JP2007203066A - X線装置の焦点‐検出器装置のx線光学透過格子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査対象(7、P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成するために、少なくとも1つのウェハの少なくとも1つの表面に周期的に配置される多数の格子突条部(S)および格子間隙(L)を有するX線装置(1)の焦点‐検出器装置(F1、D1)のX線光学透過格子(Gx)において、X線光学透過格子(Gx)が、ビーム方向に直接前後に配置された少なくとも2つの部分格子(Gx1、Gx2)から構成されている。
【選択図】図8
Description
実験室X線線源からのX線光子の放出、および第一乃至第三世代の従来のシンクロトロン放射線源からのX線光子の放出は、確率的プロセスに基づいている。それゆえに、放出されたX線は空間的コヒーレンスを持たない。しかし、線源が観察者もしくは対象、格子または検出器に対して現れる観察角が十分に小さい場合、X線線源のX線は位相コントラストラジオグラフィー、位相コントラスト断層撮影法もしくは任意の干渉実験において空間的コヒーレントX線として挙動する。拡張されたX線線源の空間的または横方向コヒーレンスの尺度とすることができるのはいわゆる空間的コヒーレンス長LCである。
LC=λ(a/s)。 (1)
但し、λはX線の波長、sは横方向線源寸法、aは線源‐観察点間の距離である。幾人かの専門家は上で定義した値の半分も空間的コヒーレンス長と称している。厳密な値は二次的なことである。重要なことは、ビームが互いに干渉する空間領域の(横方向)寸法に比較してコヒーレンス長LCが大きいことである。
g0/g2=l/d (2)
に従って適切に調整すると、少なくとも定在波場の最大と最小との強度的に正しい重なりが可能である。本件明細書の短縮した表現ではこれに関連して用語「準コヒーレントX線」または「準コヒーレントX線線源」が使用される。
本発明の有利な実施態様は従属請求項に記載されている。
位相格子G1の周期と分析格子G2の周期とは、コーンビームジオメトリの場合次式によって一次近似で互いに結合されている。
g2=(1/2){(r1+d)/r1}g1
但し、dは格子間の距離、r1は線源と第1格子との間の距離、g2は定在波場の横周期に等しい分析格子の周期、g1は位相格子の周期である。
分析格子の格子線が定在波場に対して(従って位相格子の格子線に対して)平行でない場合、分析格子の後方に配置された検出器には、干渉パターンではなく、格子突条部に垂直な陰影線からなるいわゆる捩れモアレパターンが生じる。格子線は、このパターンが消えるように格子を回転させることによって平行に位置合せすることができる。
2 第1X線管
3 第1検出器
4 第2X線管
5 第2検出器
6 ガントリハウジング
7 患者
8 患者寝台
9 システム軸線
10 制御および演算ユニット
11 記憶装置
D1 検出器
d 距離
EX 検出素子
F1 焦点
G0 線源格子
G1 位相格子
G2 分析格子
Gxy 部分格子
g0,g1,g2 格子線の周期
h0,h1,h12 格子突条部の高さ
L 間隙
l 距離
P 試料
Prgn プログラム
S 突条部
Si X線ビーム
x,y,z 直角座標
Claims (20)
- 検査対象(7,P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成するために、少なくとも1つのウェハの少なくとも1つの表面に周期的に配置された多数の格子突条部(S)および格子間隙(L)を有する、X線装置(1)の焦点‐検出器装置(F1,D1)のX線光学透過格子(Gx)において、X線光学透過格子(Gx)が、ビーム方向に直接前後に配置された少なくとも2つの部分格子(Gx1,x2)から構成されていることを特徴とするX線装置の焦点‐検出器装置のX線光学透過格子。
- 2つの部分格子(Gx1,Gx2)の格子突条部(S)および格子間隙(L)が単一のウェハの両面に配置されていることを特徴とする請求項1記載の透過格子。
- 少なくとも2つの部分格子(Gx1,Gx2)が異なる(=同一でない)ウェハによって形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の透過格子。
- 少なくとも1つの部分格子(Gxy)の格子間隙(L)内に、関係するエネルギー範囲においてウェハ材料に比べて高い線形減弱係数を有する充填材料が配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載の透過格子。
- 全ての部分格子(Gxy)の格子間隙(L)内に、関係するエネルギー範囲においてウェハ材料に比べて高い線形減弱係数を有する充填材料が配置されていることを特徴とする請求項4記載の透過格子。
- 部分格子(Gxy)の格子間隙(L)内に充填材料が格子突条部(S)と同一面で配置されていることを特徴とする請求項5記載の透過格子。
- 各ビーム(Si)が部分格子(Gxy)を通過した時に格子突条部(S)のみまたは格子間隙(L)のみを透過するように、部分格子(Gxy)の格子突条部(S)および格子間隙(L)が互いに平行に向けられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1つに記載の透過格子。
- 通過するX線のビーム経過がファン状またはコーン状に構成され、
ビーム方向に前後に配置された部分格子(Gx1,Gx2,Gx3)が異なる格子周期(gx1,gx2,gx3)を有し、
ビーム束のビーム(Si)が格子間隙(L)のみまたは格子突条部(S)のみを透過するように、格子(gx1,gx2,gx3)の周期が少なくとも1つの部分格子(Gx1)から少なくとも1つの後続の部分格子(Gx2)へ上昇し、かつ部分格子(Gx1,Gx2,Gx3)が互いに位置合わせして配置されている
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1つに記載の透過格子。 - 部分格子(Gxy)が平坦に構成されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1つに記載の透過格子。
- 部分格子(Gxy)が少なくとも1つの平面で放射原点を中心に湾曲して構成されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1つに記載の透過格子。
- 少なくとも1つの部分格子(Gxy)が、ビーム方向に向けられた格子突条部(S)および格子間隙(L)を有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1つに記載の透過格子。
- 透過格子が位相格子(G1)であり、位相シフトの測定に利用されたエネルギーのX線がX線のλ/2の位相シフトを生成し、全格子の後のX線の減弱が、少なくとも位相シフトの測定に利用されたエネルギーに関して、突条部(S)を通過した後と充填材料を通過した時とで同じになるように、間隙(L)内の充填材料の高さが設定されていることが、部分格子(G11,G12,G13)全体に適用されることを特徴とする請求項4乃至11のいずれか1つに記載の透過格子。
