JP2000356855A

JP2000356855A - 照明領域設定装置および露光装置

Info

Publication number: JP2000356855A
Application number: JP11168336A
Authority: JP
Inventors: Eiji Goto; 英司後藤; Masamitsu Yanagihara; 政光柳原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-06-15
Filing date: 1999-06-15
Publication date: 2000-12-26

Abstract

(57)【要約】【課題】結像面の汚染やスパークを発生させることな
く、十分なエッジ精度を得る。【解決手段】ビームＢが照明する照明領域を設定する
照明領域設定装置１８であって、ビームＢが通過する光
路方向に沿って離間して設けられ、照明領域を設定する
設定部５１、５２を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスクへ照射され
るビームの照明領域を設定する照明領域設定装置、およ
び光源からのビームを照明領域設定装置を介してマスク
上に照射し、照明されたマスクの像を基板の露光領域に
投影露光する露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコンやテレビ等の表示素子と
しては、薄型化を可能とする液晶表示パネルが多用され
るようになっている。この種の液晶表示パネルは、平面
視矩形状の感光基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラ
フィの手法で所望の形状にパターニングすることにより
製造されている。そして、このフォトリソグラフィの装
置として、マスク（レチクル）上に形成されたパターン
を投影光学系を介して感光基板上のフォトレジスト層に
露光する露光装置が用いられている。

【０００３】ところで、上記の液晶表示パネルは、画面
の見やすさから大面積化が進んでいる。この要請に応え
る露光装置としては、例えば、特開平７−５７９８６号
に開示されているように、マスクのパターンを正立像で
基板上に投影する複数の投影光学系を組み合わせ、マス
クとガラス基板とを所定方向に同期移動して、投影光学
系に対して走査することによって、照明光学系で照明さ
れ、且つブラインドで設定されたマスクの照明領域に形
成されたＬＣＤ（ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉ
ｓｐｌａｙ）等のパターンをガラス基板上の露光領域に
順次転写する走査型の露光装置が考案されている。

【０００４】この際、投影領域が大きくても装置を大型
化させず、且つ良好な結像特性を得る投影光学系とし
て、複数の投影光学系を、隣り合う投影領域が走査方向
で所定量変位するように、且つ隣り合う投影領域の端部
同士が走査方向と直交する方向に重複するように二列に
配列されたものが使用されている。この場合、各投影光
学系の視野絞りは台形形状で、走査方向の視野絞りの開
口幅の合計は常に等しくなるように設定されている。そ
のため、上記のような走査型の露光装置は、隣り合う投
影光学系の継ぎ部が重複して露光され、投影光学系の光
学収差や露光照度が滑らかに変化するという利点を持っ
ている。

【０００５】一方、上記の露光装置では、良好な精度範
囲内にマスクとガラス基板との位置関係を保つために、
投影光学系の光軸方向に関するマスクとガラス基板との
相対距離を検出している。これは、所定の焦点距離を確
保することで解像度の低下に起因するデバイスの動作不
良を防ぐためである。そこで、マスクとガラス基板との
間に発光素子および受光素子からなるフォーカスセンサ
を配置し、発光素子からマスクおよびガラス基板の面上
に照明光をそれぞれ照射し、受光素子でこの反射光を受
光することにより、マスクとガラス基板との相対的な距
離を計測している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の照明領域設定装置および露光装置には、
以下のような問題が存在する。一般に、上記ブラインド
は、照明光学系内でマスクに対して略共役の位置に配置
される。ところが、各投影光学系毎に光ファイバーで露
光光を導入している場合などでは、照明光学系内に共役
面が存在しないことがある。この場合でも、ブラインド
機能は必須であるので、ブラインドが結像面とは異なる
位置に配置される、いわゆる非結像式ブラインドを構成
する必要がある。

【０００７】図７に、非結像式のブラインドＬを投影光
学系ＰＬとガラス基板Ｐとの間に配置した一例を示す。
この図に示すように、ブラインドＬが結像面（ガラス基
板Ｐの表面）から離間して配置される場合、離間する距
離が大きければ大きい程、照明のＮＡの影響から滲み量
Ｓも大きくなり、ブラインドのエッジの部分がぼけてし
まうという問題が生じる。

【０００８】一方、ブラインドＬを動作させるためのブ
ラインド駆動系Ｄは、機構系の構成を簡単にするため
に、ブラインドＬに接近して配置することが好ましい
が、上記の問題を回避するために、ブラインドを結像面
であるマスクのパターン面、またはガラス基板の露光面
に極力近くなるように配置すると、ブラインド駆動系Ｄ
もガラス基板Ｐに接近し、ブラインド駆動系Ｄから発す
る塵埃によりガラス基板Ｐが汚染されるという問題があ
る。さらに、ブラインドＬとガラス基板Ｐとの間の距離
は、ブラインドＬの平面度によっても規制されるため、
ブラインドＬをガラス基板Ｐに近付けるのにも限界があ
り、十分なエッジ精度が得られなかった。

【０００９】加えて、ガラス基板Ｐを搬出する際にはガ
ラス基板Ｐが剥離帯電し、ブラインドＬの金属部分とス
パークすることでガラス基板Ｐ上に露光されたパターン
を破壊してしまうという虞もあるため、ブラインドＬと
ガラス基板Ｐとの間の距離を大きくせざるを得ず、十分
なエッジ精度が得られないという問題を回避することは
困難であった。

【００１０】また、ブラインドは、露光領域の四辺を遮
光することになるので、ブラインドＬの枚数は少なくと
も二枚は必要になり、ブラインドＬの肉厚もある程度大
きくなる。そのため、二枚のブラインドのうちガラス基
板Ｐからより離れて配置したブラインドの方がエッジ精
度が悪くなる。特に、大型のガラス基板を露光する場
合、露光領域が広くなり、ブラインドの面積も大きくな
るため、平面度を考慮するとブラインドの肉厚をさらに
大きくする必要があり、ブラインド間でエッジ精度に差
が生じるという問題もあった。これらの問題は、ブライ
ンドＬをガラス基板Ｐの近傍に設ける場合に限られるも
のではなく、マスクの近傍に設ける場合も同様に発生す
るものである。

