JP2008014859A - 放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】放射線像変換パネルにおいて、蛍光体層と保護層との密着強度を向上することができ、さらに、ヒロックや基板上に固定される枠と蛍光体層との段差に起因する、保護層の浮きを最小限にすることができ、この保護層浮きに起因する保護層と蛍光体層との密着強度の低下および画質低下を最小限にした、高画質な放射線画像を得ることができる放射線像変換パネル、および、放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線像変換パネル１０の製造では、基板１２に蛍光体層１４を形成してなるパネル本体２６と、保護層３６および剥離可能な裏打ちフィルム３２を貼着してなるシート材３０とを、蛍光体層１４と保護層３６とを対面させて積層し、パネル本体２６とシート材３０とを圧着する第１の圧着を行う。その後、保護層３６から裏打ちフィルム３２を剥離して、保護層３６とパネル本体２６とを圧着する第２の圧着を行う。
【選択図】図１

Description

本発明は、放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法の技術分野に属し、詳しくは、蛍光体層表面に貼着された保護層に圧着を行う放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法に関する。

放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。

一例として、この輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層 以下、蛍光体層とする）を有する放射線像変換パネル（以下、変換パネルとする（放射線像変換シートとも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フイルム社製のＦＣＲ（Fuji Computed Radiography)等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、変換パネル（蛍光体層）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、変換パネルをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。

変換パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の基板に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、基板に蛍光体層を形成してなる変換パネルも知られている。真空成膜法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、輝尽性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。

真空成膜法で蛍光体層を形成した変換パネルの特性を劣化させる１つの要因として、蛍光体層表面に生じる微少の凹凸（微少突起部、以下、ヒロックとする）が挙げられる。
蛍光体層、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の蛍光体層は、柱状結晶構造を有するが、この柱状結晶の成長過程において、柱状結晶が局所的に異常成長したり、隣接する柱状結晶が互いに融合したりすることによって、図４（a）に示すように、蛍光体層１１４表面にヒロック１５０を生じる。
なお、図４（a）は、蛍光体層１１４表面にヒロック１５０が生じた際の変換パネルの一部を模式的に表した図である。

また、変換パネルの特性を劣化させる別の要因として、蛍光体層１１４の吸湿が挙げられる。
蛍光体層１１４、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。その結果、輝尽発光特性すなわち感度の低下や、輝尽性蛍光体の結晶性の低下（例えば、柱状構造をもつアルカリハライド系の輝尽性蛍光体であれば、結晶の柱状性の崩壊）による再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。
このような不都合をなくすために、変換パネルには、防湿性を有する透明シートを保護層１３６として用いて、この保護層１３６で蛍光体層１１４を覆って封止したものが知られている。

例えば、特許文献１には、蛍光体層１１４表面に保護層１３６を形成する方法の一つとして、ハンドリングやしわ防止のために、保護層１３６（耐湿性フィルム）に保護層１３６の支持体となる裏打ちフィルム（再剥離フィルム）を貼り合せてなるシート材（貼合せフィルム）を用いて、このシート材の保護層１３６と蛍光体層１１４とを対面させて積層／圧着した後、保護層１３６から裏打ちフィルムを剥離して得られることを特徴とする放射線像変換パネルが開示されている。

ここで、上述のヒロック１５０を有する蛍光体層１１４表面を、保護層１３６等の被膜で覆うと、図４（a）に示すように、保護層１３６が、ヒロック１５０に追随せず、ヒロック１５０を中心にテントを貼ったように蛍光体層１１４から浮いた状態になる。この状態で、変換パネルの画像の再生を行うと、ヒロック１５０自身に起因する画像欠陥のみならずヒロック１５０によって保護層１３６が蛍光体層１１４から浮いた部分全て、すなわち、ヒロック１５０を中心にテント状になった領域全てが画像欠陥となってしまう。その結果、このヒロック１５０に起因する画像欠陥は、放射線画像上で点欠陥として視認できるようになり、その結果、各種の診断や検査に支障を来すことになる。

