JP2008090287A - 微細パターンの設計方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微細パターンを被転写物にそのまま転写させるための微細パターンの設計方法及びその装置である。該方法は、露光用微細パターンのオリジナルデータを読み取り、微細パターンを補正の不要な第1パターンと補正の必要な第2パターンとに区分し、第2パターンに対して第1間隔D1を維持する補助パターンを形成して微細パターンを補正し、第1及び第2補助パターンが備えられたプログラムを実行して被転写物に転写される微細パターンを予測し、予測された微細パターンとオリジナルデータとを比較して差がなければ、補正された微細パターンを最終の微細パターンと決定する。
【選択図】図3
Description
102 分離の必要なパターン
110 第1補助パターン
112 第2補助パターン
114 トリミングパターン
116 ノッチされた部分
Claims (19)
- 露光用微細パターンのオリジナルデータを読み取るステップと、
前記微細パターンを補正の不要な第1パターンと補正の必要な第2パターンとに区分するステップと、
前記第2パターンに対して第1間隔D1を維持する補助パターンを形成して、前記微細パターンを補正するステップと、
前記第1及び第2補助パターンが備えられたプログラムを実行して被転写物に転写される微細パターンを予測するステップと、
前記予測された微細パターンと前記オリジナルデータとを比較して差がなければ、前記補正された微細パターンを最終の微細パターンと決定するステップと、
を含むことを特徴とする微細パターンの設計方法。 - 前記第1及び第2パターンを区分するステップは、
多角形態の微細パターンのうち前記区分の必要なパターンを選定するステップと、
前記多角形態の微細パターンを四角形態の微細パターンに分離するための連結部位を決定するステップと、
前記連結部位を除去して前記第1及び第2パターンを分離するステップと、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記第1及び第2パターンを分離するステップの後に、
前記第1及び第2パターンの分離が正しく行われたか否かを確認するステップと、
前記分離が正しく行われなかったならば、前記区分の必要なパターンを再び選定するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記第1及び第2パターンを分離したステップの後に、
前記第1及び第2パターンの分離が正しく行われたか否かを確認するステップと、
前記分離が正しく行われたならば、前記連結部位を再結合するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記第1及び第2パターンを分離したステップの後に、
前記第1及び第2パターンが写真エッチング工程により形成されうるか否かを判断するステップと、
前記パターンが写真エッチング工程により形成できないならば、前記区分の必要なパターンを再び選定するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記補助パターンを形成するステップにおいて、
前記補助パターンは、幅W1を有した前記第2パターンに対して第1間隔D1を維持しつつ独立的に配置された第1補助パターンであることを特徴とする請求項1に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記第1補助パターンの間の間隔は、(W1+2×D1)であることを特徴とする請求項6に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記第1補助パターンは、ライン形態の前記第2パターンの周囲に沿って前記第1間隔D1が維持されるように離隔されていることを特徴とする請求項6に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記第1補助パターンの幅W2は、前記第2パターンの幅W1と同じであることを特徴とする請求項6に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記補助パターンを形成するステップにおいて、
前記補助パターンは、前記第1パターンに対して第1間隔D1を維持するように前記第1パターンに結合された第2補助パターンであることを特徴とする請求項1に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記第2補助パターンは、ライン形態の前記第2パターンの少なくとも一側に前記第1間隔D1が維持されるように離隔されていることを特徴とする請求項10に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記第2補助パターンの幅W3は、前記第2パターンの幅W1より狭いことを特徴とする請求項10に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記補助パターンを形成するステップの後に、
前記第1補助パターンと第2補助パターンとの間に形成される不要な物質を除去するためのトリミングパターンを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の微細パターンの設計方法。 - 前記トリミングパターンで除去せねばならない物質は、エッチング過程で残留する物質であることを特徴とする請求項13に記載の微細パターンの設計方法。
- 前記微細パターンを予測するステップの後に、
前記第2パターンにノッチされた部分があるか否かを確認するステップと、
前記ノッチされた部分があれば、前記補助パターンを形成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の微細パターンの設計方法。 - 露光用微細パターンのデータを読み取る手段と、
前記微細パターンを補正の不要な第1パターンと補正の必要な第2パターンとに区分する手段と、
前記第2パターンに対して第1間隔D1を維持する補助パターンを形成して前記微細パターンを補正する手段と、
前記第1及び第2補助パターンが備えられたプログラムを実行して被転写物に転写される微細パターンを予測する手段と、
前記予測された微細パターンと前記オリジナルデータとを比較して差がなければ、前記補正された微細パターンを最終の微細パターンと決定する手段と、を備えることを特徴とする微細パターンの設計装置。 - 前記補助パターンを形成するステップにおいて、
前記補助パターンは、幅W1を有した前記第2パターンに対して第1間隔D1を維持しつつ独立的に配置された第1補助パターンであることを特徴とする請求項16に記載の微細パターンの設計装置。 - 前記補助パターンを形成するステップにおいて、
前記補助パターンは、前記第1パターンに対して第1間隔D1を維持するように前記第1パターンに結合された第2補助パターンであることを特徴とする請求項16に記載の微細パターンの設計装置。 - 前記補助パターンを形成するステップの後に、
前記第1補助パターンと第2補助パターンとの間に形成される不要な物質を除去するためのトリミングパターンを形成する手段をさらに備えることを特徴とする請求項16に記載の微細パターンの設計装置。
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