【００１１】一方、光軸方向に関するマスクとガラス基
板Ｐとの相対距離を計測する際には、マスクのパターン
面およびガラス基板Ｐの露光面、即ちマスク、ガラス基
板Ｐにおける結像面に照明光を照射する必要がある。ま
た、マスクおよびガラス基板Ｐにおける計測点は、上記
二列の投影領域の間に設定することが好ましい。ところ
が、上述したように、ブラインドＬをマスクまたはガラ
ス基板Ｐの近傍に配置することにより、発光素子からの
照明光がブラインドＬに遮光される虞がある。この場
合、計測点をブラインドに遮光されない位置に変更する
と、実際に露光する位置と離れることになり、マスクと
ガラス基板Ｐとの相対距離を高精度に得ることが困難に
なるという問題があった。

【００１２】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、結像面の汚染やスパークを発生させること
なく、十分なエッジ精度が得られる照明領域設定装置、
およびこの照明領域設定装置を有する露光装置を提供す
ることを第１の目的とする。また、本発明は、大型の基
板を露光する際にも、エッジ精度に差が生じない露光装
置を提供することを第２の目的とする。さらに、本発明
は、照明領域設定装置により遮光されることなく、マス
クと基板との相対距離を計測することができる露光装置
を提供することを第３の目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図６に対応
付けした以下の構成を採用している。本発明の照明領域
設定装置は、ビーム（Ｂ）が照明する照明領域を設定す
る照明領域設定装置（１８）であって、ビーム（Ｂ）が
通過する光路方向に沿って離間して設けられ、照明領域
を設定する設定部（５１、５２）を備えることを特徴と
するものである。

【００１４】従って、本発明の照明領域設定装置では、
照明領域を設定する設定部（５１、５２）がビーム
（Ｂ）の光路方向に沿って離間して設けられているの
で、照明領域設定装置（１８）を動作させるための駆動
系（５３、５４）を設定部（５１、５２）と離間して配
置することができる。そのため、設定部（５１、５２）
を結像面に接近して配置しても、結像面と駆動系（５
３、５４）とが離れることになり、結像面の汚染を防止
することができる。また、平面度に関しては、設定部
（５１、５２）だけ考慮すれば済み、設定部（５１、５
２）を照明領域設定に必要な最小限の大きさに抑えるこ
とにより、平面度を小さくすることが可能になり、設定
部（５１、５２）をより結像面に接近させることができ
るようになる。

【００１５】また、本発明の露光装置は、ビーム（Ｂ）
の照明領域を照明領域設定装置で設定してマスク（Ｍ）
のパターンを基板（Ｐ）に露光する露光装置（１）にお
いて、マスク（Ｍ）と基板（Ｐ）との少なくとも一方の
近傍に、照明領域設定装置として請求項１記載の照明領
域設定装置（１８）が配設されることを特徴とするもの
である。

【００１６】従って、本発明の露光装置では、マスク
（Ｍ）の照明領域と基板（Ｐ）の照明領域との少なくと
も一方を請求項１記載の照明領域設定装置（１８）によ
り、設定することができるため、設定部（５１、５２）
を結像面に接近して配置しても、結像面と駆動系（５
３、５４）とが離れることになり、結像面の汚染を防止
することができる。また、設定部（５１、５２）を照明
領域設定に必要な最小限の大きさに抑えることにより、
平面度を小さくすることが可能になり、設定部（５１、
５２）をより結像面に接近させることができるようにな
る。

【００１７】そして、本発明の露光装置は、互いに間隔
をあけて並列する複数のビーム（Ｂ）の照明領域を照明
領域設定装置（１８）で設定し、複数のビーム（Ｂ）の
光路に対しマスク（Ｍ）と基板（Ｐ）とを同期移動し
て、設定された照明領域に対応するマスク（Ｍ）のパタ
ーンを基板（Ｐ）に露光する露光装置（１）において、
照明領域設定装置（１８）は、照明領域を設定する設定
部（５１、５２）を並列する光路の列毎に有しているこ
とを特徴とするものである。

【００１８】従って、本発明の露光装置では、設定部
（５２）を光路の列毎に設けているので、設定部（５
２）間に間隔が開くことになる。そのため、マスク
（Ｍ）と基板（Ｐ）との光路方向の相対距離を計測する
ための照明光を、この設定部（５２）によって遮光され
ることなく、設定部（５２）間の間隔からマスク（Ｍ）
または基板（Ｐ）上の結像面に照射することができる。

【００１９】さらに、本発明の露光装置は、ビーム
（Ｂ）の照明領域を照明領域設定装置（１８）で設定し
て、設定された照明領域に対応するマスク（Ｍ）のパタ
ーンを基板に露光する露光装置（１）において、照明領
域設定装置（１８）を、マスクを保持するマスクホルダ
（４）と基板（Ｐ）を保持する基板ホルダ（５）との少
なくとも一方のホルダと同じ電位に維持する電位維持装
置（５９、６０）を備えることを特徴とするものであ
る。

【００２０】従って、本発明の露光装置では、マスクホ
ルダ（４）と基板ホルダ（５）との少なくとも一方と、
照明領域設定装置（１８）とを電位維持装置（５９、６
０）により同じ電位に維持することができるので、照明
領域設定装置（１８）を結像面に接近して配置しても、
マスク（Ｍ）と基板（Ｐ）との少なくとも一方をマスク
ホルダ（４）、基板ホルダ（５）から搬出する際にも剥
離帯電によりスパークが発生することを防止できる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の照明領域設定装置
および露光装置の実施の形態を、図１ないし図６を参照
して説明する。ここでは、基板を液晶表示デバイス製造
用のガラス基板とし、露光装置をマスクとガラス基板と
を同期移動してマスクのパターン（例えば、液晶表示素
子パターン）を角形のガラス基板に走査露光する走査型
の露光装置とする場合の例を用いて説明する。また、こ
こでは、五つの投影光学系の投影領域の一部分をオーバ
ーラップして露光する場合の例を用いて説明する。な
お、図２において、投影光学系の光軸方向（光路方向）
をＺ方向とし、Ｚ方向に垂直な方向でマスクおよびガラ
ス基板Ｐの同期移動方向（走査方向）をＸ方向（第１方
向）とし、Ｚ方向およびＸ方向に直交する方向（非走査
方向）をＹ方向（第２方向）とする。

【００２２】図２は、本発明による走査型の露光装置１
の概略的な構成を示す斜視図である。露光装置１は、照
明光学系２と、複数の投影系モジュール３ａ〜３ｅから
なる投影光学系３と、マスク（レチクル）Ｍを保持する
マスクステージ（マスクホルダ）４と、ガラス基板（基
板）Ｐを保持する基板ステージ（基板ホルダ）５と、照
明光学系２から照射されるビーム（露光光）Ｂの照明領
域を設定する照明領域設定装置１８とを主体として構成
されている。

