JP2005315860A - 輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】水分等に起因する輝尽性蛍光体層の劣化がない、高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造できる輝尽性蛍光体パネルの製造方法、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】基板に真空成膜法により輝尽性蛍光体層を形成した後、この輝尽性蛍光体層上に防湿保護層を封止する輝尽性蛍光パネルの製造方法において、透湿度が１０００ｇ／ｍ²・ｄａｙの接着剤を用いて、防湿保護層と基板とを、幅が２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みが０．５μｍから２０μｍの封止接着層により接着することにより、前記課題を解決する。
【選択図】図１

Description

本発明は、輝尽性蛍光体パネルの技術分野に属し、詳しくは、吸湿による特性劣化の無い輝尽性蛍光体層を有する、高品質な輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法に関する。

放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。

一例として、この輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層 以下、蛍光体層とする）を有する輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする（放射線像変換シートとも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フイルム社製のＦＣＲ（Fuji Computed Radiography)等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、蛍光体パネル（蛍光体層）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、蛍光体パネルをレーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。

蛍光体パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作製される。
これに対し、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、支持体に蛍光体層を形成してなる蛍光体パネルも知られている（特許文献１、特許文献２参照）。真空成膜法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、輝尽性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。

蛍光体パネルの特性を劣化させる要因の１つとして、輝尽性蛍光体層の吸湿が挙げられる。
輝尽性蛍光体層、特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。その結果、輝尽発光特性すなわち感度の低下や、輝尽性蛍光体の結晶性の低下（例えば、柱状構造をもつアルカリハライド系の輝尽性蛍光体であれば、結晶の柱状性の崩壊）による再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。

このような問題点を解決するために、蛍光体パネルでは、蛍光体層を防湿性の部材で封止することが行われている。
例えば、特許文献３には、防湿性を有する保護層で蛍光体層を封止してなる蛍光体パネルにおいて、蛍光体層の周りに封着部材を設け、支持体、保護膜および封着部材によって形成される空間内に、乾燥ガスを封入することにより、湿度による特性低下を防止した蛍光体パネルが開示されている。

また、特許文献４には、同様に保護層で輝尽性蛍光体層を封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体層の周縁部をとり囲んで設けられた保護層保持部材と、輝尽性蛍光体層と保護層との間に設けられた、保護層より屈折率の低い低屈折率層とを有し、輝尽性蛍光体層が、保護層、保護層保持部材および支持体により、外部雰囲気から遮断されている空間内に形成される放射線画像変換パネルが開示されている。
特許第２７８９１９４号公報 特開平５−２４９２９９号公報 特許第２６７７８２２号公報 特許第２８８６１６５号公報

前記特許文献３及び４に開示される蛍光体パネルによれば、蛍光体層の吸湿に起因する特性劣化を、ある程度防止することはできる。
しかしながら、本発明者の検討によれば、防湿性を有する部材で蛍光体層を封止しただけでは、特に、高湿、高温などの厳しい条件下では、十分な防湿性を得ることはできず、長期にわたって、高い感度や、鮮鋭性の良好な再生画像を得られる、優れた特性を有する蛍光体パネルを得るには、未だ不十分である。

本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、長期に渡って、吸湿による輝尽性蛍光体層の特性低下を防止できる、高品質な輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、真空成膜法により形成された輝尽性蛍光体層と、この輝尽性蛍光体層を封止する防湿保護層と、前記防湿保護層の外縁を接着する封止接着層とを有する輝尽性蛍光体パネルであって、前記封止接着層が、硬化後の接着剤の透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下、幅が２ｍｍから１０ｍｍ、且つ、厚みが０．５μｍから２０μｍであることを特徴とする輝尽性蛍光体パネルを提供するものである。

本発明においては、前記輝尽性蛍光体層の表面と、前記防湿保護層とが輝尽性蛍光体接着層により接着されていることが好ましい。

さらに、本発明においては、前記輝尽性蛍光体接着層と前記封止接着層とが一体的に形成されていることが好ましい。

さらに、本発明においては、前記輝尽性蛍光体層を前記基板面方向で囲むと共に、前記封止接着層によって前記防湿保護層と接着される封止部を有し、且つ、この封止部と前記輝尽性蛍光体層との高さの差が±０．１ｍｍ以内であることが好ましい。

上記目的を達成するために、本発明は、基板に輝尽性蛍光体層を形成した後、硬化後の透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下となる接着剤を用いて、封止後における幅が２ｍｍから１０ｍｍ、且つ、厚みが０．５μｍから２０μｍとなるように接着剤層を形成し、この接着剤層によって防湿保護層を接着して、前記基板に形成した前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供するものである。

さらに、本発明においては、前記輝尽性蛍光体層の封止と共に、前記輝尽性蛍光体層の表面と前記防湿保護層とを接着することが好ましい。

さらに、本発明においては、前記接着剤層を前記防湿保護層の全面に形成することが好ましい。

さらに、本発明においては、前記輝尽性蛍光体層の形成に先立ち、前記輝尽性蛍光体層の形成領域を前記基板面方向で囲む、前記輝尽性蛍光体層との高さの差が±０．１ｍｍ以内である封止部を前記基板に固定し、かつ、この封止部と前記防湿保護層とを前記接着剤層で接着することにより、前記輝尽性蛍光体層の封止を行うことが好ましい。

さらに、本発明においては、前記接着剤層による前記輝尽性蛍光体層の封止を、熱ラミネーションによって行うことが好ましい。

さらに、本発明においては、前記熱ラミネーションに先立ち、前記接着剤層を軟化温度より３０℃低い温度から１５０℃までの範囲で加熱することが好ましい。

高温、高湿のような厳しい条件下であっても、長期に渡って、吸湿に起因する輝尽性蛍光体層の特性劣化のない、高品質な輝尽性蛍光体パネル、及び、輝尽性蛍光体パネルの製造方法を提供することができる。

以下、本発明の製造方法により製造する本発明の輝尽性蛍光体パネルについて、添付の図を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の製造方法により製造した本発明の蛍光体パネルの一実施形態の構成を示す断面図である。