- 透過格子が位相格子(G1)であり、位相シフトの測定に利用されたエネルギーのX線がX線のλ/2の位相シフトを生成し、各部分格子(G11,G12,G13)後にX線の減弱が、少なくとも位相シフトの測定に利用されたエネルギーに関して、突条部を通過した時と充填材料を通過した後とで同じになるように、間隙(L)内の充填材料の高さが設定されていることが、各部分格子(G11,G12,G13)に個々に適用されることを特徴とする請求項4乃至11のいずれか1つに記載の透過格子。
- 少なくとも2つの部分格子(Gx1,Gx2,Gx3)の格子突条部の向きが同じ方向を向いていることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1つに記載の透過格子。
- 少なくとも2つの部分格子(Gx1,Gx2,Gx3)の格子突条部の向きが逆方向に向いていることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1つに記載の透過格子。
- 個別のウェハ上に配置された少なくとも2つの部分格子(Gx1,Gx2,Gx3)が、相互の位置合せを可能にするマークを有することを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1つに記載の透過格子。
- 検査対象(7)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線装置(1)の焦点‐検出器装置(F1,D1)において、使用されたX線光学格子の少なくとも1つが請求項1乃至16のいずれか1つに記載の透過格子として構成されていることを特徴とするX線装置の焦点‐検出器装置。
- 投影による位相コントラスト画像を作成するためのX線システムにおいて、X線システムが請求項17記載の焦点‐検出器装置を有することを特徴とするX線システム。
- 投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線Cアームシステムにおいて、X線Cアームシステムが請求項17記載の焦点‐検出器装置を有することを特徴とするX線Cアームシステム。
- 断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線コンピュータ断層撮影システムにおいて、X線コンピュータ断層撮影システムが請求項17記載の焦点‐検出器装置を有することを特徴とするX線コンピュータ断層撮影システム。
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008289878A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Siemens Ag | X線吸収格子 |
JP2009150875A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-07-09 | Csem Centre Suisse D'electronique & De Microtechnique Sa | 干渉計デバイス及び干渉法 |
JP2011047748A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Canon Inc | X線用位相格子及びその製造方法 |
JP2011512187A (ja) * | 2008-02-14 | 2011-04-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 位相コントラストイメージング用のx線検出器 |
JP2011157622A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-08-18 | Canon Inc | 微細構造体の製造方法 |
WO2012073545A1 (en) | 2010-11-29 | 2012-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an x-ray diffraction grating microstructure for imaging apparatus |
JP2012516739A (ja) * | 2009-02-05 | 2012-07-26 | パウル・シェラー・インスティトゥート | 格子を用いたシングルステップの低線量x線位相コントラストイメージング |
JP2012521793A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | アクロマティック位相コントラストイメージング |
JP2012527293A (ja) * | 2009-05-19 | 2012-11-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 位相コントラストイメージング用格子 |
JP2012530270A (ja) * | 2009-06-16 | 2012-11-29 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 傾けられた格子及び傾けられた格子の製造方法 |
JPWO2011033798A1 (ja) * | 2009-09-16 | 2013-02-07 | コニカミノルタエムジー株式会社 | X線撮影装置、x線画像システム及びx線画像生成方法 |
JP2013541397A (ja) * | 2010-11-08 | 2013-11-14 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 位相コントラスト撮像に関する格子 |
JP2014510263A (ja) * | 2011-02-07 | 2014-04-24 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | ダイナミックレンジを増大する微分位相コントラスト撮像 |
US8718228B2 (en) | 2008-03-13 | 2014-05-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Phase grating used for X-ray phase imaging, imaging apparatus for X-ray phase contrast image using phase grating, and X-ray computed tomography system |
US9063055B2 (en) | 2011-09-15 | 2015-06-23 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray imaging apparatus |
JP2018528408A (ja) * | 2015-07-21 | 2018-09-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 位相コントラスト及び/又は暗視野撮像のためのx線検出器 |