【００２３】図３に示すように、照明光学系２は、超高
圧水銀ランプ等の光源６から射出されたビームＢをマス
クＭ上に照明するものであって、ダイクロイックミラー
７、波長選択フィルタ８、ライトガイド９および投影系
モジュール照明系３ａ〜３ｅのそれぞれに対応して配設
された照明系モジュール１０ａ〜１０ｅ（ただし図３に
おいては、便宜上照明光学系１０ａに対応するもののみ
を示している）とから構成されている。

【００２４】そして、光源６から射出したビームＢは、
楕円鏡６ａで集光された後に、ダイクロイックミラー７
に入射する。ダイクロイックミラー７は、露光に必要な
波長のビームＢを反射し、その他の波長の光束を透過さ
せるものである。ダイクロイックミラー７で反射された
ビームＢは、波長選択フィルタ８に入射し、投影光学系
３が露光を行うのに適した波長（通常は、ｇ、ｈ、ｉ線
の内、少なくとも１つの帯域）の光束となり、ライトガ
イド９に入射する。ライトガイド９は、入射した光束を
５本に分岐して、反射ミラー１１を介して各照明系モジ
ュール１０ａ〜１０ｅに入射させる。

【００２５】各照明系モジュール１０ａ〜１０ｅは、照
明シャッタ１２とフィルタ２１とリレーレンズ１３とフ
ライアイレンズ１４とコンデンサレンズ１５とから概略
構成されている。なお、本実施の形態では、この照明系
モジュール１０ａと同じ構成の照明系モジュール１０ｂ
〜１０ｅが、Ｘ方向とＹ方向とに一定の間隔をもって配
置されている。そして、各照明系モジュール１０ａ〜１
０ｅからの光束は、マスクＭ上の異なる照明領域を照明
する構成になっている。

【００２６】照明シャッタ１２は、ライトガイド９の後
方に、ビームＢの光路に対して進退自在に配置されてい
る。照明シャッタ１２は、光路を遮蔽したときに該光路
からのビームＢを遮光して、光路を開放したときにビー
ムＢへの遮光を解除するものである。フィルタ２１は、
ガラス板上にＣｒ等で簾状にパターニングされたもので
あって、透過率がＹ方向に沿ってある範囲で線形に漸次
変化するように形成されており、各光路中の照明シャッ
タ１２とリレーレンズ１３との間に配置されている。

【００２７】照明シャッタ１２により光路を開放された
ビームＢは、フィルタ２１で所定の光量に調整され、リ
レーレンズ１３を介してフライアイレンズ１４に達す
る。このフライアイレンズ１４の射出面側には、二次光
源が形成され、コンデンサレンズ１５を介してマスクＭ
の照明領域を均一な照度で照射することができるように
なっている。

【００２８】マスクＭを透過したビームＢは、投影系モ
ジュール３ａ〜３ｅにそれぞれ入射する。投影系モジュ
ール３ａ〜３ｅには、マスクＭのパターン像をＸ方向も
しくはＹ方向にシフトさせる像シフト機構、マスクＭの
パターン像を回転させる像回転機構、マスクＭのパター
ン像の倍率を変化させる倍率調整機構、ガラス基板Ｐ上
でのビームＢのイメージフィールド（投影領域）を設定
する視野絞り（いずれも不図示）等がそれぞれ備えられ
ている。

【００２９】そして、照明領域設定装置１８で設定され
た照明領域に位置するマスクＭのパターンは、マスクＭ
とガラス基板Ｐとの間に配設された投影系モジュール３
ａ〜３ｅを通過し所定の結像特性をもって、レジストが
塗布されたガラス基板Ｐ上に正立等倍で投影転写され
る。なお、照明領域設定装置１８の詳細については後述
する。

【００３０】図４に、ガラス基板Ｐ上での投影系モジュ
ール３ａ〜３ｅのイメージフィールド（投影領域）３４
ａ〜３４ｅを示す。この図に示すように、各イメージフ
ィールド３４ａ〜３４ｅは、台形形状を呈している。イ
メージフィールド３４ａ、３４ｃ、３４ｅとイメージフ
ィールド３４ｂ、３４ｄとは、互いに間隔をあけてＸ方
向に対向して配置されている。さらに、イメージフィー
ルド３４ａ〜３４ｅは、隣り合うイメージフィールド
（例えば、３４ａと３４ｂ、３４ｂと３４ｃ）の端部同
士がＹ方向に重複するように並列配置され、Ｘ方向のイ
メージフィールドの幅の総計がほぼ等しくなるように設
定されている。すなわち、Ｘ方向に走査露光したときの
露光量が等しくなるようになっている。

【００３１】このように、各投影系モジュール３ａ〜３
ｅによるイメージフィールド３４ａ〜３４ｅが走査方向
と直交する方向に重複することにより、継ぎ部における
光学収差の変化や照度変化を滑らかにすることができる
ようになっている。なお、本実施の形態のイメージフィ
ールド３４ａ〜３４ｅの形状は、台形であるが、六角形
や菱形、平行四辺形等であっても構わない。

【００３２】マスクステージ４は、マスクＭを保持する
ものであって、一次元の走査露光を行うべくＸ方向に長
いストロークと、走査方向と直交するＹ方向に数ｍｍ程
度の微小量のストロークとを有している。図３に示すよ
うに、マスクステージ４には、該マスクステージ４を上
記方向に駆動するマスクステージ駆動部３７が備えられ
ている。

【００３３】図２に示すように、マスクステージ４上の
端縁には、互いに直交する方向に移動鏡３８ａ、３８ｂ
がそれぞれ設置されている。移動鏡３８ａには、レーザ
ー干渉計３９ａが、また、移動鏡３８ｂには、レーザー
干渉計３９ｂがそれぞれ対向して配置されている。これ
らレーザー干渉計３９ａ、３９ｂは、それぞれ移動鏡３
８ａ、３８ｂにレーザー光を射出して当該移動鏡３８
ａ、３８ｂとの間の距離を計測することにより、マスク
ステージ４のＸ方向、Ｙ方向の位置、すなわち、マスク
Ｍの位置を高分解能、高精度に検出することが可能にな
っている。そして、検出された位置に基づいて、マスク
ステージ駆動部３７を制御することでマスクステージ４
（ひいてはマスクＭ）を所望の位置へ移動することがで
きるようになっている。