また、図４（ｂ）の模式図に示すように、基板１１２に枠１２０を固定し、この枠１２０内に蛍光体層１１４を形成した変換パネルも知られている。このような変換パネルの蛍光体層１１４を封止するためには、保護層１３６等の被膜を蛍光体層１１４表面および枠１２０上面に貼着する。このとき、図４（ｂ）に示すように、保護層１３６が蛍光体層１１４表面と枠１２０上面との段差に追従せず、保護層１３６の端の部分が蛍光体層１１４から浮いてしまい、このような浮きは、点欠陥やムラのみならず、保護層１３６の強度が周囲よりも弱くなる問題があり、また、保護層１３６と蛍光体層１１４との密着強度の低下の要因ともなる。この状態で、変換パネルの画像の再生を行うと、変換パネルの画像端部の保護層１３６が蛍光体層１１４から浮いた領域にムラが生じてしまう。その結果、画像端部の結果を正確に診断することが困難になり、各種の診断や検査に支障を来すことになる。

特開２００５−１７２８００号公報

本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、気相堆積法による蛍光体層を保護層で覆ってなる放射線像変換パネルにおいて、蛍光体層と保護層との密着強度を向上することができ、さらに、ヒロックや放射線像変換パネルの基板上に固定される枠と蛍光体層との段差に起因する、保護層の浮きを最小限にすることができ、この保護層浮きに起因する保護層と蛍光体層との密着強度の低下および画質低下を最小限にした、高画質な放射線画像を得ることができる放射線像変換パネル、および、放射線像変換パネルの製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明は、気相堆積法によって形成された蛍光体層を有し、この蛍光体層を保護層で覆ってなる放射線像変換パネルを製造するに際し、基板に前記蛍光体層を形成してなるパネル本体と、前記保護層および剥離可能な裏打ちフィルムを貼着してなるシート材とを、前記保護層の裏打ちフィルムの無い面あるいは前記蛍光体層表面の一方または双方に接着剤を塗布した後、前記蛍光体層と前記保護層とを対面させて積層して、前記パネル本体とシート材とを圧着する第１の圧着を行い、その後、前記保護層から前記裏打ちフィルムを剥離して、前記保護層と前記パネル本体とを圧着する第２の圧着を行うことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法を提供するものである。

本発明においては、前記蛍光体層と前記保護層とを接着する接着剤が熱可塑性樹脂であり、かつ、前記第１の圧着および第２の圧着が熱圧着であるのが好ましい。

また、本発明においては、前記保護層の熱伝導率が０．０１Ｗ／ｍ・Ｋ〜１０．０Ｗ／ｍ・Ｋであるのが好ましい。

また、本発明においては、前記保護層のヤング率が０．０１ＧＰａ〜１００ＧＰａであるのが好ましい。

また、本発明においては、前記保護層の厚みが１μｍ〜２０μｍであるのが好ましい。

また、本発明においては、前記保護層は、熱伝導率が０．１Ｗ／ｍ・Ｋ〜０．３Ｗ／ｍ・Ｋで、ヤング率が１ＧＰａ〜１０ＧＰａで、さらに、厚みが１μｍ〜１０μｍであるのが好ましい。

上記目的を達成するために、本発明は、上記いずれかの放射線像変換パネルの製造方法で製造されてなる放射線像変換パネルを提供するものである。

本発明は、気相堆積法による蛍光体層を保護層等で覆ってなる放射線像変換パネルにおいて、ハンドリングやしわ防止のために裏打ちフィルムと保護層とを貼着したシート材を用いると共に、まず、シート材と蛍光体層とを圧着する第１の圧着を行い、保護層（シート材）から裏打ちフィルムを剥離した後に、保護層と蛍光体層とを圧着する第２の圧着を行う。
そのため、本発明は、裏打ちフィルムと保護層とを貼着したシート材を用いることで、ハンドリング性の向上や保護層のシワ防止を図り、第１の圧着で裏打ちフィルムの剥離作業性を充分に確保できると共に、第２の圧着を行うことにより、保護層をヒロックや蛍光体層表面と枠上面との段差に追随させることができ、これらに起因する保護層の浮きを最小限にできる。その結果、この浮きに起因する放射線画像の画質低下を最小限にして、高画質な放射線画像を得ることができ、さらに、放射線像変換パネルの歩留りも向上することができ、浮きに起因する保護層と蛍光体層との密着強度低下も防止できる。

以下、本発明の放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法について、添付の図を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の放射線像変換パネルの製造方法の一実施形態を示す概略製造工程図である。