本発明の輝尽性蛍光体パネル（以下、蛍光体パネルとする）１０は、基板１２と、真空成膜法によって形成された輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層 以下、蛍光体層とする）１４と、この輝尽性蛍光体層１４を封止して基板１２に接着される防湿保護層１６と、防湿保護層１６の周囲を基板１２に接着する封止接着層１８とを有するものであり、封止接着層１８は、透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下で、幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍのものである。
このような本発明においては、上記条件が満たされていれば、蛍光体パネル１０の構成（層構成など）、蛍光体層１４、防湿保護層１６及び封止接着層１８の形成方法、蛍光体層１４の加熱処理方法、蛍光体パネル１０の製造方法、さらには、蛍光体層１４の封止後の工程や蛍光体層１４の形成以前の工程には、限定はなく、基本的に、通常の製造と同様にして得られた蛍光体パネル１０であればよい。

まず、本発明の蛍光体パネル１０において、基板１２には特に限定はなく、蛍光体パネル１０で使用されている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのプラスチックフィルム； 石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックス^TM等）などから形成されるガラス板； アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、クロムシートなどの金属シートあるいは金属酸化物の被服層を有する金属シート； 等が例示される。

次に、本発明の蛍光体パネル１０において、蛍光体層１４は、このような基板１２の表面に、真空成膜法によって形成されるものである。
なお、本発明においては、蛍光体層１４の形成以前に各種の処理を行ってもよいのは、前述の通りであり、例えば、基板１２の表面に形成された輝尽発光光を反射するための反射膜、あるいはさらに、反射膜上に反射膜を保護するためのバリア膜等を有してもよいし、これらの膜を形成された基板１２の表面に、蛍光体層１４を形成してもよい。

蛍光体層１４を形成する輝尽性蛍光体としては、各種のものが利用可能であるが、一例として、下記の輝尽性蛍光体が好ましく例示される。
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されている輝尽性蛍光体である、「ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ」、「ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ」、「ＴｈＯ₂ ：Ｅｒ」、および、「Ｌａ₂ Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ」。

特開昭５５−１２１４２号公報に開示される、「ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ」、「ＢａＯ・ｘＡｌ₂Ｏ₃：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）」、および、一般式「Ｍ^IIＯ・ｘＳｉＯ₂：Ａ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ^IIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，ＣｄおよびＢａからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉおよびＭｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０．５≦ｘ≦２．５である。）

特開昭５５−１２１４４号公報に開示される、一般式「ＬｎＯＸ：ｘＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種であり、Ａは、ＣｅおよびＴｂの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）

特開昭５５−１２１４５号公報に開示される、一般式「（Ｂａ^1-x，Ｍ^2+x）ＦＸ：ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ²⁺は、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．６であり、０≦ｙ≦０．２である。）

特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、下記のいずれかの輝尽性蛍光体。
すなわち、一般式「ｘＭ₃（ＰＯ₄）₂・ＮＸ₂：ｙＡ」または「Ｍ₃（ＰＯ₄）₂・ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、ＭおよびＮは、それぞれ、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，ＭｎおよびＳｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦６、０≦ｙ≦１である。）

一般式「ｎＲｅＸ₃・ｍＡＸ’₂：ｘＥｕ」または「ｎＲｅＸ₃・ｍＡＸ’₂：ｘＥｕ，ｙＳｍ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，ＹおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＸおよびＸ’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，およびＢｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０^-4＜ｘ＜３×１０^-1であり、１×１０^-4＜ｙ＜１×１０^-1であり、さらに、１×１０^-3＜ｎ／ｍ＜７×１０^-1である。）

および、一般式「Ｍ^IＸ・ａＭ^IIＸ’₂・ｂＭ^IIIＸ''₃：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ^I は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ^IIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、Ｍ^IIIは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）

特開昭５６−１１６７７７号公報に開示される、一般式「（Ｂａ^1-X，Ｍ^IIX）Ｆ₂・ａＢａＸ₂：ｙＥｕ，ｚＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ^IIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、ＺｒおよびＳｃの少なくとも一種である。また、０．５≦ａ≦１．２５であり、０≦ｘ≦１であり、１×１０^-6≦ｙ≦２×１０^-1であり、０＜ｚ≦１×１０^-2である。）

特開昭５８−６９２８１号公報に開示される、一般式「Ｍ^IIIＯＸ：ｘＣｅ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ^IIIは、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）

特開昭５８−２０６６７８号公報に開示される、一般式「Ｂａ^1-xＭaＬaＦＸ：ｙＥｕ²⁺」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０^-2≦ｘ≦０．５であり、０≦ｙ≦０．１であり、さらに、ａはｘ／２である。）

特開昭５９−７５２００号公報に開示される、一般式「Ｍ^IIＦＸ・ａＭ^IＸ’・ｂＭ’^IIＸ''₂・ｃＭ^IIIＸ₃・ｘＡ：ｙＥｕ²⁺」で示される輝尽性蛍光体。（上記式においてＭ^IIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも１種であり、Ｍ^Iは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ’^IIは、ＢｅおよびＭｇの少なくとも一方の二価の金属であり、Ｍ^IIIは、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ａは、金属酸化物であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，およびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ≦２であり、０≦ｂ≦１×１０^-2であり、０≦ｃ≦１×１０^-2であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ≧１０^-6であり、さらに、０＜ｘ≦０．５であり、０＜ｙ≦０．２である。）

特に、優れた輝尽発光特性を有し、かつ、本発明の効果が良好に得られる等の点で、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、Ｍ^Iが、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、その中でも特に、一般式「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」で示される輝尽性蛍光体が好ましい。

蛍光体層１４は、このような輝尽性蛍光体からなり、形成方法には、特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)等の各種の真空成膜法で得られるものが利用可能である。
中でも、生産性等の点で真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましく、特に、蛍光体成分の材料と、付活剤（賦活剤：activator)成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましい。例えば、前記「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」の蛍光体層１４であれば、蛍光体成分の材料として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒ_x（ｘは、通常、２〜３））を、それぞれ用いて、別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成されることが好ましい。
真空蒸着における加熱方法にも、特に限定はなく、例えば、電子銃等を用いる電子線加熱、又は、抵抗加熱で形成されたものでもよい。さらに、多元の真空蒸着により形成される場合には、全ての材料を同様の同じ加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、蛍光体成分の材料は電子線加熱で、微量である付活剤成分の材料は抵抗加熱で、それぞれ加熱蒸発して形成されてもよい。

