JP2007254190A - 窒化アルミニウム焼結体、窒化アルミニウム焼結体の製造方法、及び部材 - Google Patents

窒化アルミニウム焼結体、窒化アルミニウム焼結体の製造方法、及び部材 Download PDF

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Abstract

【課題】研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】粒界強度を向上させると共に、且つ、焼結処理中に窒化アルミニウムと固溶することにより粒界相として存在しなくなるSiO又はMgOを窒化アルミニウム粉末に微量添加し、1600[℃]以上1750[℃]以下の低温で窒化アルミニウム粉末を焼結することにより、研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体を製造できることを知見した。
【選択図】図1

Description

本発明は、窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法に関する。
従来より、窒化アルミニウム焼結体は研磨によって数十nmオーダーの平坦度が得られにくいことが知られている。本願発明の発明者らは、平坦度が得られにくい原因は、研磨時に窒化アルミニウム粒子の脱落が起こることにあると考え、精力的な研究を重ねてきた結果、粒界の強度を高く、且つ、窒化アルミニウム粒子の粒径を小さくすることにより、窒化アルミニウム粒子の脱落を抑制できることを知見した(特許文献1参照)。また、本願発明の発明者らは、窒化アルミニウム焼結体にSiO2を添加することにより、粒界強度を向上できることを知見した(特許文献1参照)。
特開2005−029458号公報
しかしながら、窒化アルミニウム焼結体にSiOを添加した場合、窒化アルミニウム粒子の粒径が大きくなる傾向にあり、粒界強度の向上と窒化アルミニウム粒子の微粒化とを同時に実現することができなかった。また、SiO等の助剤添加量が多い場合には、粒界相が生成され、窒化アルミニウム粒子と粒界相の加工速度の違いによって粒界相に窪みができるため、平坦化を向上させることができなかった。このような技術的背景から、研磨によって数十nmオーダーの平坦度を得することが可能な、研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体の提供が望まれていた。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体、窒化アルミニウム焼結体の製造方法、及び部材を提供することにある。
本願発明の発明者らは、粒界強度の向上,窒化アルミニウム粒子の微細化,及び粒界相の低減によって窒化アルミニウム焼結体の研磨による平坦性を向上できると考え、精力的な研究を重ねてきた結果、粒界強度を向上させると共に、且つ、焼結処理中に窒化アルミニウムと固溶することにより粒界相として存在しなくなるSiO(二酸化シリコン)又はMgO(酸化マグネシウム)を窒化アルミニウム粉末に微量添加し、1600[℃]以上1750[℃]以下の低温で窒化アルミニウム粉末を焼結することにより、研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体を製造できることを知見した。
このような知見から得られた本発明の第1の態様に係る窒化アルミニウム焼結体の特徴は、結晶粒径が2.0[μm]以下であり、X線回折装置によって検出される結晶相がAlN相のみ又はAlN相とAlON相のみであり、SiO又はMgOを0.05[wt%]以上1[wt%]以下含有することにある。また、本発明の第2の態様に係る窒化アルミニウム焼結体の特徴は、表面粗さが100[nm]以下であることにある(本明細書中において「表面粗さ」とは最大断面高さRtのことを意味する)。
なお、上記窒化アルミニウム焼結体は、窒化アルミニウム粉末を1600[℃]以上1750[℃]以下の温度範囲で焼結することにより製造することが望ましい。また、上記窒化アルミニウム粉末の平均結晶粒径は、2.0[μm]以下、より好ましくは0.5[μm]以上1.0[μm]以下の範囲内にあることが望ましい。また、静電チャック等の半導体製造装置用部材や精密部材成形用等の型材の少なくとも一部を上記窒化アルミニウム焼結体によって形成してもよい。
以下、本発明の実施形態となる窒化アルミニウム焼結体の製造方法について説明する。
[実施例1]
実施例1では、始めに、平均粒径0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にMgOを0.5重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより実施例1の混合粉末を調製する。なお、混合方式は湿式及び乾式のどちらの方式であってもよく、湿式により混合した場合には、混合後乾燥処理を行うことにより混合粉末を調製する。混合粉末の調製が完了すると、次に、混合粉末をそのまま又はバインダを加えて造粒したものを用いて成形し、円盤状の成形体を得る。なお、成形方法は特に限定されることはなく、金型成形法,CIP(Cold Isostatic Pressing)法,スリップキャスト法等の種々の方法を用いることができる。そして、ホットプレス法又は常圧焼結法等の方法により成形体を1650[℃]で4時間焼結することにより、実施例1の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例1の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は0.7[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例1の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[実施例2]
実施例2では、始めに、平均粒径0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にSiOを0.1重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより実施例2の混合粉末を調製する。そして以後、実施例1と同様の処理を行うことにより、実施例2の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例2の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.0[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例2の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[実施例3]
実施例3では、始めに、平均粒径0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にSiOを0.5重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより実施例3の混合粉末を調製する。そして以後、実施例1と同様の処理を行うことにより、実施例3の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例3の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は0.7[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例3の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[実施例4]