本発明の放射線像変換パネル（以下、単に変換パネルとする）１０は、本実施形態においては、気相堆積法によって形成された蛍光体層１４を有し、接着層３８を介して、この蛍光体層１４を保護層３６で覆ってなる変換パネル１０（図１（ｄ）参照）を製造するに際し、図１（ａ）に示すように、枠２０が固定された基板１２に蛍光体層１４を形成してなる放射線像変換パネル本体（以下、単に変換パネル本体とする）２６と、保護層３６と剥離可能な裏打ちフィルム３２とを貼着し、さらに、裏打ちフィルム３２が貼着されていない保護層３６表面に接着層３８を形成してなるシート材３０とを、図１（ｂ）に示すように、蛍光体層１４と保護層３６（接着層３８）とを対面させて積層して、シート材３０と変換パネル本体２６とを圧着する第１の圧着を行い、その後、保護層３６から裏打ちフィルム３２を剥離して、保護層３６と変換パネル本体２６とを圧着する第２の圧着を行うことにより形成されるものである。

図１（ａ）に示すように、シート材３０は、本実施形態においては、裏打ちフィルム３２、保護層３６および接着層３８とで構成されるものである。

本発明において、裏打ちフィルム３２は、蛍光体層１４に貼り合せる保護層３６の支持体となるものであり、汎用の裏打ちシート付きのシール等のように、保護層３６から剥離可能なものである。

本発明において、裏打ちフィルム３２は、上述のように、最終用途である本発明の変換パネル１０を得る前に剥離されるため、透明である必要はなく、また、形成材料にも特に限定は無いが、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系プラスチック、ポリ塩化ビニールやポリアクリロニトリル等のビニル系プラスチック、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系プラスチック、ポリウレタン系プラスチック、アクリル系プラスチック、ビスフェノールＡをビスフェノール成分として含有するポリカーボネート、等のプラスチックを好ましく用いることができる。

また、裏打ちフィルム３２は、置換あるいは非置換シクロアルキリデン基、炭素数が５以上のアルキリデン基やアラアルキレン基を有するビスフェノール成分をビスフェノール成分の一部として含有するポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステルカーボネートなどのプラスチックが好適である。具体的には、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロへキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ペンタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタンをビスフェノール成分として有するポリカーボネート、ポリアリレートやポリエステルカーボネート、等のプラスチックも用いることができる。

さらに、裏打ちフィルム３２は、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアミド、セルローストリアセテートなどのプラスチックも、好適に用いることができる。加えて、環状オレフィン系やノルボルネン系のプラスチックやフルオレン骨格を有するアモルファスのポリエステル系のプラスチックも好適に用いることができる。

特に、裏打ちフィルム３２は、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系プラスチック、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系プラスチックから成るフィルムが好ましい。

本発明においては、裏打ちフィルム３２の厚みには、特に限定は無いが、１０μｍ〜５００μｍであるのが好ましく、さらに、２０μｍ〜１５０μｍであるのがより好ましい。裏打ちフィルム３２の厚みを１０μｍ以上とすることにより、保護層３６を支持することや保護層３６を蛍光体層１４表面および枠２０上面にラミネートする際のハンドリングを容易にすることが可能となる。また、裏打ちフィルム３２の厚みを５００μｍ以下とすることにより、裏打ちフィルム３２に保護層３６を貼着した後の巻取りや第１の圧着におけるシート材３０と変換パネル２６との圧着を充分に行うことができる。

本発明においては、裏打ちフィルムの剥離力は、小さい方が好ましいが、余り小さいと、積層フィルム加工時に発泡などの問題を生じやすい。一方、余り大きいと再剥離時にフィルムが変形するなどの不都合を生じる。従って、剥離強度は１０ｇ／２５ｍｍ〜７０ｇ／２５ｍｍの範囲が好ましく、さらには１５ｇ／２５ｍｍ〜５０ｇ／２５ｍｍの範囲がより好ましい。

本発明において、保護層３６は、吸湿性の高い蛍光体層１４を覆って、蛍光体層１４の吸湿を防止するものであり、防湿性に優れたもので、かつ、放射線の入射および蛍光体層１４からの発光光の出射を妨げない光学特性を有するものであれば、特に限定は無い。