【００３４】基板ステージ５は、ガラス基板Ｐを保持す
るものであって、マスクステージ４と同様に、一次元の
走査露光を行うべくＸ方向に長いストロークと、走査方
向と直交するＹ方向にステップ移動するための長いスト
ロークとを有している。また、基板ステージ５には、該
基板ステージ５を上記方向に駆動する基板ステージ駆動
部４０が備えられている。さらに、基板ステージ５は、
Ｚ方向にも移動自在になっている。

【００３５】基板ステージ５上の端縁には、互いに直交
する方向に移動鏡４２ａ、４２ｂがそれぞれ設置されて
いる。移動鏡４２ａには、レーザー干渉計４３ａが、ま
た、移動鏡４２ｂには、レーザー干渉計４３ｂがそれぞ
れ対向して配置されている。これらレーザー干渉計４３
ａ、４３ｂは、それぞれ移動鏡４２ａ、４２ｂにレーザ
ー光を射出して当該移動鏡４２ａ、４２ｂとの間の距離
を計測することにより、基板ステージ５のＸ方向、Ｙ方
向の位置、すなわち、ガラス基板Ｐの位置を高分解能、
高精度に検出することが可能になっている。そして、検
出された位置に基づいて、基板ステージ駆動部４０を制
御することで基板ステージ５（ひいてはガラス基板Ｐ）
を所望の位置へ移動することができるようになってい
る。

【００３６】すなわち、マスクステージ４および基板ス
テージ５の位置をモニターしながら両駆動部３７，４０
を制御することにより、マスクＭとガラスプレートＰと
を投影系モジュール３ａ〜３ｅに対して、任意の走査速
度（同期移動速度）でＸ方向に同期移動させるようにな
っている。

【００３７】図２に示すように、照明領域設定装置１８
は、マスクＭの近傍に配置されたブラインド（第１設定
部）５１、５１と、ガラス基板Ｐの近傍に配置されたブ
ラインド（第２設定部）５２、５２と、図５に示すよう
にブラインド５１を動作させるブラインド駆動系（駆動
系）５３、５３と、図６に示すようにブラインド５２を
動作させるブラインド駆動系（駆動系）５４、５４とか
ら構成されている。

【００３８】ブラインド５１、５１は、図４に示すよう
に、ビームＢの照明領域のうち、Ｘ方向の照明領域を設
定するものであって、イメージフィールド３４ａ〜３４
ｅを挟んだＸ方向両側に対向配置され、それぞれがブラ
インド駆動系５３、５３によってＸ方向に移動自在にな
っている。図５に示すように、各ブラインド５１は、マ
スクＭの上面に沿って延在し、照明領域を規定するエッ
ジを有するエッジ部（第２部分）５１ａと、該エッジ部
５１ａと接続されエッジ部５１ａの外側端縁から屈曲し
て＋Ｚ方向に向けて立設された垂直部（第１部分）５１
ｂと、この垂直部５１ｂの上端縁から屈曲してそれぞれ
Ｘ方向外側に向けて延び、ブラインド駆動系５３、５３
に結合された駆動部５１ｃとから構成されている。換言
すると、駆動部５１ｃは、マスクＭからの距離が大きく
なるように、エッジ部５１ａに対してビームＢの光路方
向に沿って離間して設けられている。

【００３９】また、ブラインド５１、５１とマスクステ
ージ４との間には、これらの間の電位を同一に維持する
ようにブラインド５１、５１とマスクステージ４とをそ
れぞれ電気的に接続する接続部（電位維持装置）５９、
５９が設けられている。

【００４０】ブラインド５２、５２は、図４に示すよう
に、ビームＢの照明領域のうち、Ｙ方向の照明領域を設
定するものであって、イメージフィールド３４ａ〜３４
ｅを挟んだＹ方向両側に対向配置され、それぞれがブラ
インド駆動系５４、５４によってＹ方向に移動自在にな
っている。図６に示すように、各ブラインド５２は、ガ
ラス基板Ｐの上面に沿って延在し、照明領域を規定する
エッジを有するエッジ部（第２部分）５２ａと、該エッ
ジ部５２ａに接続されエッジ部５２ａの外側端縁から屈
曲して＋Ｚ方向に向けて立設された垂直部（第１部分）
５２ｂと、垂直部５２ｂの上端縁から屈曲してそれぞれ
Ｙ方向外側に向けて延び、ブラインド駆動系５４、５４
に結合された駆動部５２ｃとから構成されている。換言
すると、駆動部５２ｃは、ガラス基板Ｐからの距離が大
きくなるように、エッジ部５２ａに対してビームＢの光
路方向に沿って離間して設けられている。

【００４１】ここで、エッジ部５２ａ、垂直部５２ｂの
寸法関係は、図１に示すように、ビームＢの光路とほぼ
直交する方向のエッジ部５２ａの長さをａとし、光路に
沿った垂直部５２ｂの長さをｂとし、投影光学系３の開
口数をＮＡとしたときに、ａ≧ｂ×ＮＡ ……（１）の関係式を満足するように設定されている。なお、上記
ブラインド５１においても、エッジ部５１ａと垂直部５
１ｂとの寸法関係は式（１）を満足するように設定され
ている。この場合、ＮＡは、照明光学系２の開口数であ
る。

【００４２】また、図４に示すように、ブラインド５２
のエッジ部５２ａは、互いに間隔をあけて二列に配列さ
れたイメージフィールド３４ａ、３４ｃ、３４ｅおよび
３４ｂ、３４ｄの列毎に、互いに隙間５２ｄを隔てて設
けられている。すなわち、隙間５２ｄは、二列のイメー
ジフィールド間に位置するように設定されている。

【００４３】また、ブラインド５２、５２と基板ステー
ジ５との間には、これらの間の電位を同一に維持するよ
うにブラインド５２、５２と基板ステージ５とをそれぞ
れ電気的に接続する接続部（電位維持装置）６０、６０
が設けられている。

【００４４】一方、図２に示すように、マスクＭのパタ
ーン領域の周囲には、マスクＭの隅部に位置するマスク
マーク４６ａ〜４６ｄおよびＸ方向に沿った両側縁中央
近傍に位置するアライメントマーク５６ａ、５６ｂがそ
れぞれ形成されている。マスクマーク４６ａ〜４６ｄ
は、マスクＭのアライメントの際の各種補正量算出に用
いられるものであって、Ｃｒ等により十字形状に形成さ
れている。アライメントマーク５６ａ、５６ｂは、ガラ
ス基板Ｐとの位置決めの際に用いられるものであって、
上記マスクマーク４６ａ〜４６ｄと同様に、Ｃｒ等によ
り十字形状に形成されている。

