JP2008175653A - 基板検査装置及び基板検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高角度投光系は、光線をその一部が基板1の表面で反射され一部が基板1の内部へ透過する入射角θ1で基板1の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板1の第1の走査を行う。低角度投光系は、光線をそのほとんどが基板1の表面で反射される入射角θ2で基板1の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板1の第2の走査を行う。CPU60は、第1の走査時及び第2の走査時に欠陥検出回路25が上受光系で受光した散乱光から同じ位置で検出した欠陥を、基板1の表面の欠陥と判定し、第1の走査時に欠陥検出回路35が下受光系で受光した散乱光から検出したそれ以外の欠陥を、基板1の内部又は裏面の欠陥と判定する。
【選択図】図1
Description
2 欠陥
5 検査テーブル
10a.10b 走査部
11a,11b レーザー光源
12a,12b レンズ
12c,12d fθレンズ
13a,13b ポリゴンミラー
14a,14b,14c ミラー
15a,15b 角度検出器
21,31 レンズ
22,32 受光部
22a,32a 光ファイバー
23,33 光電子倍増管
24,34 アンプ
25,35 欠陥検出回路
40 焦点調節機構
41 焦点調節制御回路
42 位置調節機構
43 位置調節制御回路
50 基板移動機構
51 基板移動制御回路
60 CPU
70 メモリ
Claims (4)
- 光線をその一部が基板の表面で反射され一部が基板の内部へ透過する角度で基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板の第1の走査を行う第1の投光系と、
光線をそのほとんどが基板の表面で反射される角度で基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板の第2の走査を行う第2の投光系と、
レンズと複数の光ファイバーを束ねた受光部とを有し、基板の表面側に配置され、光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を受光する第1の受光系と、
レンズと複数の光ファイバーを束ねた受光部とを有し、基板の裏面側に配置され、光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を受光する第2の受光系と、
前記第1の受光系が受光した散乱光から基板の欠陥を検出する第1の検出手段と、
前記第2の受光系が受光した散乱光から基板の欠陥を検出する第2の検出手段と、
第1の走査時及び第2の走査時に前記第1の検出手段が同じ位置で検出した欠陥を、基板の表面の欠陥と判定し、第1の走査時に前記第2の検出手段が検出したそれ以外の欠陥を、基板の内部又は裏面の欠陥と判定する処理手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 検出すべき欠陥の基板の表面からの深さに応じて、前記第2の受光系の位置を調節する位置調節手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 光線をその一部が基板の表面で反射され一部が基板の内部へ透過する角度で基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板の第1の走査を行い、
光線をそのほとんどが基板の表面で反射される角度で基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板の第2の走査を行い、
光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を、基板の表面側に配置された、レンズと複数の光ファイバーを束ねた受光部とを有する第1の受光系で受光し、
光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を、基板の裏面側に配置された、レンズと複数の光ファイバーを束ねた受光部とを有する第2の受光系で受光し、
第1の受光系で受光した散乱光から基板の欠陥を検出し、
第2の受光系で受光した散乱光から基板の欠陥を検出し、
第1の走査時及び第2の走査時に第1の受光系で受光した散乱光から同じ位置で基板の欠陥を検出したとき、その欠陥を基板の表面の欠陥と判定し、第1の走査時に第2の受光系で受光した散乱光から検出したそれ以外の欠陥を、基板の内部又は裏面の欠陥と判定することを特徴とする基板検査方法。 - 検出すべき欠陥の基板の表面からの深さに応じて、第2の受光系の位置を調節することを特徴とする請求項3に記載の基板検査方法。
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