本発明においては、保護層３６の熱伝導率には、特に限定は無いが、０．０１Ｗ／ｍ・Ｋ〜１０．０Ｗ／ｍ・Ｋであるのが好ましく、さらに、０．１Ｗ／ｍ・Ｋ〜０．３Ｗ／ｍ・Ｋであるのがより好ましい。
保護層３６の熱伝導率が０．０１Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることにより、第１の圧着として熱圧着（熱ラミネート）を行った際に、効果的に接着層３８に熱を伝導することができ、特に、熱可塑性樹脂で形成された接着層３８を介して、シート材３０と蛍光体層１４表面および枠上面（変換パネル本体２６）とを貼着する場合には、シート材３０と蛍光体層１４表面および枠上面との充分な密着強度を確保することができる。また、保護層３６の熱伝導率が０．０１Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることにより、第２の圧着として熱ラミネートをを行った際にも、効果的に接着層３８に熱を伝導することができ、特に、接着層３８が熱可塑性樹脂で形成される場合には、接着層３８を軟化させ、粘着性を上昇させることができる。これにより、保護層３６が蛍光体層１４表面のヒロックや蛍光体層１４表面および枠２０上面との段差を追従した状態で、保護層３６と蛍光体層１４表面および枠２０上面とを貼着することが可能になる。また、保護層３６の熱伝導率が１０．０Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることにより、第１および第２の圧着として、熱ラミネートを行った際に、熱が保護層３６や蛍光体層１４に過剰に伝導し、保護層３６や蛍光体層１４にダメージを与えることを防止することができる。

本発明においては、保護層３６のヤング率には、特に限定は無いが、０．０１ＧＰａ〜１００ＧＰａであるのが好ましく、さらに、１ＧＰａ〜１０ＧＰａであるのがより好ましい。
保護層３６のヤング率が０．０１ＧＰａ以上であることにより、第１および第２の圧着によって、保護層３６がダメージを受けることを防止することができる。また、保護層３６のヤング率が１０ＧＰａ以下であることにより、第２の圧着の際に、保護層３６が蛍光体層１４表面のヒロック５０や蛍光体層１４表面と枠２０上面との段差を追従することが可能になる。

本発明においては、保護層３６の厚みには、特に限定は無いが、１μｍ〜２０μｍであるのが好ましく、さらに、１μｍ〜１０μｍであるのがより好ましい。
保護層３６の厚みが１μｍ以上であることにより、裏打ちフィルム３２に保護層３６を貼着する際のハンドリングを容易に行うことができる。また、保護層３６の厚みが２０μｍ以下であることにより、第１の圧着の際には、シート材３０と変換パネル本体２６とを充分に貼着ることが可能になり、また、第２の圧着の際には、保護層３６が蛍光体層１４表面のヒロック５０や蛍光体層１４表面と枠２０上面との段差を追従することが可能になる。

本発明において、保護層３６には、特に限定はなく、充分な防湿性、強度、透明性、化学的安定性を備えていれば公知のフィルム（シート）を使用することが可能で、具体的には、公知のポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、アラミド樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデンなどの材料から任意に選ぶことができる。

また、本発明においては、保護層３６は、図１に示すような単層構造ではなく、上述のフィルムの上に、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物などの無機層を積層したものであってもよい。一例として、フィルム上に積層する膜は、波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収が少なくかつガスバリア性を有する無機物質を蒸着した透明な蒸着層であることが好ましい。波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収が少ない無機物質としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化窒化ケイ素、酸化窒化アルミニウム等を好ましくあげることができる。これらのうち特に酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素は光透過率が高くかつガスバリア性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるのでより好ましく用いることができる。
また、上述のフィルム上に積層する膜も単層構造に限定されず、無機層の二層構造としてもよく、それぞれの無機層は異なる材質からなるものであっても、同じ材質からなるものであってもよい。

さらに、上述のフィルム上に積層する膜は、無機層と無機層との間に有機無機複合化合物層を設けた三層構造としてもよい。有機無機複合化合物層は、各種の無機材料と各種の有機材料との複合材料からなる層である。このような複合層を有することにより、無機層の欠陥を埋めることができ、両側に配される無機層が有する防湿性能を最大限に発現することが可能となり、三層構造の機能膜は、長期にわたって吸湿による蛍光体層１４の劣化を防止できる、高品位な変換パネル１０を実現することができる。