【００４５】マスクＭと同様に、ガラス基板Ｐの投影領
域の周囲には、ガラス基板Ｐの隅部に位置する基板マー
ク４７ａ〜４７ｄおよびＸ方向に沿った両側縁中央近傍
に位置するアライメントマーク５７ａ、５７ｂがそれぞ
れ形成されている。基板マーク４７ａ〜４７ｄは、ガラ
ス基板Ｐのアライメントの際の各種補正量算出に用いら
れるものであって、Ｃｒ等により十字形状に形成されて
いる。アライメントマーク５７ａ、５７ｂは、マスクＭ
との位置決めの際に用いられるものであって、上記基板
マーク４７ａ〜４７ｄと同様に、Ｃｒ等により十字形状
に形成されている。

【００４６】これらマスクマーク４６ａ〜４６ｄ、基板
マーク４７ａ〜４７ｄおよびアライメントマーク５６
ａ、５６ｂ、５７ａ、５７ｂは、図２においてマスクＭ
の上方に設置されたアライメント系４９ａ，４９ｂによ
って検出されるようになっている。アライメント系４９
ａ，４９ｂは、Ｘ方向に移動する駆動機構（不図示）を
有しており、走査露光時には照明領域内から退避する構
成になっている。

【００４７】また、マスクステージ４と基板ステージ５
との間には、マスクＭのパターン面とガラス基板Ｐの露
光面とのＺ方向の相対距離を計測するフォーカスセンサ
が設けられ、マスクＭのパターン面とガラス基板Ｐの露
光面とが常に所定の間隔になるように位置制御されてい
る。図２および図６に示すように、フォーカスセンサ
は、エッジ部５２、５２間の隙間５２ｄの上方に位置す
るようにＹ方向に沿って配置された発光素子５８ａと受
光素子５８ｂとからなり、発光素子５８ａから照射され
るスリット形状の照明光をマスクＭおよびガラス基板Ｐ
の面上に照射し、各面上に結像させたスリット像を受光
素子５８ｂで再結像させ、それぞれの像の相対距離を計
測することによりマスクＭとガラス基板Ｐとの相対的な
距離を計測するようになされている。

【００４８】上記の構成の露光装置１によりマスクＭの
パターンをガラス基板Ｐに露光する前に、まず、マスク
Ｍとガラス基板Ｐとを位置決めする手順を説明する。初
期設定時、露光装置１においては、投影光学系３から外
れた位置に停止しているマスクステージ４および基板ス
テージ５に対して不図示の搬送系により、マスクＭおよ
びガラス基板Ｐを取り付けた後、マスクステージ駆動部
３７および基板ステージ駆動部４０を介して、マスクス
テージ４および基板ステージ５を露光位置へそれぞれ移
動させる。

【００４９】この移動の際には、予め設定されている走
査方向（Ｘ方向）に対する一定の測定間隔または位置ご
とにマスクＭとガラス基板Ｐとの光路方向の相対距離を
逐一計測する。ここで、上記の移動時には、光源６から
のビームＢでガラス基板Ｐ上のレジストが露光しないよ
うに、ブラインド駆動系５３、５４によりブラインド５
１、５２が移動して、イメージフィールド３４ａ〜３４
ｅを遮光している。そのため、フォーカスセンサの発光
素子５８ａは、ガラス基板Ｐに対しては、ブラインド５
２のエッジ部５２ａ、５２ａ間の隙間５２ｄを介して照
明光を照射し、同様に受光素子５８ｂはガラス基板Ｐで
反射したスリット像を隙間５２ｄを介して支障なく受光
することができる。

【００５０】また、この移動の途中、アライメントマー
クの位置においてマスクステージ４および基板ステージ
５を一旦停止させ、各位置においてマスクＭとガラス基
板Ｐとの相対的な位置ずれを計測する。具体的には、ま
ずマスクマーク４６ａ、基板マーク４７ａがアライメン
ト系４９ａ、４９ｂの計測位置に到達すると、マスクス
テージ４および基板ステージ５が停止し、レジストに非
感光である波長からなる照明光をアライメント系４９ａ
から不図示の反射鏡を介して−Ｚ方向に射出する。

【００５１】射出された照明光は、マスクＭのマスクマ
ーク４６ａに照射されるとともに、マスクＭを透過し、
外側に位置する投影系モジュール３ａを介してガラス基
板Ｐ上の基板マーク４７ａに照射される。基板マーク４
７ａで反射した反射光は、投影系モジュール３ａ、マス
クＭおよび反射鏡を介してアライメント系４９ａに入射
する。一方、マスクマーク４６ａで反射した反射光も、
反射鏡を介してアライメント系４９ａに入射する。

【００５２】アライメント系４９ａは、マスクＭおよび
ガラス基板Ｐからの反射光に基づいて各マーク４６ａ、
４７ａの位置を検出する。具体的には、アライメント系
４９ａは、該アライメント系４９ａ中の図示しない結像
光学系を介して二次元ＣＣＤの撮像面上にマスクＭおよ
びガラス基板Ｐからの反射光を同時に結像し、マスクマ
ーク４６ａが基板マーク４７ａに重なった撮像画像を画
像処理する。これにより、マスクマーク４６ａと基板マ
ーク４７ａとの位置ずれ量、すなわち、マスクＭとガラ
ス基板Ｐとの位置ずれ量が計測される。

【００５３】そして、上記と同様の手順により、アライ
メントマーク５６ａ、５７ａとマスクマーク４６ｄ、基
板マーク４７ｄとを順次計測し、各計測位置にて位置ず
れ量を計測する。また、同様に、アライメント系４９ｂ
を用いてマスクマーク４６ｂ、基板マーク４７ｂとアラ
イメントマーク５６ｂ、５７ｂとマスクマーク４６ｃ、
基板マーク４７ｃとを計測することにより各計測位置に
おける位置ずれ量を求める。なお、このときの照明光
は、マスクＭのマークに照射されるとともに、マスクＭ
を透過して外側に位置する投影系モジュール３ｅを介し
てガラス基板Ｐ上のマークに照射される。

【００５４】計測された位置ずれ量のうち、アライメン
トマーク５６ａ、５７ａおよび５６ｂ、５７ｂを用いて
求められた位置ずれ量と、マスクＭとガラス基板Ｐとの
相対距離とからマスクステージ４または基板ステージ５
の少なくとも一方を微動させて、マスクＭとガラス基板
Ｐとの位置合わせを行う。

