JP2008187148A - 半導体装置の製造方法およびマーキング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】まず、半導体ウエハー100の表面に半導体素子の表面側素子構造部を形成した後、表面側素子構造部が形成された半導体ウエハー100の裏面を、外周端部から所定幅を残して所定深さまで除去してリブ構造を形成する。つぎに、リブ構造が形成された半導体ウエハー100の裏面に金属電極膜を形成する。つづいて、半導体ウエハー100の表面側に設けられたカメラ205を用いて半導体ウエハー100の表面側素子構造部を観察し、表面側素子構造部の形成位置Pに基づいて半導体ウエハーの切断位置調節用マークを半導体ウエハー100の裏面に形成する。そして、切断位置調節用マークを用いて半導体ウエハー100をチップ状に切断する。
【選択図】図3
Description
はじめに、実施の形態1にかかる半導体装置の製造方法で用いる半導体ウエハーの構造について説明する。図1は、実施の形態1で用いる半導体ウエハー(リブ構造ウエハー)の構造の一例を示す説明図である。なお、図1は、リブ構造ウエハーの裏面を図示している。
実施の形態1では、CCDカメラ205によってリブ構造ウエハー100の表面素子構造部を観察して、ダイシングラインの位置決めをおこなった。つぎに説明する実施の形態2では、リブ構造ウエハー100の裏面に形成された金属電極膜の一部を除去し、除去された部分から赤外線カメラによって表面素子構造部を観察し、ダイシングラインの位置決めをおこなう。なお、実施の形態2においても、実施の形態1と同様に図1に示したリブ構造ウエハー100を用いるものとして説明する。
101 内周部
102 外周部
200 マーキング装置
201 XYステージ
202 X軸調節ネジ
203 Y軸調節ネジ
204 Z軸調節ネジ
205 CCDカメラ
206 レーザーマーカー
207 スイッチ
210 開口部
230 モニター
Claims (12)
- 第1主面の外周端部が他の領域よりも厚い半導体ウエハーの前記第1主面に金属電極膜を形成する裏面電極形成工程と、
前記半導体ウエハーの第2主面側の形状を観察しながら、前記第2主面側の形状に基づいて前記半導体ウエハーの第1主面に前記半導体ウエハーの切断位置調節用マークを形成するマーキング工程と、
をこの順に含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記マーキング工程では、前記半導体ウエハーの前記第2主面側に設けられたカメラを用いて前記第2主面側の形状を観察することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 第1主面の外周端部が他の領域よりも厚い半導体ウエハーの前記第1主面に金属電極膜を形成する裏面電極形成工程と、
前記半導体ウエハーの前記第1主面に形成された前記金属電極膜を選択的に除去する電極膜除去工程と、
前記金属電極膜が除去された領域の第2主面側の形状を観察しながら、前記第2主面側の形状に基づいて前記半導体ウエハーを第1主面側からダイシングするダイシング工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記マーキング工程では、前記半導体ウエハーの前記第1主面側に設けられた赤外線カメラを用いて前記第2主面側の形状を観察することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記マーキング工程では、前記半導体ウエハーの前記第1主面にレーザー光を照射し、前記レーザー光の照射痕を前記切断位置調節用マークとすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記マーキング工程では、前記半導体ウエハーの前記第1主面に前記金属電極膜よりも硬質な部材を圧接し、前記部材による圧接痕を前記切断位置調節用マークとすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記マーキング工程では、前記半導体ウエハーの前記第1主面にインクを付着させ、前記インクを前記切断位置調節用マークとすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記マーキング工程で形成された前記切断位置調節用マークを用いて前記半導体ウエハーをチップ状に切断する切断工程を含んだことを特徴とする請求項1〜7に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体ウエハーの第1主面を観察しながら前記半導体ウエハーの第2主面にマークを形成するマーキング装置であって、
前記半導体ウエハーの第1主面側に設けられ、前記第1主面を撮影する撮影手段と、
前記半導体ウエハーの第2主面側に設けられ、前記第2主面に前記マークを形成するマーキング手段と、
を備えることを特徴とするマーキング装置。 - 前記マーキング手段は、前記半導体ウエハーの前記第2主面にレーザー光を照射し、前記レーザー光の照射痕を前記マークとすることを特徴とする請求項9に記載のマーキング装置。
- 前記マーキング手段は、前記半導体ウエハーの前記第2主面に前記半導体ウエハーよりも硬質な部材を圧接し、前記部材による圧接痕を前記マークとすることを特徴とする請求項9に記載のマーキング装置。
- 前記マーキング手段は、前記半導体ウエハーの前記第2主面にインクを付着させ、前記インクを前記マークとすることを特徴とする請求項9に記載のマーキング装置。
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