上記有機無機複合化合物層は、放射線や輝尽発光光が透過可能であれば、各種の無機材料と有機材料との複合材料からなる層が利用可能である。無機材料としては、一例として、(a)酸化ケイ素等の前述の防湿層を形成する物質であって粉末状としたもの、(b)1種以上の金属アルコキシドおよびその加水分解物、ならびに、(c)塩化スズのうちの少なくとも1種からなるものが用いられる。他方、有機材料としては、ポリビニルアルコール(PVA)やメチルセルース等の水溶性高分子物質が用いられる。

上記有機無機複合化合物層の形成は、上記無機材料と有機材料の混合物を、水溶液あるいは水／アルコール混合溶液とし、これを主剤とするコーティング剤を塗布等することにより行う。具体的な形成方法にも、特に限定はなく、ゾルゲル法、グラビアコーティング、ロールコーティング、ドクターブレードコーティング、ディップコーティング、スライドコーティングおよびエクストルージョンコーティングなどの各種の塗布法、スクリーン印刷法、スプレー法等の各種の成膜手段が利用可能である。有機無機複合化合物層の厚さは特に限定するものではないが、良好な防湿性能が得られる厚さであって、かつトータルでの保護層１４の厚膜化を回避することができるように、０．３μｍ〜１μmであるのが好ましい。また、有機無機複合化合物層において無機材料と有機材料との比率は、機能膜３８の欠陥埋め効果が好適に得られる、すなわち、有機無機複合化合物層自身が防湿性を発現して保護層３６全体として有機無機複合化合物層がバリケード効果を発揮できる等の観点から、有機材料の量を１０重量%〜５０重量%、特に、２０重量%〜４０重量%とすることが好ましい。

本発明において、接着層３８は、蛍光体層１４を保護層３６（シート材３０）で封止接着するために用いられるものであり、放射線の入射及び蛍光体層１４からの発光光の出射を妨げない光学特性をするものであれば、特に限定は無いが、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂を用いることについての利点は、後の変換パネルの製造方法において、詳述する。

他方、図１（a）に示すように、変換パネル本体２６は、本実施形態においては、基板１２と基板１２上に固定される枠２０と枠２０の内側に形成される蛍光体層１４とで構成されるものである。

本発明において、基板１２には特に限定はなく、後の蒸着や熱処理に対する耐熱性に応じて、通常の蛍光体パネルで使用されている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのプラスチックフィルム； 石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックス^TM等）などから形成されるガラス板； アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、クロムシートなどの金属シートあるいは金属酸化物の被服層を有する金属シート； 等が例示される。
なお、本発明においては、基板１２は、前記フィルムやシートそのものであってもよく、あるいは、基材の表面に輝尽発光光を反射するための反射膜、あるいはさらに、反射膜の上に反射膜を保護するためのバリア膜、基材の保護膜等を有するものであってもよい。

本実施形態においては、基板１２表面に、基板１２上における蛍光体層１４の形成領域（すなわち、蛍光体パネルの撮像領域）に応じて、所定の厚み、外形、幅の枠２０を有する。
枠２０の形状には、特に限定はなく、変換パネル１０の撮像領域に応じて、適宜、限定すればよいが、図示例においては、一例として、上下面が開放する四角柱状のものである。
また、枠２０の形成材料にも、特に限定は無いが、変換パネル１０の温度が変化した場合の熱膨張率差による変形を低減するために、例えば、基板１２と同一素材のものが好ましい。

本実施形態においては、上述のように、基板１２上に枠２０を設け、ここに蛍光体層１４の封止を行う保護層３６を接着する構成とすることにより、保護層３６で蛍光体層１４を封止する際に、蛍光体層１４の表面と保護層３６との接着面をほぼ同一平面上にできるため、蛍光体層１４の封止を容易に行う事ができ、且つ、封止時の際における蛍光体層１４の保護も図ることができる。