蛍光体層１４は、特に限定された成膜条件はなく、成膜方法や形成する蛍光体層１４の組成等に応じて、適宜、決定された成膜条件によって形成され、得られる蛍光体層１４であればよい。一例として、真空蒸着であれば、１×１０^-5Ｐａ〜１×１０^-2Ｐａの真空度で、０．０５μｍ／ｍｉｎ〜３００μｍ／ｍｉｎの成膜速度で成膜し、得られる蛍光体層１４が好ましい。なお、多元の真空蒸着により形成される場合には、母体成分と付活剤成分の量比が目的範囲となるように、両材料の蒸発速度が制御される。
また、本件出願人の検討によれば、前述した各種の蓄積性蛍光体、特にアルカリハライド系蓄積性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕを真空蒸着で成膜する場合には、一旦、系内を高い真空度に排気した後、アルゴンガスや窒素ガス等を系内に導入して、０．０１Ｐａ〜３Ｐａ程度の中真空度とし、この中真空下で抵抗加熱による真空蒸着を行うことにより、得られる蛍光体層１４が好ましい。前記ＣｓＢｒ：Ｅｕ等のアルカリハライド系の蛍光体層は、柱状結晶構造を有するが、このような中真空下で成膜して得られる蛍光体層１４は、特に良好な柱状の結晶構造を有し、輝尽発光特性画像の鮮鋭性等の点で好ましい。
また、基板１２の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体層１４を３００℃以下、好ましくは２００℃以下で加熱してもよい。
さらに、厚さにも、限定はないが、５０μｍ以上、特に、２００μｍ以上の蛍光体層１４が好ましい。

このようにして形成された蛍光体層１４は、輝尽発光特性を良好に発現させ、かつ、輝尽発光特性を向上させるために、加熱処理（アニール）が施される。
蛍光体層１４のアニール条件には、特に限定はないが、一例として、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で、５０℃〜６００℃、特に、１００℃〜３００℃で、１０分〜１０時間、特に、３０分〜３時間行うのが好ましい。
蛍光体層１４の加熱処理は、焼成炉を用いる方法等の公知の方法で実施すればよく、また、基板１２の加熱手段を有する真空蒸着装置であれば、これを利用して加熱処理を実施してもよい。

さらに、本発明の蛍光体パネル１０において、防湿保護層１６は、このようにして真空蒸着によって形成された蛍光体層１４の吸湿を防止するために、蛍光体層１４を覆って封止するものである。

防湿保護層１６は、十分な防湿性を有するものであれば、各種のものが利用可能であり、特に限定はない。一例として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＳｉＯ_２膜とＳｉＯ_２とＰＶＡ（ポリビニルアルコール）とのハイブリット層とＳｉＯ_２膜との３層を形成してなる防湿保護層１６が例示される。これ以外にも、ガラス板（フィルム）、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の樹脂フィルム、樹脂フィルムにＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＣなどの無機物質が堆積したフィルム等も好ましく例示される。なお、前記ＰＥＴフィルム上に、ＳｉＯ_２膜／ＳｉＯ_２とＰＶＡとのハイブリット層／ＳｉＯ_２膜の３層を形成した防湿保護層１６において、例えば、ＳｉＯ_２膜は、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ_２とＰＶＡのハイブリット膜は、ＰＶＡとＳｉＯ_２の比率が１：１となるようにゾルゲル法を用いて、それぞれ形成すればよい。

本発明の蛍光体パネル１０において、封止接着層１８は、蛍光体層１４を防湿保護層１６で封止するために、防湿保護層１６と基板１２とを封止接着するものであり、透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下（４０℃、相対湿度９０％の条件下で、１００μｍ厚み当たり）の接着剤を用い、幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍのものである。
このような封止接着層１８で、防湿保護層１６と蛍光体層１４及び基板１２を接着することにより、本発明の蛍光体パネル１０は、非常に優れた耐湿性を発現し、高温、高湿のような厳しい条件下でも、長期に渡って良好な特性を維持できる。

輝尽性蛍光体層１４を形成する輝尽性蛍光体、特に、アルカリハライド系の輝尽性蛍光体は、吸湿性を有し、通常の環境下でも、容易に吸湿して、その結果、感度や再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。このような不都合を防止するために、従来より、防湿保護層１６で蛍光体層１４が封止されることが行われているが、現状の蛍光体層１４の封止方法では、十分な防湿効果を得られていないのは、前述の通りである。このような問題点を解決するために、本発明者は、鋭意検討を行った結果、蛍光体層１４を封止する際の封止部分からの透湿が、蛍光体パネルの特性を劣化させていることを見出し、さらに、封止接着層１８を前記構成とすることにより、基板１２と防湿保護層１６との封止接着層１８からの透湿を防止できることを見出し、本発明を完成した。

このような封止接着層１８の形成材料には、特に限定はなく、前記幅ａが２ｍｍから１０ｍｍ、厚さｂが０．５μｍから２０μｍの範囲において、透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下が実現できるものであれば、各種の接着剤を利用すればよい。
一例として、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等の接着剤が好ましく例示され、特に、熱可塑性の高分子樹脂が好ましく例示される。好ましくは、硬化後、４０℃、湿度９０％の条件下で、厚さ１００μｍ当たりの透湿度が５００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下の接着剤が利用される。なお、透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ超では、透湿防止の効果が低く、十分な防湿効果を得ることができない。

前述のように、封止接着層１８は、幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、かつ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍである。
封止接着層１８の幅ａが２ｍｍ未満では、基板１２と防湿保護層１６との十分な接着力を得られない場合があり、防湿保護層１６の剥離等の問題が生じる。逆に、幅が１０ｍｍを超えると、蛍光体パネル１０全体のサイズに対する封止接着層１８のサイズが大きくなりすぎ、蛍光体パネル１０に対する撮像面が小さくなり、蛍光体パネル１０としての実用性に問題が生じる。この幅ａは、好ましくは３ｍｍ〜６ｍｍである。
また、厚みｂが０．５μｍ未満では、基板１２と防湿保護層１６との十分な接着性を得られない場合があり、防湿保護層１６の剥離等の問題が生じ、逆に、２０μｍを超えると、封止接着層１８からの透湿が生じる可能性が高くなってしまう。この厚みは、好ましくは、０．８μｍ〜１０μｍである。