【００５５】また、計測された位置ずれ量のうち、マス
クマーク４６ａ〜４６ｄ、基板マーク４７ａ〜４７ｄを
用いて求められた位置ずれ量から最小二乗法等を用いた
手法で、マスクＭとガラス基板Ｐとの相対的なシフト、
回転、スケーリング、直交（走査方向に垂直な軸の傾
き）の補正量を算出し、各補正量に基づいて投影系モジ
ュール３ａ〜３ｅの像シフト機構、倍率調整機構、像回
転機構等の補正を行う。なお、マスクＭとガラス基板Ｐ
との相対距離の計測結果から、マスクＭとガラス基板Ｐ
とが共に焦点深度内に設定されるような近似面を、マス
クＭを基準面として作成し、ガラス基板Ｐの傾きが上記
近似面と一致するようにマスクＭおよびガラス基板Ｐの
位置を補正する。

【００５６】位置決めが完了すると、アライメント系４
９ａ、４９ｂが照明領域内から退避し、走査露光を開始
する。マスクステージ４および基板ステージ５は、マス
クステージ駆動部３７、基板ステージ駆動部４０にそれ
ぞれ駆動されて、マスクＭおよびガラス基板Ｐがビーム
Ｂの照明領域から外れた位置でＸ方向に助走し、マスク
Ｍおよびガラス基板Ｐが照明領域へ到達する際には等速
度で移動する。

【００５７】このとき、ブラインド５１、５２は、ブラ
インド駆動系５３、５４の駆動により移動し、各エッジ
部５１ａ、５２ａでマスクＭおよびガラス基板Ｐに対し
て所定の照明領域を設定する。そして、この照明領域に
存在するマスクＭのパターンの像が、投影光学系３を介
して所定の結像特性でガラス基板Ｐ上に逐次露光され
る。ここで、例えば投影光学系３を透過したビームＢ
は、図１に示すように、ブラインド５２の垂直部５２ｂ
の上端において投影光学系３の開口数に応じて発生する
滲みがエッジ部５２ａで遮光される。同様に、ブライン
ド５１の駆動部５１ｃの端部で照明光学系２に応じて発
生するビームＢの滲みは、エッジ部５１ａで遮光され
る。

【００５８】そして、ガラス基板Ｐに対する走査露光が
完了すると、次のガラス基板に交換するために基板ステ
ージ５上に保持されたガラス基板Ｐは搬送系によって搬
出される。ガラス基板Ｐを基板ステージ５から剥離する
際には剥離帯電が発生するが、接続部６０により基板ス
テージ５を介してガラス基板Ｐとブラインド５２とが同
じ電位に維持されるので、ブラインド５２の金属部分と
ガラス基板Ｐとの間でスパークすることを防止できる。
同様に、マスクステージ４上に保持されたマスクＭを交
換する際にもマスクＭが剥離帯電するが、接続部５９に
よりマスクステージ４を介してマスクＭとブラインド５
１とが同じ電位に維持されるため、これらの間でスパー
クが発生することを防止できる。特に、マスクＭとして
反射タイプのマスクを用い、マスクＭの裏面（非パター
ン面）を全面で吸着保持する場合に、接続部５９により
剥離帯電を防止できる。

【００５９】本実施の形態の照明領域設定装置および露
光装置では、非結像式のブラインド５１、５２のエッジ
部５１ａ、５２ａと駆動部５１ｃ、５２ｃとをそれぞれ
光路方向に沿って離間して設けているので、エッジ部５
１ａ、５２ａをマスクＭおよびガラス基板Ｐに近付ける
ことで十分なエッジ精度が得られるとともに、駆動部５
１ｃ、５２ｃおよびブラインド駆動系５３、５４を共に
マスクＭおよびガラス基板Ｐから離間して配置すること
で、ブラインド駆動系５３、５４からの発塵でマスクＭ
およびガラス基板Ｐが汚染されることを未然に防ぐこと
ができる。

【００６０】加えて、本実施の形態では、ブラインド５
１、５２に段差を設けることで、エッジ部５１ａ、５２
ａの面積を小さくすることができるので、良好な平面度
が得易くなり、エッジ部５１ａ、５２ａをマスクＭおよ
びガラス基板Ｐに一層近付けることができる。そして、
本実施の形態では、ビームＢの光路とほぼ直交する方向
のエッジ部５１ａ、５２ａの長さと、光路に沿った垂直
部５１ｂ、５２ｂの長さを上記式（１）を満足するよう
にそれぞれ設定してあるので、垂直部５１ｂ、５２ｂの
上端において照明光学系２、投影光学系３の開口数に応
じて発生する滲みをエッジ部５１ａ、５２ａで遮光する
ことが可能になり、エッジ精度を一層良好に得ることが
できる。

【００６１】また、本実施の形態の照明領域設定装置お
よび露光装置では、ブラインド５１、５２をマスクＭ近
傍とガラス基板Ｐの近傍とに分離して配置しているの
で、マスクＭまたはガラス基板Ｐからの距離、すなわち
結像面からの距離を等しくできるので、大型のガラス基
板Ｐを露光する際にブラインドの面積および肉厚が大き
くなっても、ブラインド間でエッジ精度に差が生じるこ
とを防止できる。

【００６２】さらに、本実施の形態の照明領域設定装置
および露光装置では、接続部５９、６０によりブライン
ド５１、５２をマスクステージ４、基板ステージ５とそ
れぞれ同じ電位に維持しているので、ブラインド５１、
５２をマスクＭ、ガラス基板Ｐに近付けた状態でマスク
Ｍ、ガラス基板Ｐを剥離しても剥離帯電に起因するスパ
ークが発生しない。そのため、スパークによってガラス
基板Ｐ上に露光されたパターンが破壊されたり、マスク
Ｍ上に形成されたパターンが焼き切れたりすることを回
避できる。

【００６３】一方、本実施の形態の照明領域設定装置お
よび露光装置では、ブラインド５２のエッジ部５２ａ
を、二列に配列されたイメージフィールドの列毎に隙間
５２ｄを隔てて設けているので、ブラインド５２でイメ
ージフィールド３４ａ〜３４ｅを遮光した際にも、フォ
ーカスセンサの発光素子５８ａは隙間５２ｄを介してガ
ラス基板Ｐ上のイメージフィールドの列間に照明光を照
射できるとともに、受光素子５８ｂもガラス基板Ｐで反
射したスリット像を隙間５２ｄを介して受光できる。そ
のため、マスクＭとガラス基板Ｐとの相対距離を高精度
に計測できることになり、所定の結像特性にて露光する
ことが可能になる。