Families Citing this family (79)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2869443B2 (ja) | 1992-09-24 | 1999-03-10 | 関西ペイント株式会社 | 上塗り塗料組成物 |
JP5451150B2 (ja) * | 2008-04-15 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | X線用線源格子、x線位相コントラスト像の撮像装置 |
DE102008049200B4 (de) | 2008-09-26 | 2010-11-11 | Paul Scherrer Institut | Verfahren zur Herstellung von röntgenoptischen Gittern, röntgenoptisches Gitter und Röntgen-System |
CN101413905B (zh) * | 2008-10-10 | 2011-03-16 | 深圳大学 | X射线微分干涉相衬成像*** |
JP5258504B2 (ja) * | 2008-10-24 | 2013-08-07 | キヤノン株式会社 | X線位相イメージングに用いられる位相格子及びその製造方法、該位相格子を用いたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム |
DE102009004702B4 (de) * | 2009-01-15 | 2019-01-31 | Paul Scherer Institut | Anordnung und Verfahren zur projektiven und/oder tomographischen Phasenkontrastbildgebung mit Röntgenstrahlung |
DE102009019595B4 (de) | 2009-04-30 | 2013-02-28 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Gitter mit großem Aspektverhältnis, insbesondere zur Verwendung als röntgenoptisches Gitter in einem CT-System, hergestellt durch ein Lithographieverfahren |
US8999435B2 (en) * | 2009-08-31 | 2015-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Process of producing grating for X-ray image pickup apparatus |
JP5627247B2 (ja) * | 2010-02-10 | 2014-11-19 | キヤノン株式会社 | マイクロ構造体の製造方法および放射線吸収格子 |
DE102010017425A1 (de) | 2010-06-17 | 2011-12-22 | Karlsruher Institut für Technologie | Geneigte Phasengitterstrukturen |
DE102010017426A1 (de) | 2010-06-17 | 2011-12-22 | Karlsruher Institut für Technologie | Gitter aus mindestens zwei Materialien für die Röntgenbildgebung |
US9036773B2 (en) * | 2010-06-28 | 2015-05-19 | Paul Scherrer Institut | Method for X-ray phase contrast and dark-field imaging using an arrangement of gratings in planar geometry |
JP2012013530A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 回折格子及びその製造方法、並びに放射線撮影装置 |
JP6060082B2 (ja) * | 2010-10-19 | 2017-01-11 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 微分位相コントラスト画像形成のための回折格子、システム、装置、方法、コンピュータプログラム及び媒体 |
JP6228457B2 (ja) * | 2010-10-19 | 2017-11-08 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 微分位相コントラスト画像形成 |
JP2012095865A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置、放射線撮影システム |
US9066704B2 (en) | 2011-03-14 | 2015-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray imaging apparatus |
GB201112537D0 (en) * | 2011-07-21 | 2011-08-31 | Ucl Business Plc | X-ray imaging |
JP6245794B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2017-12-13 | キヤノン株式会社 | 遮蔽格子の製造方法 |
DE102011082878A1 (de) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgendetektor einer gitterbasierten Phasenkontrast-Röntgenvorrichtung und Verfahren zum Betreiben einer gitterbasierten Phasenkontrast-Röntgenvorrichtung |
US9597050B2 (en) * | 2012-01-24 | 2017-03-21 | Koninklijke Philips N.V. | Multi-directional phase contrast X-ray imaging |
US9826949B2 (en) * | 2012-03-05 | 2017-11-28 | University Of Rochester | Methods and apparatus for differential phase-contrast cone-beam CT and hybrid cone-beam CT |
DE102012005767A1 (de) * | 2012-03-25 | 2013-09-26 | DüRR DENTAL AG | Phasenkontrast-Röntgen-Tomographiegerät |