以下に本発明の蛍光体パネル１０の製造方法の一例について説明する。
まず、基板１２上の表面に上述のようにして、蛍光体層１４を形成する。次に、適宜、選択した接着剤を用い、封止接着層１８の幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍとなるように、基板１２表面の蛍光体層１４を囲む基板１２と防湿保護層１６との接着位置に、ディスペンサー等を用いて接着剤を塗布する。次いで、防湿保護層１６を蛍光体層１４上に被せる。
最後に、防湿保護層１６と封止接着層１８との封止部分（接着材の塗布箇所）に、この封止部分の形状に相当するプレス面がゴムから成るプレス型を押付け、押付けた状態のまま維持し、接着剤を硬化させることにより、封止接着層１８によって防湿保護層１６と基板１２とを接着し、蛍光体層１４を封止することにより蛍光体パネル１０を得る。
また、本発明の蛍光体パネル１０の製造方法においては、上述の通り、蛍光体層１４成膜以前に、反射膜やバリア膜等を形成してもよいし、これらの膜を表面に形成されたものを基板１２としてもよい。また、蛍光体層１４の封止後にも、上述の通り、特に限定はない。

図２に、本発明の蛍光体パネルの別の実施形態を示す。
なお、この蛍光体パネル２０は、図１に示す実施形態と基本的に同様の構造を有するので、同一部材には、同一の番号を付し、以下の説明は、異なる部位を主に行う。

図２に示す実施形態は、前記図１の蛍光体パネル１０に加え、さらに、蛍光体層１４と防湿保護層１６とを接着するための輝尽性蛍光体接着層２２を有する。このような輝尽性蛍光体接着層２２を有することにより、長期間使用しても、防湿保護層１６が浮くことがなく、耐久性等の点で、より好ましい。

輝尽性蛍光体接着層２２は、十分な接着力を有し、且つ、放射線、励起光の入射及び輝尽発光光の出射を妨げない光学特性を有するものであれば、特に限定はなく、各種の接着剤で形成可能である。一例として、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましく例示され、特にポリエステル系樹脂等の熱可塑性の高分子樹脂が好ましい。熱可塑性の高分子樹脂を用いることにより、熱ラミネーションで接着可能であるため、加工性及び生産性が向上する。輝尽性蛍光体接着層２２の厚さの限定はないが、０．８μｍ〜１０μｍが好ましい。
輝尽性蛍光体接着層２２は、蛍光体層１４の表面を覆う大きさに形成されれば、特に限定はなく、形成方法及び形成条件にも特に限定はない。一例として、塗布形成により形成されるものが好ましく例示される。

以下に、蛍光体パネル２０の製造方法の一例について説明する。
まず、前記図１の蛍光体パネル１０の製造方法と同様にして、基板１２上の表面に蛍光体層１４を形成し、基板１２表面の蛍光体層１４を囲む基板１２と防湿保護層１６との接着位置に、蛍光体パネル１０の製造方法と同様にして、封止接着層１８を形成する。
他方、防湿保護層１６表面中央の所定領域、及び／または、蛍光体層１４の表面に、適宜選択した接着剤を用いて、所定の厚みになるように輝尽性蛍光体接着層２２を塗布形成する。
最後に、輝尽性蛍光体接着層２２を有する防湿保護層１６を蛍光体層１４に被せ、加圧圧着、例えば、ラミネート機を用いて、所定の温度及び線速で熱ラミネーションを実施し、輝尽性蛍光体接着層２２で、防湿保護層１６と蛍光体層１４とを接着する。その際に、接着強度を向上させるために、１方向に所定回数ラミネート機を通すのが好ましい。次いで、蛍光体パネル１０の製造方法と同様にしてプレス型で押圧することにより、封止接着層１８で防湿保護層１６と基板１２とを接着することにより、蛍光体層１４を封止する。
なお、封止接着層１８で防湿保護層１６と基板１２とを接着するときの接着強度を向上し、且つ、ラミネーション１回だけで、良好な接着強度が得られるように、防湿保護層１６による蛍光体層１４の封止に先立ち、封止部および蛍光体層１４を封止接着層１８の軟化温度より３０℃低い温度から１５０℃までの範囲で加熱することが好ましい。この加熱は、例えば、基板１２の加熱によって行えばよい。

図３に、本発明の蛍光体パネルの別の実施形態を示す。
なお、この蛍光体パネル２６も、図１に示す実施形態と基本的に同様の構成を有するので、同一部材には、同一の番号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行う。

図３に示す実施形態は、前記図２の蛍光体パネル２０において、輝尽性蛍光体接着層２２と封止接着層１８とを１面で形成したものであり、封止接着層１８および、防湿保護層１６と蛍光体層１４とを接着する輝尽性蛍光体接着層２２を兼ねる輝尽性蛍光体接着層２８を有する。このような輝尽性蛍光体接着層２８を有することにより、輝尽性蛍光体接着層２２と同様に、耐久性等の点で好ましく、且つ、防湿保護層１６と蛍光体層１４及び基板１２との接着を同時にできるため生産性及び加工性が向上する。輝尽性蛍光体接着層２８の厚さは、０．８μｍ〜１０μｍが好ましい。
輝尽性蛍光体接着層２８は、放射線や励起光の入射、及び輝尽発光光の出射を妨げない光学特性を有するものであれば、蛍光体パネル１０の封止接着層１８と同様の材料で、同様にして形成可能である。また、熱可塑性の高分子樹脂を用いることにより、熱ラミネーションで接着可能なため、加工性及び生産性が向上する。
輝尽性蛍光体接着層２８は、防湿保護層１６表面全体に所定の厚さになるように形成されれば、特に限定はなく、かつ、封止後における基板１２と防湿保護層１６との接着部（封止接着層１８に相当する部分）の幅が２ｍｍから１０ｍｍ、かつ、厚みが０．５μｍから２０μｍとなるようにできればよい。一例として、塗布形成による形成が好ましく例示される。