実施例4では、焼成温度を1650[℃]から1700[℃]に変更する以外は実施例1と同様の処理を行うことにより、実施例4の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例4の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.2[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例4の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[実施例5]
実施例5では、焼成温度を1650[℃]から1700[℃]に変更する以外は実施例2と同様の処理を行うことにより、実施例5の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例5の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.4[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例5の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[実施例6]
実施例6では、焼成温度を1650[℃]から1700[℃]に変更する以外は実施例3と同様の処理を行うことにより、実施例6の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、実施例6の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.4[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた実施例6の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[比較例1]
比較例1では、窒化アルミニウム粉末をそのまま又はバインダを加えて造粒したものを用いて成形し、円盤状の成形体を得る。そして、ホットプレス法又は常圧焼結法等の方法により成形体を1700[℃]で4時間焼結することにより、比較例1の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、比較例1の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.1[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた比較例1の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とAlON相により構成されていた。
[比較例2]
比較例2では、始めに、平均0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にYを0.5重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより比較例2の混合粉末を調製する。そして以後、実施例1と同様の処理を行うことにより、比較例2の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、比較例2の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.6[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた比較例2の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相,AlON相,及びYAG(YAl12)相により構成されていた。
[比較例3]
比較例3では、焼成温度を1650[℃]から1700[℃]に変更した以外は比較例2と同様の処理を行うことにより、比較例3の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、比較例3の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は2.2[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた比較例3の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相,AlON相,及びYAG相により構成されていた。
[比較例4]
比較例4では、始めに、平均粒径0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にSiOを2.0重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより比較例4の混合粉末を調製する。そして以後、比較例3と同様の処理を行うことにより、比較例4の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、比較例4の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は1.0[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた比較例4の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相とSiAl相により構成されていた。
[比較例5]
比較例5では、始めに、平均粒径0.7[μm]の窒化アルミニウム粉末100重量部にYを5.0重量部添加し、ポットミルやボールミルを用いて混合することにより比較例5の混合粉末を調製する。そして以後、比較例5と同様の処理を行うことにより、比較例5の窒化アルミニウム焼結体を得た。なお、比較例5の窒化アルミニウム焼結体中の窒化アルミニウム粒子の平均粒径を確認した所、平均粒径は4.0[μm]であった。また、X線回折装置によって得られた比較例5の窒化アルミニウム焼結体の結晶相を確認した所、窒化アルミニウム焼結体はAlN相,YAL(YAlO)相,及びYAM(YAl)相により構成されていた。
[評価方法]
上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体それぞれについて、研磨後脱粒数[個/mm],表面粗さ[Rt,nm],及び50[mm]あたりのパーティクル数[個]を測定することにより、窒化アルミニウム焼結体の研磨による平坦性を評価した。なお、研磨後脱粒数[個/mm],表面粗さ[Rt,nm],及び50[mm]あたりのパーティクル数[個]は以下に示す方法により測定した。
〔研磨後脱粒数の測定方法〕
