JP2007247067A5 - - Google Patents
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これは、ステップa)〜ステップe)を実行した後で、バルク金属基板5のタップ穴にネジ30を、基板の上側表面を越えてこのネジ30を突出させることによって配置し(図5A、図5B参照)、金属基板が層間剥離により分離される前にバルク金属基板からこのネジを外すことが可能であるからである。このネジは、電気鋳造された金属に接着しない不活性材料、例えばテフロン(登録商標)(PTFE)から構成される。ネジ穴を配置することが望まれる位置の下において、ネジ穴がバルク金属基板5を垂直に通るようにバルク金属基板5にタッピングされ、ネジ30が下から上記穴に導入され(図5A、図5B参照)、上記ネジの一部が基板より上に突出する。ステップf)中、金属又は合金が、バルク金属基板から突出するネジの一部分を取り囲む。ステップi)の前に、このネジはバルク金属基板から外される。このネジの長さに応じて、盲穴のタッピング(図5A)又は貫通穴のタッピング(図5B)のいずれを行うことも可能である。
リターンスプリングの製造
図1は、円筒形穴3及び面取り部分4を有するリターンスプリング1を示している。
図1は、円筒形穴3及び面取り部分4を有するリターンスプリング1を示している。
このUV照射Rは、照射ゾーン6b内の樹脂の光硬化を誘発し、照射されなかったゾーン6aは硬化しないままとなる。
図2Eは、本方法のステップh)中、面取り作業時に得られる構造を示している。この図は、基板5、金属構造9、硬化した樹脂モールド6b、面取りされた穴3a、及び面取りに使用されるミリングカッター8を示している。
時計ムーブメント用の脱進機構のアンクルの製造
図3A及び図3Bは、円筒形穴3、フォーク2a、及び凹部2bを含むアンクルを示している。
図3A及び図3Bは、円筒形穴3、フォーク2a、及び凹部2bを含むアンクルを示している。
図4Aは、本方法のステップb)の後で得られる構造を示しており、この構造は、基板5を覆うフォトレジスト層6を含む。この構造は、以下の手順を使用して得られたものである。
厚さ1mm、直径150mmのステンレス鋼板から形成された基板5の表面を、アルカリ性溶液で脱脂し、酸性溶液で中和して不動態化し、次いで蒸留水で洗浄し、乾燥させることによって、基板5の脱脂と電気鋳造の準備とを行った。次に、厚さ70μmの8官能エポキシ樹脂SU−8−2035(Shell Chemical社)を主成分とするネガ型の第1のフォトレジスト層をスピンコーティングによって基板5の上に堆積させ、続いて溶媒を蒸発させるために、65℃で3分間、次いで95℃で9分間加熱した。次に、厚さ70μmの同じフォトレジストの第2の層をスピンコーティングによって第1のフォトレジスト層上に堆積させ、続いて溶媒を蒸発させるために、65℃で5分間、次いで95℃で35分間加熱した。
図4Bは、本方法のステップc)に対応しており、所望のインプレッションに対応するマスクを通して、フォトレジストに波長365nmを中心とした約450mJ/cm2のUV照射が行われる。この図は、UV透過性支持体7及びクロム堆積物によって形成された不透明ゾーン7aを含むマスクを示している。このUV照射Rは、照射されたゾーン6b内の樹脂を光硬化させ、照射されないゾーン6aは硬化しないままとなる。
図4Cは、本方法のステップe)の後で得られる構造を示している。硬化を完成するために、ステップc)の後で得られた層を65℃で1分間、続いて95℃で15分間アニールし、次いで照射されていないフォトレジストを、3つの連続する(次第に純度が高まる)PGMEA浴に15分間通過させることで溶解させ、イソプロピルアルコール浴で洗浄し、乾燥させた。この図は、基板5上の硬化したフォトレジストモールド6bを示している。
図4Dは、硬化したフォトレジストモールドの開口部分内にニッケルを電気めっきし、平坦な上側表面を得るために研削及び研磨することによって平坦化する、本方法のステップf)及びg)を実行し、エポキシ樹脂SU−8−2035を主成分とする同じフォトレジストの2つの連続した50μmの層でステップa)及びb)を繰り返し、第1の層の場合には、65℃で3分間、次いで95℃で6分間加熱し、第2の層の場合には、65℃で5分間、次いで95℃で20分間加熱することによって得られた構造を示している。図4Dは、基板5の上部の硬化したフォトレジスト6b及び電気鋳造された層10を第2のフォトレジスト層11が覆っているのを示している。