【００６４】なお、上記実施の形態において、Ｘ方向の
照明領域を設定するブラインド５１をマスクＭの近傍に
配置し、Ｙ方向の照明領域を設定するブラインド５２を
ガラス基板Ｐの近傍に配置する構成としたが、これに限
られることなく、例えばブラインド５１をガラス基板Ｐ
の近傍に配置し、ブラインド５２をマスクＭの近傍に配
置する構成であってもよい。また、マスクＭの近傍に＋
Ｙ方向、＋Ｘ方向（または−Ｙ方向、−Ｘ方向）の照明
領域を設定するＬ字形状のブラインドを配置し、ガラス
基板Ｐの近傍に−Ｙ方向、−Ｘ方向（または＋Ｙ方向、
＋Ｘ方向）の照明領域を設定するＬ字形状のブラインド
を配置するような構成であってもよい。さらに、マスク
Ｍの近傍にブラインド５１、５２の双方を設ける構成や
ガラス基板Ｐの近傍にブラインド５１、５２の双方を設
けるような構成であってもよい。

【００６５】また、本実施の形態の照明領域設定装置お
よび露光装置では、イメージフィールドの列毎にエッジ
部５２ａを設けたブラインド５２が垂直部５２ｂを有す
る構成としたが、垂直部５２を備えず、エッジ部５２ａ
と駆動部５２ｃとが面一に形成されるような構成であっ
てもよい。

【００６６】一方、上記実施の形態では、電位維持装置
としてブラインド５１とマスクステージ４とを接続する
接続部５９、およびブラインド５２と基板ステージ５と
を接続する接続部６０を設ける構成としたが、これに限
られず、例えばマスクステージ４、基板ステージ５、ブ
ラインド５１、５２をいずれも接地する構成としてもよ
い。この場合も、ブラインド５１、５２をマスクステー
ジ４および基板ステージ５と同じ電位に維持することが
できる。

【００６７】なお、本実施の形態の基板としては、液晶
ディスプレイデバイス用のガラスプレートのみならず、
半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用
のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマ
スクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエ
ハ）等が適用される。

【００６８】露光装置１としては、マスクＭとガラス基
板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光す
るステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置
（スキャニング・ステッパー；USP5,473,410）の他に、
マスクＭとガラス基板Ｐとを静止した状態でガラス基板
Ｐのパターンを露光し、ガラス基板Ｐを順次ステップ移
動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装
置（ステッパー）にも適用することができる。

【００６９】露光装置１の種類としては、ガラス基板Ｐ
に液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に
限られず、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッ
ド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造す
るための露光装置などにも広く適用できる。

【００７０】また、照明光学系２の光源６として、超高
圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、
ｈ線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦ
エキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ
（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみなら
ず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができ
る。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱
電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タ
ンタル（Ｔａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレ
ーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。

【００７１】投影系モジュール３ａ〜３ｅの倍率は、等
倍系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。
また、投影系モジュール３ａ〜３ｅとしては、エキシマ
レーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や
蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ₂レーザ
やＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系
にし（マスクＭも前述の反射型タイプのものを用い
る）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レ
ンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。
なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることは
いうまでもない。また、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５を用
いることなく、マスクＭとガラス基板Ｐとを密接させて
マスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置
にも適用可能である。

【００７２】基板ステージ５やマスクステージ４にリニ
アモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用
いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型および
ローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型
のどちらを用いてもよい。また、各ステージ４、５は、
ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設け
ないガイドレスタイプであってもよい。

【００７３】各ステージ４、５の駆動機構としては、二
次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイル
を配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各
ステージ４、５を駆動する平面モータを用いてもよい。
この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか
一方をステージ４、５に接続し、磁石ユニットと電機子
ユニットとの他方をステージ４、５の移動面側に設けれ
ばよい。

【００７４】基板ステージ５の移動により発生する反力
は、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）に
記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に
床（大地）に逃がしてもよい。マスクステージ４の移動
により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報
（US S/N 08/416,558）に記載されているように、フレ
ーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよ
い。

【００７５】複数の光学素子から構成される照明光学系
２（照明系モジュール１０ａ〜１０ｅ）および投影光学
系３（投影系モジュール３ａ〜３ｅ）をそれぞれ露光装
置本体に組み込んでその光学調整をするとともに、多数
の機械部品からなるマスクステージ４や基板ステージ５
を露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、ブラ
インド５１、５２や接続部５９、６０を取り付け、さら
に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより
本実施の形態の露光装置１を製造することができる。な
お、露光装置１の製造は、温度およびクリーン度等が管
理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

【００７６】液晶表示素子や半導体デバイス等のデバイ
スは、各デバイスの機能・性能設計を行うステップ、こ
の設計ステップに基づいたマスクＭを製作するステッ
プ、ガラス基板Ｐ、ウエハ等を製作するステップ、前述
した実施の形態の露光装置１によりマスクＭのパターン
をガラス基板Ｐ、ウエハに露光するステップ、各デバイ
スを組み立てるステップ（ウエハの場合、ダイシング工
程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査
ステップ等を経て製造される。

【００７７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る照
明領域設定装置は、照明領域を設定する設定部がビーム
の光路方向に沿って離間して設けられる構成となってい
る。これにより、この照明領域設定装置では、駆動系を
設定部と離間して配置することで、駆動系からの発塵に
起因する汚染を未然に防ぎながら設定部を結像面に近付
けることが可能になり、汚染防止と十分なエッジ精度と
を両立して得られるという効果を奏する。また、設定部
を光路方向に離間して設けることで、結像面に接近する
設定部の面積を小さくすることが可能になるので、良好
な平面度が得易くなり、設定部を一層結像面に近付ける
ことができ、エッジ精度を向上させることができる。

【００７８】請求項２に係る露光装置は、マスクと基板
との少なくとも一方の近傍に、請求項１記載の照明領域
設定装置が配設される構成となっている。これにより、
この露光装置では、設定部の駆動系からの発塵に起因す
るマスク、基板の汚染を未然に防ぎながら設定部をマス
ク、基板の結像面に近付けることが可能になり、汚染防
止と十分なエッジ精度とを両立して得られるという効果
を奏する。また、設定部を光路方向に離間して設けるこ
とで、マスク、基板の結像面に接近する設定部の面積を
小さくすることが可能になるので、良好な平面度が得易
くなり、設定部を一層結像面に近付けることができ、エ
ッジ精度が向上するという効果が得られる。