蛍光体パネル２６の製造方法の一例について説明する。
まず、基板１２の表面に蛍光体層１４を形成する。
他方、防湿保護層１６の表面全体に、適宜選択した接着剤で、所定の厚みになるように、輝尽性蛍光体接着層２８を形成する。ここで、輝尽性蛍光体接着層２８は、接着後、基板１２と防湿保護層１６との接着部（すなわち、封止接着層１８に相当する部分）が、幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍになるように形成する。
輝尽性蛍光体接着層２８は、防湿保護層１６と蛍光体層１４とを接着し、さらに、防湿保護層１６と基板１２とを接着する。このような輝尽性蛍光体接着層２８は、防湿保護層１６と蛍光体層１４とを接着するための層と蛍光体層１４と基板１２とを接着するための層を一体にし、１回の塗布形成で形成することが可能である。さらに、耐久性等の点でより好ましいことは、先に述べた通りである。
輝尽性蛍光体接着層２８を有する防湿保護層１６を蛍光体層１４に被せ、蛍光体層１４と防湿保護層１６、及び、防湿保護層１６と基板１２とを、図２の蛍光体パネル２０と同様に、所定の温度及び線速で熱ラミネーションを実施することにより接着する。なお、ラミネーションの搬送方向と平行な周縁封止部分は、蛍光体層１４表面と基板１２上面との段差があるために、１方向のラミネーションでは、接着が良好に行われない。そこで、蛍光体層１４表面と基板１２上面との段差がある場合には、ラミネーション方向を９０°回転して、各方向所定の回数ずつラミネーションを実施し、蛍光体層１４を封止するのが好ましい。
防湿保護層１６による蛍光体層１４の封止に先立ち、基板１２に熱をかけてもよいのは先の例と同様である。

図４に、本発明の蛍光体パネルの別の実施形態を示す。
なお、この蛍光体パネル３２も、前記図１に示す実施形態と基本的に同様の構成を有するので、同一部材には、同一の番号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行う。

図４に示す実施形態は、前記図１の蛍光体パネル１０に加え、さらに、基板１２上に枠２４（封止部）を有し、この枠２４に防湿保護層１６を接着することで、蛍光体層１４を封止するものであり、防湿保護層１６と枠２４の上面、あるいはさらに、蛍光体層１４とを接着するための輝尽性蛍光体接着層２８を有する。
枠２４は、その上面と蛍光体層１４の表面との段差が小さければ小さいほど、熱ラミネーション時に封止部／蛍光体層１４の周縁の境界で防湿保護層１６の急峻な折れ曲がりが生じず、折れ曲がりに起因する防湿層（ＳｉＯ_２層）の破壊による防湿性低下を防止することができる。したがって、枠２４を基板１２上に固定した際に、枠２４の高さは、蛍光体層１４の表面との差が小さければ小さいほど良く、特に、±０．１ｍｍ精度で揃っていることが好ましい。また、枠２４の幅は、特に限定はないが、多くの場合、枠２４の幅は封止接着層１８の幅に相当するので、２ｍｍ〜１０ｍｍが好ましい。
枠２４は、形成素材には、特に限定はなく、一例として、アルミニウムが好ましく例示される。
輝尽性蛍光体接着層２８は、図３の実施形態の蛍光体パネル２６と同様のものを用い、同様に形成すればよい。また、熱可塑性の高分子樹脂を用いることにより、本形態は、防湿保護層１６を接着する枠２４の上面と蛍光体層１４の表面とが略同一面上にある為、熱ラミネーションで容易に接着が可能である。ゆえに、蛍光体パネル２６の加工性及び生産性が向上する。
なお、本形態においては、蛍光体層１４と防湿保護層１６との接着は、好ましい態様であり必須ではない。

蛍光体パネル３２の製造方法の一例について説明する。
まず、基板１２上に、枠２４を固定する。固定方法としては、図４に示すように、耐熱性エポキシ接着剤等を用いて基板１２の表面に枠２４を接着／固定する方法が例示される。また、蛍光体層１４の蒸着位置精度を向上させるために、図５に示すように、基板１２上に枠２４の形状に対応する溝３６を設け、そこに枠２４を固定してもよい。この際においては、溝３６に枠２４をはめ込むのみでもよく、耐熱性エポキシ接着剤等を用いて、枠２４を溝３６に固定してもよく、さらに、嵌合と接着剤による固定を併用してもよい。
次いで、前記枠２４上に耐熱粘着剤付きのカプトンテープを貼り付け、枠２４の内側に沿って余剰部分を切り落とし、この枠２４付き基板１２上に、蛍光体層１４を形成する。このとき、蛍光体層１４の表面と枠２４の上面の段差が小さければ小さいほど良く、±０．１ｍｍ以内の精度で揃っていることが好ましい。
図３の蛍光体パネル２６の製造方法と同様にして、防湿保護層１６の表面全体に輝尽性蛍光体接着層２８を形成し、輝尽性蛍光体接着層２８を有する防湿保護層１６を、蛍光体層１４に被せる。この際、輝尽性蛍光体接着層２８は、接着後、枠２４と防湿保護層１６との接着部（すなわち、封止接着層１８に相当する部分）が、幅ａが２ｍｍから１０ｍｍで、且つ、厚みｂが０．５μｍから２０μｍになるように形成する。
防湿保護層１６と蛍光体層１４及び枠２４とを接着するために、蛍光体層２６の製造方法と同様にして、熱ラミネーションを実施する。なお、蛍光体パネル３２の場合は、枠２４を有し、枠２４の上面と蛍光体層１４との段差が小さいので、ラミネーションは、１方向に所定の回数実施すればよい。
なお、防湿保護層１６による蛍光体層１４の封止に先立ち、基板１２に熱をかけてもよいのは先の例と同様である。

