記マスクと前記基板との対向面間のギャップを調整するギャップ調整機構と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備えた分割逐次近接露光装置を用いた分割逐次近接露光方法であって、
前記マスクアパーチャ機構のアパーチャ部材を前記マスクの中間位置を越える位置まで移動させて、前記第1及び第2の露光パターンの一方を遮光する工程と、
前記第1及び第2の露光パターンの一方を遮光した状態で、前記第1及び第2の露光パターンの他方を前記照射手段によって前記基板に露光転写する工程と、
を備えることを特徴とする分割逐次近接露光方法。 - 前記基板と前記マスクの対向部分の周囲にアライメントカメラ及びギャップセンサが配置されるように、該アライメントカメラ及び該ギャップセンサを有するセンサキャリアを前記マスクの中間位置を越える位置まで移動させることを特徴とする請求項1に記載の分割逐次近接露光方法。
- 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、マスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記マスクの露光パターンを前記基板上の複数の所定位置に対向させるように前記基板保持部と前記マスク保持部とを相対的に移動させる送り機構と、前記マスクと前記基板との対向面間のギャップを調整するギャップ調整機構と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備える分割逐次近接露光装置であって、
前記マスクアパーチャ機構のアパーチャ部材は、少なくとも前記マスクの中間位置を越える位置まで移動可能であることを特徴とする分割逐次近接露光装置。 - アライメントカメラ及びギャップセンサを有し、該アライメントカメラ及び該ギャップセンサを前記マスクの中間位置を越える位置まで移動可能なセンサキャリアを更に備えることを特徴とする請求項3に記載の分割逐次近接露光装置。
- 前記マスク保持部に保持される前記マスクは、サイズの異なる第1及び第2の露光パターンを少なくとも有することを特徴とする請求項3または4に記載の分割逐次近接露光装置。
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