蛍光体層１４を形成する蛍光体には、特に限定はなく、各種のものが利用可能である。好ましくは、波長が４００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲の励起光により、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が利用される。
好ましい一例として、特開昭６１−７２０８７号公報に開示される、一般式「Ｍ^I Ｘ・ａＭ^IIＸ’₂ ・ｂＭ^III Ｘ₃’’ ：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体が例示される。
（上記式において、Ｍ^Iは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ^IIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、Ｍ^IIIは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０＜ｃ≦０．２である。）

特に、優れた輝尽発光特性を有し、且つ、本発明の効果が良好に得られる等の点で、Ｍ^Iが、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、中でも特に、一般式「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」で示される輝尽性蛍光体が好ましい。

また、これ以外にも、米国特許３，８５９，５２７号明細書や、特開昭５５−１２１４２号、同５５−１２１４４号、同５５−１２１４５号、同５７−１４８２８５号、同５６−１１６７７７号、同５８−６９２８１号、同５９−７５２００号、同５９−３８２７８号等の各公報に開示される輝尽性蛍光体も、好ましく例示される。

本発明においては、蛍光体層１４は、好ましくはこのような輝尽性蛍光体からなり、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)等の各種の気相堆積法によって得られるものである。
中でも、生産性等の点で真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましく、特に、蛍光体成分の材料と、付活剤（賦活剤：activator)成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましい。

蛍光体層１４は、特に限定された成膜条件はなく、成膜方法や形成する蛍光体層１４の組成等に応じて、適宜、決定された成膜条件によって形成され、得られる蛍光体層１４であればよい。一例として、真空蒸着であれば、１×１０^-5Ｐａ〜１×１０^-2Ｐａの真空度で、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎの成膜速度で成膜し、得られる蛍光体層１４が好ましい。なお、多元の真空蒸着により形成される場合には、母体成分と付活剤成分の量比が目的範囲となるように、両材料の蒸発速度が制御される。
また、本件出願人の検討によれば、前述した各種の輝尽性蛍光体、特にアルカリハライド系輝尽性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕを真空蒸着で成膜する場合には、一旦、系内を高い真空度に排気した後、アルゴンガスや窒素ガス等を系内に導入して、０．０１Ｐａ〜３Ｐａ、特に、０．５Ｐａ〜１．５Ｐａ程度の中真空度とし、この中真空下で抵抗加熱等による真空蒸着を行うことにより、蛍光体層１４を形成するのが好ましい。前記ＣｓＢｒ：Ｅｕ等のアルカリハライド系の蛍光体層１４は、柱状結晶構造を有するが、このような中真空下で成膜して得られる蛍光体層１４は、特に良好な柱状の結晶構造を有し、輝尽発光特性画像の鮮鋭性等の点で好ましい。
また、基板１２の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体層１４を３００℃以下、好ましくは２００℃以下で加熱してもよい。
さらに、厚さにも、限定はないが、５０μｍ以上、特に、２００μｍ以上の蛍光体層１４が好ましい。

また、本実施形態においては、接着層３８をシート材３０の保護層３６表面に形成する構成としたが、本発明においては、これに限定されず、変換パネル本体２６の蛍光体層１４表面に設けてもよい。

以下、本発明の変換パネル１０の製造方法について説明する。

本実施形態は、好ましい一例として、保護層３６と蛍光体層１４表面および枠２０上面とを接着する接着層３８に、熱可塑性樹脂を用い、熱ラミネート（熱圧着）によって、第１の圧着および第２の圧着を行うものである。
本発明の変換パネル１０の製造方法は、まず、図１（a）〜（ｂ）に示すように、変換パネル２６の蛍光体層１４に、シート材３０の表面に熱可塑性樹脂で形成された接着層３８を対面させて積層する。次いで、基板１２の温度が１００℃〜１３０℃になるように、基板１２を加熱する。なお、このときの基板１２の加熱温度は、接着層３８に応じて適宜決定すればよい。また、ここでの基板１２の加熱は、後に述べる第１の圧着として熱ラミネートをより効果的に実施することを可能とするが、必ずしも必要では無い。
基板１２の加熱終了後、図１（ｂ）に示すように、本実施形態においては、ローラ６０でシート材３０の表面を押圧しながら移動させて、第１の圧着として熱ラミネートを行うことにより、接着層３８を介して、シート材３０と蛍光体層１４表面および枠２０上面とを圧着する。なお、好ましくは、ローラ６０を加熱しつつ、および／または、基板１２を加熱しつつ圧着する熱ラミネートを行う。なお、このときのローラ６０および／または基板１２の加熱温度は、接着層３８に応じて、適宜決定すればよい。