本発明の蛍光体パネルは、基本的に上記のように構成されるが、封止接着層１８／輝尽性蛍光体接着層２８を形成する接着剤の逃げ溝を設けてもよい。逃げ溝の形成位置には特に限定は無く、封止接着層１８または輝尽性蛍光体接着層２８の封止接着層に相当する部分に対応する部分であればよい。
例えば、図１〜図３に示すような防湿保護層１６を基板１２に直接接着する構成の蛍光体パネルであれば、図６に示すように、基板１２上の防湿保護増１６の封止接着層１８に逃げ溝４０を設ければよい。
また、例えば、図４および図５に示すような、枠２４を設けて、ここに防湿保護層１６を接着する構成の蛍光体パネルであれば、図７に示すように、枠２４の上面に逃げ溝４４を設ければよい。
上記のような逃げ溝４０を設けることにより、余分な接着剤の逃げ道ができるため、接着剤が横に広がったり厚く付いたりすることを防ぎ、所望の形状の封止接着層１８／輝尽性蛍光体接着層２８を形成しやすくなる。

さらに、本発明の蛍光体パネルにおいて、図４や図５に示されるように枠２４を設けて防湿保護層１６を接着する場合には、枠２４と基板１２とを固定する接着剤の逃げ溝を設けてもよい。
逃げ溝は、枠２４と基板１２との接着部であれば、どこに設けてもよい。例えば、図８に示すように、基板１２の表面の枠２４が固定される位置に逃げ溝４８を設ければよい。
この逃げ溝４８を設けることにより、接着剤が枠２４の外側や内側にはみ出すことや余分な接着剤が溜まって凝固することにより枠２４が基板１２に対して水平に固定されないことを防ぐことができる。

また、枠２４を有する構成では、枠２４と防湿保護層１６とを接着する接着剤の逃げ溝４４と、枠２４を基板１２に固定する接着剤の逃げ溝４８との、両方を設けてもよい。

以上、本発明の蛍光体パネルおよび製造方法について説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、さらに、添付の図を用いて、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されないのは言うまでもない。

付活剤の成膜材料として臭化ユーロピウムを、蛍光体の成膜材料として臭化セシウムをそれぞれ用いる二元の真空蒸着によって、アルミ基板１２の表面にＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層１４を成膜した。
両成膜材料共に、加熱は、タンタル製のルツボと出力６ｋＷのＤＣ電源とを用いる抵抗加熱装置で行った。
真空蒸着装置（真空チャンバ）の基板ホルダに面積４５０ｍｍ×４５０ｍｍのアルミ基板（以下、基板とする。）１２をセットし、また、各所定位置に各成膜材料をセットした後、真空チャンバを閉鎖し、排気を開始した。排気は、ディフュージョンポンプおよびクライオコイルを用いた。
真空度が８×１０^−４Ｐａとなった時点で、真空チャンバ内にアルゴンガスを導入して真空度を０．５Ｐａとし、次いで、ＤＣ電源を駆使して成膜材料を充填したルツボに通電し、基板１２の表面に抵抗加熱による蛍光体層１４の成膜を介した。
なお、蛍光体層１４におけるＥｕ／Ｃｓのモル濃度比が０．００３：１、かつ、成膜速度が８μｍ／ｍｉｎとなるように、両ルツボのＤＣ電源の出力を調整した。
また、成膜中は、ハロゲンランプを用いて基板１２表面を直接加熱した。
蛍光体層１４の膜厚が約７１０μｍとなった時点で、成膜を終了し、真空チャンバから基板１２を取り出した。なお、膜厚は、予め行った実験により制御した。
次いで、成膜を終了した基板１２に、窒素雰囲気下で、温度２００℃で２時間のアニーリング処理を行った。

他方、６μｍ厚みのＰＥＴフィルム上に、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ_２膜をｌ００ｎｍ形成し、その上に、ＰＶＡとＳｉＯ_２の比率が１：１となるようにゾル・ゲル法を用いて、ＰＶＡとＳｉＯ_２のハイブリット層を６００ｎｍ形成し、ハイブリット層上に、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ_２膜を１００ｎｍ形成し、防湿保護層１６とした。

ディスペンサーを用いて、基板１２上の周縁部に、封止接着層１８となるエポキシ樹脂（セメダイン製：ＥＰ００１ 透湿度 ７８３／ｍ^２・ｄａｙ（ａｔ ４０℃ 相対湿度９０％））を塗布した。エポキシ樹脂は、接着後の封止接着層１８が幅５ｍｍ、厚み７μｍとなるように塗布した。なお、このエポキシ樹脂の透湿度は、硬化後の厚みが１００μｍとなるように樹脂性のシートを形成し、ＪＩＳ Ｚ ０２０８のカップ法に準拠して測定した。
次に、４２０ｍｍ×４２０ｍｍサイズに裁断した上述の防湿保護層１６をＳｉＯ_２膜側が蛍光体層１４と対向するように、蛍光体層膜１４に被せ、上述の封止接着層１８に相当する形状のプレス型（プレス面はゴム）を押し付け、押した状態のまま維持し、蛍光体層１４を封止して、図１に示すパネル１０と同じ構成を有する蛍光体パネルを作製した。

［比較例１〜４］
エポキシ樹脂封止接着層の厚みを２５μｍ（比較例１）、０．４μｍ（比較例２）、封止幅を１ｍｍ（比較例３）、１２ｍｍ（比較例４）とした以外は、実施例１と全く同様にして蛍光体パネル１０を得た。

実施例１と全く同様にして、基板１２表面に蛍光体層１４を形成した。
次いで、実施例１と同様に、基板１２上に、ディスペンサーを用いて、樹脂封止接着層１８となるエポキシ樹脂（実施例１と同じ）を塗布した。
他方、実施例１と同様の防湿保護層１６（ＳｉＯ_２層表面）の中央４００ｍｍ×４００ｍｍ領域部分に、ポリエステル系樹脂（東洋紡：バイロン３００ 透湿度 １３９／ｍ^２・ｄａｙ（ａｔ ４０℃ 相対湿度９０％）））を塗布し、厚み１．２μｍの封止接着層１８を形成した。なお、このポリエステル系樹脂の透湿度は、実施例１のエポキシ樹脂と同様の方法で測定した。
蛍光体層１４上に、輝尽性蛍光体接着層２２を有する防湿保護層１６を被せ、ラミネート材を用いて、１００℃、線速０．５ｍ／ｍｉｎで熱ラミネーションを実施し、防湿保護層１６と蛍光体層１４とを接着した。なお、熱ラミネーションは、同方向に４回ラミネート機を通して行った。
防湿保護層１６と蛍光体層１４の接着後、実施例１と同様に封止接着層１８で、防湿保護層１６と基板１２を接着して、蛍光体層１４を封止し、図２に示す蛍光体パネル２０と同様の構成を有する蛍光体パネルを作製した。