DE112013002177A5 (de) | 2012-04-24 | 2014-12-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgenvorrichtung |
KR101378757B1 (ko) * | 2012-08-30 | 2014-03-27 | 한국원자력연구원 | 물질 원소 정보 획득 및 영상 차원의 선택이 가능한 방사선 영상화 장치 |
US8989347B2 (en) | 2012-12-19 | 2015-03-24 | General Electric Company | Image reconstruction method for differential phase contrast X-ray imaging |
US9724063B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-08-08 | Carestream Health, Inc. | Surrogate phantom for differential phase contrast imaging |
US10578563B2 (en) | 2012-12-21 | 2020-03-03 | Carestream Health, Inc. | Phase contrast imaging computed tomography scanner |
US9494534B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-11-15 | Carestream Health, Inc. | Material differentiation with phase contrast imaging |
US10096098B2 (en) | 2013-12-30 | 2018-10-09 | Carestream Health, Inc. | Phase retrieval from differential phase contrast imaging |
US9907524B2 (en) | 2012-12-21 | 2018-03-06 | Carestream Health, Inc. | Material decomposition technique using x-ray phase contrast imaging system |
US9700267B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-07-11 | Carestream Health, Inc. | Method and apparatus for fabrication and tuning of grating-based differential phase contrast imaging system |
US9357975B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-06-07 | Carestream Health, Inc. | Large FOV phase contrast imaging based on detuned configuration including acquisition and reconstruction techniques |
US9001967B2 (en) * | 2012-12-28 | 2015-04-07 | Carestream Health, Inc. | Spectral grating-based differential phase contrast system for medical radiographic imaging |
US9014333B2 (en) | 2012-12-31 | 2015-04-21 | General Electric Company | Image reconstruction methods for differential phase contrast X-ray imaging |
US9439613B2 (en) | 2013-02-12 | 2016-09-13 | The Johns Hopkins University | System and method for phase-contrast X-ray imaging |
DE102013205406A1 (de) * | 2013-03-27 | 2014-10-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgenaufnahmesystem zur Röntgenbildgebung bei hohen Bildfrequenzen eines Untersuchungsobjekts mittels direkter Messung des Interferenzmusters |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
EP3042383A1 (de) | 2013-10-07 | 2016-07-13 | Siemens Healthcare GmbH | Phasenkontrast-röntgenbildgebungsvorrichtung und phasengitter für eine solche |
US20150117599A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
CN104622492A (zh) * | 2013-11-11 | 2015-05-20 | 中国科学技术大学 | 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法 |
FR3015162B1 (fr) * | 2013-12-13 | 2017-11-03 | Commissariat Energie Atomique | Mire de resolution pour systeme d'imagerie a rayons x et procede de fabrication |
JP2015166676A (ja) * | 2014-03-03 | 2015-09-24 | キヤノン株式会社 | X線撮像システム |
DE102014204888A1 (de) | 2014-03-17 | 2015-09-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Aufbringen und/oder Einbringen sowie Visualisieren einer Kennzeichnung auf und/oder in einem Gegenstand |
KR20170009909A (ko) * | 2014-05-15 | 2017-01-25 | 시그레이, 아이엔씨. | 주기적 구조의 측정과 특성화 및 분석을 위한 x-선 방법 |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