次いで、図１（ｃ）に示すように、保護層３６から裏打ちフィルム３２を剥離する。
その後、図１（ｄ）に示すように、上述と同様のローラ６０で保護層３６の表面を押圧しながら移動させて、第２の圧着として熱ラミネートを行うことにより、保護層３６と蛍光体層１４表面および枠２０上面とを圧着する。なお、ここでも、好ましくは、ローラ６０を加熱しつつ、および／または、基板１２を加熱しつつ圧着する熱ラミネートを行う。
なお、このときのローラ６０および／または基板１２の加熱温度も、接着層３８に応じて、適宜決定すればよい。

本発明の変換パネル１０の製造方法は、上述のようにして、裏打ちフィルム３２と保護層３６とを貼着したシート材３０を用いることで、ハンドリング性の向上や保護層３６のシワ防止を図り、第１の圧着で裏打ちフィルム３２の剥離作業性を充分に確保できる。また、本発明の変換パネル１０の製造方法は、第２の圧着を行うことにより、保護層３６と蛍光体層１４との密着力をより強くすることができる。さらに、第２の圧着を行うことにより、先に述べた特許文献１等の従来の応報では、図４（ａ）に示すように、ヒロック１５０や蛍光体層１１４表面と枠１２０上面との段差に起因して、保護層３６が浮いてしまうが、図２（ａ）に示すように保護層３６をヒロック５０に追随させることができ、さらに、図２（ｂ）に示すように、保護層３６を蛍光体層１４表面および枠２０上面との段差に追随させることができ、これらに起因する保護層３６の浮きを最小限にすることができる。その結果、この浮きに起因する放射線画像の画質低下を最小限にすることやこの浮きに起因する保護層３６と蛍光体層１４との密着強度低下も防止することができ、高画質な放射線画像を得ることができる。さらに、放射線像変換パネルの歩留りも向上することができる。

また、特に、本実施形態においては、接着層３８を熱可塑性樹脂で形成した場合に、第１の圧着として熱ラミネートを行うことにより、接着層３８が軟化し、粘着性が上昇するため、シート材３０（保護層３６）と蛍光体層１４表面および枠１２上面との密着強度が向上し、充分な密着力でシート材３０と蛍光体層１４表面および枠１２上面とを貼着することができる。
また、特に、本実施形態においては、接着層３８を熱可塑性樹脂で形成した場合に、第２の圧着として熱ラミネートを行うことにより、接着層３８が軟化し、粘着性が上昇するため、保護層３６が図２（ａ）に示すようにヒロック５０を追随した状態で、または、保護層３６が図２（ｂ）に示すように、蛍光体層１４表面および枠１６上面との段差を追随した状態で、蛍光体層１４表面および枠２０上面に貼着される。

なお、本実施形態においては、接着層３８を熱可塑性樹脂で形成したが、本発明においては、これに限定されない。例えば、接着剤としてＵＶ硬化性のものを用いてもよい。この場合、変換パネル１０を製造するに際し、接着剤をシート材３０の保護層３６に塗布して、シート材３０の接着剤塗布面を変換パネル２６の蛍光体層１４に対面させて積層した後、第１の圧着を行い、次いで、シート材３０の裏打ちフィルム３２を剥離した後、第２の圧着を行い、この第２の圧着の後に接着剤をＵＶ照射することにより硬化させるようにする。この場合でも、裏打ちフィルム３２と保護層３６とを貼着したシート材３０を用いることで、ハンドリング性の向上や保護層３６のシワ防止を図り、第１の圧着で裏打ちフィルム３２の剥離作業性を充分に確保できる。また、第２の圧着を行うことにより、保護層３６と蛍光体層１４との密着力をより強くすることができ、さらに、保護層３６をヒロック５０に追随させることや蛍光体層１４表面および枠２０上面との段差に追随させることができる。