実施例１と全く同様にして、基板１２表面に蛍光体層１４を形成した。
他方、実施例１と同様の防湿保護層１６（ＳｉＯ_２層表面）の全面に、ポリエステル系樹脂（実施例２と同じ）を塗布し、厚み１．２μｍの輝尽性蛍光体接着層２２を形成した。
次に、蛍光体層１４上に、防湿保護層１６上の輝尽性蛍光体接着層２２が、蛍光体層１４に対向するように防湿保護層１６を被せ、防湿保護層１６と蛍光体層１４及び基板１２とを、実施例２と同様にして熱ラミネーションを実施し、１方向４回、さらに９０℃回転して４回ラミネート機を通して接着し、蛍光体層１４を封止して、図３に示す蛍光体パネル２６と同様の構成を有する蛍光体パネルを作製した。

実施例１と同様の基板上１２上に、外形４１２ｍｍ×４１２ｍｍ、幅５ｍｍ、厚み０．７ｍｍのアルミ枠を、耐熱性エポキシ接着剤（オーデック製：アレムコボンド５２６Ｎ）で接着した。
次に、接着したアルミ枠２２上に耐熱粘着剤付きのカプトンテープ（３Ｍ製：スコッチカプトンテープ５４１３）を貼り付け、アルミ枠２２内側の辺に沿って余剰部分を切り落とした。この枠付き基板１２上に、実施例１と同様にして、蛍光体層１４を約７１０μｍ形成した。
蛍光体層１４形成後、貼り付けたカプトンテープを剥離して、アルミ枠２２の内側のみに蛍光体層１４が形成された基板１２を得た。このとき、蛍光体層１４表面とアルミ枠２４の上面との段差は、１０μｍ以下であった。
他方、実施例１と同様の防湿保護層１６に実施例３と同様にして、接着剤を塗布し、１．２μｍの輝尽性蛍光体接着層２８を形成した。
次に、蛍光体層１４上に、防湿保護層上の輝尽性蛍光体接着層２８が、蛍光体層１４に対向するように、防湿保護層１６を蛍光体層１４表面及びアルミ枠２２上面に、実施例２同様の熱ラミネーションを実施し、１方向４回ラミネート機を通すことによって接着し、蛍光体層１４を封止して、図４に示す蛍光体パネル３２と同様の構成を有する蛍光体パネルを作製した。

ラミネーションに先立ち、基板１２を１００℃に予熱し、ラミネーション回数を１方向１回にした以外は、実施例４と同様にして、蛍光体パネル３２を作製した。

［比較例５及び６］
輝尽性蛍光体接着層２８の厚みを０．４μｍ（比較例５）又は２５μｍ（比較例６）とした以外は、実施例４と全く同様にして、蛍光体パネル３２を作製した。

得られた蛍光体パネルの封止接着層１８の厚みｂ、封止幅ａ、蛍光体層１４表面と封止面との段差は、以下のように測定した。

［厚み］
（封止接着層厚み）
３次元測定器（ミツトヨ製：非接触３次元測定器）により、防湿保護層１６の無い基板１２表面とその近傍の防湿保護層１６表面との段差を測定し、予め測定しておいた防湿保護層１６の厚みを差し引くことにより得られた値を、封止接着層１８の厚みとした。これを、各サンプル１２点測定し、平均値を求めた。
（輝尽性蛍光体接着層厚み）
防湿保護層１６表面に、選択された接着剤を塗布した後に、輝尽性蛍光体接着層を含む防湿保護層１６の全厚みを測定（アンリツ製：膜厚系Ｋ３５１Ｃ）し、予め測定しておいた防湿保護層１６の厚みを差し引くことにより得られた値を、輝尽性蛍光体接着層の厚みとした。これを、各サンプル４００ｍｍ×４００ｍｍサイズあたり１２点測定し、平均値を求めた。

［封止幅］
各サンプルの封止部分の幅を、鋼尺（ＪＩＳ１級）により、１２点測定し、平均値を求めた。

［蛍光体層表面と封止面との段差］
防湿保護層１６の付設に先立ち、３次元測定器（ミツトヨ製：非接触３次元測定器）により、蛍光体層１４表面のエッジとその近傍の封止面との段差を、各サンプル１２点測定し、平均値を求めた。

各実施例および比較例における封止接着層１８の厚みｂ、封止幅ａ、段差及び形成条件や材料等を表１に示す。

得られた各種の蛍光体パネルについて、下記のようにして、封止部透湿度及び封止部剥離強度を調べた。

［封止部透湿度］
防湿保護層１６の透湿度を４０℃、湿度９０％の条件下で、イリノイインスツルメンツ製：水蒸気透過率測定装置Ｍｏｄｅｌ７０００により測定した。このときの透湿度＝α（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）とした。
４５０ｍｍ×４５０ｍｍ、厚さ３ｍｍの基板の表面に、各実施例および比較例と同様にして、蛍光体層１４および接着層（封止接着層１８あるいはさらに輝尽性蛍光体接着層２２、２８）を形成して、蛍光体層１４を防湿保護層１６で封止し、透湿度測定のサンプルとした。なお、基板１２を薄くしたのは、透湿量を重量変化で測定するため、厚み１０ｍｍの基板では基板重量が重く、吸湿による重量増加が測定可能となるまでに時間がかかるためである。ただし、薄い基板でも、透湿量は何ら変わることは無い。
このサンプルの重量をメトラー製：ＰＧ２００２−２で測定し、この時の重量値を初期重量＝β（ｇ）とした。
その後、サンプルを４０℃、湿度９０％の恒温槽に投入し、１００日間経時させた。経時後の重量を先と同様に測定し、この時の重量値を経時後重量＝γ（ｇ）とした。
サンプルの重量増加と、防湿保護層の透湿度から、封止部からの透湿量を計算により求めた。封止部からの透湿量＝Ｔ（ｇ／ｄａｙ）とした。防湿保護層の面積をＳ（ｍ^２）と表わすと、封止部からの透湿量は、以下の式で表わされる。
Ｔ＝（γ−β）／１００−（α×Ｓ）
結果を表２に示す。