上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体の片面を♯400のダイヤモンド砥石で研削した後、粒径が9[μm]及び3[μm]のダイヤモンド砥粒を含むスラリーを滴下した銅製ラッピング盤により窒化アルミニウム焼結体の表面を研磨する。そして、研磨面の中心及び端部の2箇所それぞれについて4[mm]の範囲をSEMで観察することにより研磨面から脱落している窒化アルミニウム粒子数を計測し、計測された粒子数を4[mm]で除算することにより研磨後脱粒数を算出する。
〔表面粗さの測定方法〕
上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体の片面を♯400のダイヤモンド砥石で研削した、粒径が9[μm]及び3[μm]のダイヤモンド砥粒を含むスラリーを滴下した銅製ラッピング盤により研磨し、粒径が1[μm]のダイヤモンド砥粒を含むスラリーを滴下したバフ盤で270分間研磨した後の表面粗さを測定した。
〔パーティクル数の測定方法〕
パーティクル数は、上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体を静電チャックとして用いてSiウェハを吸着し、Siウェハ上に脱落した窒化アルミニウム粒子数を測定することにより測定する。具体的には、測定試験用の密閉可能なチャンバー内に図1に示すような温度調整用の板状セラミックスヒータ40を設置し、その上にスペーサ30を介してSiウェハ20を載置する。また、上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体である静電チャック10の裏面に導電ペースト50からなる吸着印加用電極を形成し、吸着面を下方に向けて静電チャック10をSiウェハ20上に載置する。そして、室温の状態でチャンバー内の排気を開始し、セラミックスヒータ40を用いて静電チャック10を徐々に加熱し、真空状態で400[℃]まで昇温する。次に、400[℃],吸着電圧250[V],1[min]の条件でSiウエハ20を静電チャック10の吸着面に吸着させた後、静電チャック10を室温まで降温し、チャンバー内の圧力を大気圧まで戻し、静電チャック10を取り除き、Siウエハ20上に脱落している窒化アルミニウムの粒子数を数えた。なお、窒化アルミニウム粒子であるか否かの判断は、全ての粒子についてEDS分析を行うことにより行った。また、50[mm]あたりのパーティクル数は、Siウエハ20の中心及び端部の2箇所それぞれについて4[mm]の範囲をSEMで観察し、観察結果から50[mm]あたりのパーティクル数を計算することにより測定した。
[評価結果]
上記実施例及び比較例の窒化アルミニウム焼結体それぞれについて、研磨後脱粒数[個/mm]及び50[mm]あたりのパーティクル数[個]を測定した結果を以下の表1に示す。
Figure 2007254190
実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体と比較例2,3,5の窒化アルミニウム焼結体とを比較すると、比較例2,3,5の窒化アルミニウム焼結体よりも実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体の方が研磨後脱粒数及びパーティクル数が少ないことがわかる。また、実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体と比較例1〜5の窒化アルミニウム焼結体とを比較すると、実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体よりも比較例1〜5の窒化アルミニウム焼結体の方が表面粗さが粗いことがわかる。このことから、窒化アルミニウム焼結体の構成相をAlN相とAlON相のみとすることにより、窒化アルミニウム粒子と加工速度が異なる粒界相がなく、且つ、研磨の際の窒化アルミニウム粒子の脱落が抑えられ、窒化アルミニウム焼結体の研磨による平坦性を向上できることが知見される。
また、実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体と比較例1〜3,5の窒化アルミニウム焼結体とを比較すると、比較例1〜3,5の窒化アルミニウム焼結体よりも実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体の方が研磨後脱粒数及びパーティクル数が少ないことがわかる。このことから、SiO又はMgOを添加することにより、粒界強度が向上し、研磨の際の窒化アルミニウム粒子の脱落が抑えられ、窒化アルミニウム焼結体の研磨による平坦性を向上できることが知見される。
また、実施例5,6の窒化アルミニウム焼結体と比較例4の窒化アルミニウム焼結体とを比較すると、比較例4の窒化アルミニウム焼結体よりも実施例5,6の窒化アルミニウム焼結体の方が研磨後脱粒数及びパーティクル数が少ないことがわかる。このことから、添加するSiOの量が微量である方が、研磨の際の窒化アルミニウム粒子の脱落が抑えられることが知見される。なお、実施例1〜6の窒化アルミニウム焼結体のパーティクル数が少ない理由は、表面粗さが100[nm]以下と非常に小さいことにより、粒子の段差がSiウェハに引っかからなくなり、粒子が抜けなくなったためと考えられる。
以上、本発明者らによってなされた発明を適用した実施の形態について説明したが、この実施の形態による本発明の開示の一部をなす論述及び図面により本発明は限定されることはない。すなわち、上記実施の形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施の形態、実施例及び運用技術等は全て本発明の範疇に含まれることは勿論であることを付け加えておく。
パーティクル数を測定するための測定装置の構成を示す模式図である。
符号の説明
10:静電チャック
20:Siウエハ
30:スペーサ
40:ヒータ
50:導電ペースト
60:端子

Claims (5)

  1. 平均結晶粒径が2.0[μm]以下であり、X線回折装置によって検出される結晶相がAlN相のみ又はAlN相とAlON相のみであり、SiO又はMgOを0.05[wt%]以上1[wt%]以下含有することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体。
  2. 請求項1に記載の窒化アルミニウム焼結体の製造方法であって、窒化アルミニウム粉末を1600[℃]以上1750[℃]以下の温度範囲で焼結することにより窒化アルミニウム焼結体を製造することを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
  3. 請求項2に記載の窒化アルミニウム焼結体の製造方法であって、前記窒化アルミニウム粉末の平均結晶粒径が0.5[μm]以上1.0[μm]以下の範囲内にあることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
  4. 請求項1に記載の窒化アルミニウム焼結体によって少なくとも一部が形成されていることを特徴とする部材。
  5. 表面粗さが100[nm]以下の平滑面を有する窒化アルミニウム焼結体によって少なくとも一部が形成されていることを特徴とする部材。
JP2006078689A 2006-03-22 2006-03-22 窒化アルミニウム焼結体、窒化アルミニウム焼結体の製造方法、及び部材 Pending JP2007254190A (ja)

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