また、本実施形態においては、第１の圧着を熱ラミネート（熱圧着）としたが、本発明の変換パネル１０の製造方法においては、これに限定されず、裏打ちフィルム３２を剥離する際に、保護層３６が裏打ちフィルム３２と共に、蛍光体層１４表面から剥離しないように、シート材３０の保護層３６表面と蛍光体層１４表面および枠２０上面とを充分に貼着することができれる圧着方法であればどのような圧着方法でもよい。
同様に、本実施形態においては、第２の圧着を熱ラミネート（熱圧着）としたが、本発明においては、これに限定されず、保護層３６が蛍光体層１４表面にあるヒロック５０や蛍光体層１４表面と枠２０上面との段差を追随することができる圧着方法であればどのような圧着方法でもよい。

また、本実施形態においては、第１の圧着および第２の圧着、共に、蛍光体パネル１０の表側からの押圧としたが、本発明の変換パネル１０の製造方法においては、これに限定されず、少なくとも一方の圧着を、基板１２の裏面からの押圧としてもよい。

なお、本実施形態においては、本発明の製造方法で製造される変換パネル１０は、枠２０を有する構成としたが、本発明においては、これに限定されず、図３に示すように、基板１２上に枠２０を設けずに、変換パネル１０の撮像領域に応じて、基板１２上に蛍光体層１４を形成し、保護層３６を蛍光体層１４および基板１２表面に貼着し、蛍光体層１４を封止する構成としてもよい。

以上、本発明の放射線像変換パネルの製造方法および本発明の製造方法で製造される本発明の放射線像変換パネルについて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。

本発明の放射線像変換パネルの製造方法の一実施形態を示す概略製造工程図である。 （a） 蛍光体層表面にあるヒロックに保護層が追随している本発明の放射線像変換パネルの一部を模式的に表した図である。 （ｂ） 蛍光体層表面と枠上面との段差に保護層が追随している本発明の放射線像変換パネルの一部を模式的に表した図である。 本発明の製造方法で製造する本発明の放射線像変換パネルの別の実施形態を示す概略構成図である。 （a） 蛍光体層表面にヒロックが生じた際の従来の放射線像変換パネルの一部を模式的に表した図である。 （ｂ） 蛍光体層表面と枠上面とに保護層が追随しない場合の従来の放射線像変換パネルの一部を模式的に表した図である。

符号の説明

１０ 放射線像変換パネル
１２，１１２ 基板
１４，１１４ 輝尽性蛍光体層
２０，１２０ 枠
２２ 溝
２６ 放射線像変換パネル本体
３０ シート材
３２ 裏打ちフィルム
３６，１３６ 保護層
３８ 接着層
５０，１５０ ヒロック

Claims (7)

1. 気相堆積法によって形成された蛍光体層を有し、この蛍光体層を保護層で覆ってなる放射線像変換パネルを製造するに際し、
   基板に前記蛍光体層を形成してなるパネル本体と、前記保護層および剥離可能な裏打ちフィルムを貼着してなるシート材とを、前記保護層の裏打ちフィルムの無い面あるいは前記蛍光体層表面の一方または双方に接着剤を塗布した後、前記蛍光体層と前記保護層とを対面させて積層して、前記パネル本体とシート材とを圧着する第１の圧着を行い、
   その後、前記保護層から前記裏打ちフィルムを剥離して、前記保護層と前記パネル本体とを圧着する第２の圧着を行うことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
2. 前記蛍光体層と前記保護層とを接着する接着剤が熱可塑性樹脂であり、かつ、前記第１の圧着および第２の圧着が熱圧着である請求項１に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
3. 前記保護層の熱伝導率が０．０１Ｗ／ｍ・Ｋ〜１０．０Ｗ／ｍ・Ｋである請求項１または２に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
4. 前記保護層のヤング率が０．０１ＧＰａ〜１００ＧＰａである請求項１〜３のいずれかに記載の放射線像変換パネルの製造方法。
5. 前記保護層の厚みが１μｍ〜２０μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の放射線像変換パネルの製造方法。
6. 前記保護層は、熱伝導率が０．１Ｗ／ｍ・Ｋ〜０．３Ｗ／ｍ・Ｋで、ヤング率が１ＧＰａ〜１０ＧＰａで、さらに、厚みが１μｍ〜１０μｍである請求項１〜５のいずれかに記載の放射線像変換パネルの製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の放射線像変換パネルの製造方法で製造されてなる放射線像変換パネル。

Images