［封止部剥離強度］
各実施例の基板と同材質のアルミ板（幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍ、厚み１ｍｍ）を準備した。このアルミ板に、各実施例および比較例と同様の幅、厚みを有する直線状の封止接着層１８を形成して防湿保護層１６を貼り付けた。同様にして、プレス型による押圧もしくは、ラミネーションにより、実施例記載の防湿保護層を、実施例の記載と同様の方法及び条件にて貼り付けを実施した。防湿保護層のアルミ板からはみ出した部分は、カッターで切り落とした。
貼り付けた防湿保護層端部約１０ｍｍを剥離しておき、引っ張り試験機（島津製：小型卓上試験機ＥＴ ＴＥＳＴ）により、１８０℃剥離強度を測定した。結果を表２に併記する。

この封止部透湿度及び封止部剥離強度に基づいて、各蛍光体パネルの感度（相対値）を評価した。なお、この相対的な感度の総合評価において、１は、「実用に適さない」、２は、「実用良好」、３は、「実用性特に良好」、４は、「実用性最高レベル」である。総合評価を表２に併記する。

表２より明らかなように、実施例１は、加工性、実用性ともに良好である。さらに、実施例２は、防湿保護層１６と蛍光体層１４とが接着しているのでより耐久性に優れている。実施例３は、封止接着層１８が防湿加保護層１６と蛍光体層１４との接着層を兼ねるので、加工性が特に良好であり、実施例４は、枠を有し、１方向にラミネート機を通すだけでよいので、実施例３より更に加工性が良好である。実施例５は、加熱封着により、実施例４より、より加工性、実用性ともに非常に良好である。つまり、本発明による実施例１から５、全てにおいて、優れた防湿性、強度、総合評価が得られている。
これに対して、比較例１は、封止接着層１８が厚すぎるため、透湿度が高く、封止部の透湿度が防湿保護層の透湿度となるため実用に適さない。また、比較例２は、封止接着層１８の厚みが薄すぎて、十分な封止接着強度が得られず実用に適さない。比較例３は、封止接着層の幅が狭すぎて、良好な封止ができず透湿量が大きくなってしまうため、実用に適さない。実施例４は、封止透湿量、封止部剥離強度共によい結果を出しているが、封止幅が大きすぎるため、蛍光体パネルの大きさに対して、撮像面が小さくなり、ひいては、必要な撮像面を確保するために、蛍光体パネルのサイズが大きくなってしまうので、実用には不向きであり、したがって、総合評価を１とした。比較例５は、輝尽性蛍光体接着層の厚みが薄く、封止接着強度が得られず剥離してしまうため、実用に適さない。比較例６は、輝尽性蛍光体接着層の幅が狭く、封止部透湿量が多く、また蛍光体層界面の輝尽性蛍光体接着層が厚いため画像鮮鋭性が低下してしまうため、実用に適さない。

本発明の製造方法により製造する本発明の蛍光パネルの一実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。 本発明の蛍光パネルの別の実施形態の概略構成を示す断面図である。

符号の説明

１０，２０，２６，３２，３４，３８，４２，４６ 蛍光体パネル
１２ 基板
１４ 輝尽性蛍光体層
１６ 防湿保護層
１８ 封止接着層
２２，２８， 輝尽性蛍光体接着層
２４ （アルミ）枠
３６ 溝
４０，４４，４８ 逃げ溝

Claims (10)

1. 基板と、真空成膜法により形成された輝尽性蛍光体層と、この輝尽性蛍光体層を封止する防湿保護層と、前記防湿保護層の外縁を接着する封止接着層とを有する輝尽性蛍光体パネルであって、
   前記封止接着層が、硬化後の接着剤の透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下、幅が２ｍｍから１０ｍｍ、且つ、厚みが０．５μｍから２０μｍであることを特徴とする輝尽性蛍光体パネル。
2. 前記輝尽性蛍光体層の表面と、前記防湿保護層とが輝尽性蛍光体接着層により接着されていることを特徴とする請求項１に記載の輝尽性蛍光体パネル。
3. 前記輝尽性蛍光体接着層と前記封止接着層とが一体的に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の輝尽性蛍光体パネル。
4. 前記輝尽性蛍光体層を前記基板面方向で囲むと共に、前記封止接着層によって前記防湿保護層と接着される封止部を有し、
   且つ、この封止部と前記輝尽性蛍光体層との高さの差が±０．１ｍｍ以内であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネル。
5. 基板に真空成膜法により輝尽性蛍光体層を形成した後、
   硬化後の透湿度が１０００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下となる接着剤を用いて、封止後における封止部の幅が２ｍｍから１０ｍｍ、且つ、厚みが０．５μｍから２０μｍとなるように接着剤層を形成し、
   この接着剤層によって防湿保護層を接着して、前記基板に形成した前記輝尽性蛍光体層を封止することを特徴とする輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
6. 前記輝尽性蛍光体層の封止と共に、前記輝尽性蛍光体層の表面と前記防湿保護層とを接着することを特徴とする請求項５に記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
7. 前記接着剤層を前記防湿保護層の全面に形成する請求項６に記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
8. 前記輝尽性蛍光体層の形成に先立ち、前記輝尽性蛍光体層の形成領域を前記基板面方向で囲む、前記輝尽性蛍光体層との高さの差が±０．１ｍｍ以内である封止部を前記基板に固定し、
   かつ、この封止部と前記防湿保護層とを前記接着剤層で接着することにより、前記輝尽性蛍光体層の封止を行うことを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
9. 前記接着剤層による前記輝尽性蛍光体層の封止を、熱ラミネーションによって行うことを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。
10. 前記熱ラミネーションに先立ち、前記接着剤層を軟化温度より３０℃低い温度から１５０℃までの範囲で加熱することを特徴とする請求項９に記載の輝尽性蛍光体パネルの製造方法。

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