図4Eは、(ステップh)中の)本方法のステップc)の繰り返しに対応しており、所望のインプレッションに対応する新しいマスクを通して、フォトレジストに波長365nmを中心とした約400mJ/cm2のUV照射が行われる。この図は、第2のUV透過性支持体12及びクロム堆積物によって形成された不透明ゾーン12aを含むマスクを示している。このUV照射Rは、照射されたゾーン11b内の樹脂を光硬化させ、照射されないゾーン11aは硬化しないままとなる。
図4Fは、(ステップh中に)本方法のステップe)を繰り返した後で得られる構造を示している。硬化を完成するために、ステップc)を繰り返した後で得られた層を65℃で1分間、続いて95℃で15分間アニールし、次いで照射されていないフォトレジストを、3つの連続する(次第に純度が高まる)PGMEA浴に15分間通過させることによって溶解させ、イソプロピルアルコール浴で洗浄し、乾燥させた。この図は、基板5の上部の第1の硬化したフォトレジストモールド6b及び電気鋳造された金属層10の上部に、第2の硬化したフォトレジストモールド11bがあるのを示している。
図4Gは、(ステップi中に)本方法のステップf)及びg)を繰り返した後で得られる構造を示している。第2の電気めっきステップは、意図する厚さよりもわずかに多くの量(10〜30μm)の同じ金属、即ち、ニッケルを用いて実行し、その後、平坦な上側表面を得るために研削及び研磨による平坦化を行った。この図は、基板5の上部の第1の硬化したモールド6b及び第1の電気鋳造された金属層10の上部に、第2の硬化した樹脂モールド11b及び第2の電気鋳造された層13があるのを示している。
図6は、金属基板21上に電気鋳造によって堆積された金属層22内に保持されることが意図された時計ムーブメントの軸受宝石から構成される挿入物24の取り外し可能な位置決めを示している。この目的のために、宝石軸受24の穴の直径に調整した位置決めペグ23aで終端する位置決め部材23は、基板21の位置決め穴に圧入され、基板21の表面を越えてペグ23aを突出させる。したがって、ペグ23a上に正確かつ着脱自在に宝石を配置することができる。宝石24の横方向の表面は溝24aを有し、それにより、電気鋳造によって堆積した金属で、電気鋳造された金属層22内に軸受を固定するための環状リブ22aを形成することが可能になる。このようにして特に高い精度が得られるが、これは、宝石24が、その周辺部によってではなく、その穴によって中央に配置されるからである。さらに、基板21が再利用できるので、基板21を極めて精密な許容差で製造することができる。
1 リターンスプリング
2a フォーク
2b 凹部
3 円筒形穴
3a 面取りされた穴
4 面取り部分
5 基板
6 フォトレジスト層
6a 照射されないゾーン
6b 照射されるゾーン、フォトレジストモールド、硬化した樹脂モールド
7 UV透過性支持体
7a 不透明ゾーン
8 ミリングカッター
9 金属構造、電気鋳造された層
10 金属層、電気鋳造された層
11 フォトレジスト層
11a 照射されないゾーン
11b 照射されるゾーン、第2の硬化したフォトレジストモールド
12 UV透過性支持体
12a 不透明ゾーン
13 第2の電気鋳造された層
21 金属基板
22 金属層
22a 環状リブ
23 位置決め部材
23a 位置決めペグ
24 挿入物、宝石軸受、宝石
24a 溝
30 ネジ
R UV照射
2a フォーク
2b 凹部
3 円筒形穴
3a 面取りされた穴
4 面取り部分
5 基板
6 フォトレジスト層
6a 照射されないゾーン
6b 照射されるゾーン、フォトレジストモールド、硬化した樹脂モールド
7 UV透過性支持体
7a 不透明ゾーン
8 ミリングカッター
9 金属構造、電気鋳造された層
10 金属層、電気鋳造された層
11 フォトレジスト層
11a 照射されないゾーン
11b 照射されるゾーン、第2の硬化したフォトレジストモールド
12 UV透過性支持体
12a 不透明ゾーン
13 第2の電気鋳造された層
21 金属基板
22 金属層
22a 環状リブ
23 位置決め部材
23a 位置決めペグ
24 挿入物、宝石軸受、宝石
24a 溝
30 ネジ
R UV照射
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