【００７９】請求項３に係る露光装置は、パターンを基
板に投影する投影光学系と基板との間に設定部を配設す
る構成となっている。これにより、この露光装置では、
汚染防止と基板に投影される投影像に関する十分なエッ
ジ精度とを両立して得られるという効果を奏する。ま
た、設定部を光路方向に離間して設けることで、基板の
結像面に接近する設定部の面積を小さくすることが可能
になるので、良好な平面度が得易くなり、設定部を一層
結像面に近付けることができ、エッジ精度が向上すると
いう効果が得られる。

【００８０】請求項４に係る露光装置は、第１部分の光
路方向に沿った長さｂと、第２部分の光路方向とほぼ直
交する方向の長さａとが、投影光学系の開口数をＮＡと
したときに、ａ≧ｂ×ＮＡの関係式を満足する構成とな
っている。これにより、この露光装置では、第１部分に
おいて投影光学系の開口数に応じて発生する滲みを第２
部分で遮光することが可能になり、エッジ精度を一層良
好に得ることができるという効果を奏する。

【００８１】請求項５に係る露光装置は、第１設定部が
マスクの近傍に配置され第１方向の照明領域を設定し、
第２設定部が基板の近傍に配置され第１方向とは異なる
第２方向の照明領域を設定する構成となっている。これ
により、この露光装置では、第１設定部とマスクとの間
の距離、および第２設定部と基板との間の距離、すなわ
ち両設定部と結像面との間の距離を等しくすることがで
きるので、大型の基板を露光する際に設定部の面積およ
び肉厚が大きくなっても、設定部間でエッジ精度に差が
生じることを防止できるという効果が得られる。

【００８２】請求項６に係る露光装置は、照明領域設定
装置が並列する光路の列毎に設定部を有する構成となっ
ている。これにより、この露光装置では、設定部で照明
領域を遮光した際にも、設定部間の隙間を介してマスク
と基板との相対距離を高精度に計測することが可能にな
り、所定の結像特性にて露光できるという効果が得られ
る。

【００８３】請求項７に係る露光装置は、光路の列毎に
設けられた設定部が請求項１記載の設定部である構成と
なっている。これにより、この露光装置では、設定部間
の隙間を介してマスクと基板との相対距離を高精度に計
測することが可能になるとともに、汚染防止と十分なエ
ッジ精度とを両立して得られるという効果を奏する。

【００８４】請求項８に係る露光装置は、電位維持装置
が照明領域設定装置をマスクホルダと基板ホルダとの少
なくとも一方のホルダと同じ電位に維持する構成となっ
ている。これにより、この露光装置では、設定部をマス
ク、基板に近付けた状態でマスク、基板を剥離しても剥
離帯電に起因するスパークが発生しないため、スパーク
によって基板上に露光されたパターンが破壊されたり、
マスク上に形成されたパターンが焼き切れたりすること
を回避できるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、投影
光学系とガラス基板との間に配置されたブラインドの詳
細図である。

【図２】本発明の実施の形態を示す図であって、ブラ
インドがマスク、ガラス基板の近傍にそれぞれ分離して
配置された露光装置の外観斜視図である。

【図３】同露光装置の概略構成図である。

【図４】本発明の実施の形態を示す図であって、イメ
ージフィールドとブラインドとの位置関係を示す平面図
である。

【図５】本発明の実施の形態を示す図であって、マス
クの近傍にブラインドが配置された正面図である。

【図６】本発明の実施の形態を示す図であって、ガラ
ス基板の近傍にブラインドが配置された正面図である。

【図７】従来技術のブラインドの一例を示す構成図で
ある。

【符号の説明】

Ｂビーム（露光光）Ｍマスク（レチクル）Ｐガラス基板（基板）１露光装置３投影光学系４マスクステージ（マスクホルダ）５基板ステージ（基板ホルダ）１８照明領域設定装置５１ブラインド（設定部、第１設定部）５１ａ、５２ａエッジ部（第２部分）５１ｂ、５２ｂ垂直部（第１部分）５２ブラインド（設定部、第２設定部）５９、６０接続部（電位維持装置）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H097 AA03 AB07 CA12 CA13 CA15 CA16 GB01 GB02 GB03 LA10 LA12 5F046 BA05 CA02 CA04 CB05 CB08 CB13 CB23 CB24 CC01 CC02 CC03 CC16 DA05 DA12 DA14 DB08 EA02 EB01 EB02 ED01 FA03 FA11 FC04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ビームが照明する照明領域を設定する照
明領域設定装置であって、前記ビームが通過する光路方向に沿って離間して設けら
れ、前記照明領域を設定する設定部を備えることを特徴
とする照明領域設定装置。
【請求項２】ビームの照明領域を照明領域設定装置で
設定してマスクのパターンを基板に露光する露光装置に
おいて、前記マスクと前記基板との少なくとも一方の近傍に、前
記照明領域設定装置として請求項１記載の照明領域設定
装置が配設されることを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項２記載の露光装置において、前記マスクと前記基板との間に配設され、前記パターン
を前記基板に投影する投影光学系を備え、前記設定部を前記投影光学系と前記基板との間に配設し
たことを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項３記載の露光装置において、前記設定部は、前記光路方向に沿って長さｂを有した第
１部分と、該第１部分と接続し前記光路方向とほぼ直交
する方向に長さａを有した第２部分とを有し、前記投影
光学系の開口数をＮＡとしたときに、ａ≧ｂ×ＮＡの関係式を満足することを特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項２記載の露光装置において、前記設定部は、前記マスクの近傍に配置され前記照明領
域のうち第１方向の照明領域を設定する第１設定部と、前記基板の近傍に配置され前記第１方向とは異なる第２
方向の照明領域を設定する第２設定部とを備えているこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項６】互いに間隔をあけて並列する複数のビー
ムの照明領域を照明領域設定装置で設定し、前記複数の
ビームの光路に対しマスクと基板とを同期移動して前記
設定された照明領域に対応する前記マスクのパターンを
前記基板に露光する露光装置において、前記照明領域設定装置は、前記照明領域を設定する設定
部を、前記並列する光路の列毎に有していることを特徴
とする露光装置。
【請求項７】請求項６記載の露光装置において、前記設定部は、請求項１記載の設定部であることを特徴
とする露光装置。
【請求項８】ビームの照明領域を照明領域設定装置で
設定し、該設定された照明領域に対応するマスクのパタ
ーンを基板に露光する露光装置において、前記照明領域設定装置を、前記マスクを保持するマスク
ホルダと前記基板を保持する基板ホルダとの少なくとも
一方のホルダと同じ電位に維持する電位維持装置を備え
ることを特徴とする露光装置。