DE102015201645A1 (de) | 2015-01-30 | 2016-08-04 | Siemens Healthcare Gmbh | Gegenstand mit einer versteckten Kennzeichnung sowie Verfahren zum Erzeugen und zum Auslesen der Kennzeichnung |
JP6451400B2 (ja) * | 2015-02-26 | 2019-01-16 | コニカミノルタ株式会社 | 画像処理システム及び画像処理装置 |
US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
WO2018087195A1 (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | Koninklijke Philips N.V. | Grating-based phase contrast imaging |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
CN110049727B (zh) * | 2016-12-06 | 2023-12-12 | 皇家飞利浦有限公司 | 用于基于光栅的x射线成像的干涉仪光栅支撑物和/或用于其的支撑物托架 |
US10923243B2 (en) | 2016-12-15 | 2021-02-16 | Koninklijke Philips N.V. | Grating structure for x-ray imaging |
JP6753342B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2020-09-09 | 株式会社島津製作所 | 放射線格子検出器およびx線検査装置 |
WO2018175570A1 (en) | 2017-03-22 | 2018-09-27 | Sigray, Inc. | Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system |
EP3447538A1 (en) * | 2017-08-23 | 2019-02-27 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray detection |
EP3498170A1 (en) * | 2017-12-12 | 2019-06-19 | Koninklijke Philips N.V. | Device and method for aligning an x-ray grating to an x-ray radiation source, and x-ray image acquisition system |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
CN112424591B (zh) | 2018-06-04 | 2024-05-24 | 斯格瑞公司 | 波长色散x射线光谱仪 |
GB2591630B (en) | 2018-07-26 | 2023-05-24 | Sigray Inc | High brightness x-ray reflection source |
EP3603515A1 (en) | 2018-08-01 | 2020-02-05 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus for generating x-ray imaging data |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
CN112638261A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-09 | 斯格瑞公司 | 利用滤波的x射线荧光的***和方法 |
CN112823280A (zh) | 2018-09-07 | 2021-05-18 | 斯格瑞公司 | 用于深度可选x射线分析的***和方法 |
US11268916B2 (en) * | 2018-11-06 | 2022-03-08 | Shimadzu Corporation | X-ray phase imaging system |
JP7182749B2 (ja) | 2019-09-03 | 2022-12-02 | シグレイ、インコーポレイテッド | コンピュータ断層撮影蛍光x線撮像のためのシステムおよび方法 |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
US11217357B2 (en) | 2020-02-10 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles |
CN115667896B (zh) | 2020-05-18 | 2024-06-21 | 斯格瑞公司 | 使用晶体分析器和多个检测元件的x射线吸收光谱的***和方法 |
WO2022061347A1 (en) | 2020-09-17 | 2022-03-24 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
WO2022126071A1 (en) | 2020-12-07 | 2022-06-16 | Sigray, Inc. | High throughput 3d x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
WO2023177981A1 (en) | 2022-03-15 | 2023-09-21 | Sigray, Inc. | System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
US20230375759A1 (en) * | 2022-05-18 | 2023-11-23 | GE Precision Healthcare LLC | Aligned and stacked high-aspect ratio metallized structures |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5812629A (en) * | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
WO2004058070A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-15 | Atsushi Momose | X線撮像装置および撮像方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1260869A1 (en) | 2001-05-23 | 2002-11-27 | ASML Netherlands B.V. | Substrate provided with an alignment mark in a substantially transparent process layer |
US7027226B2 (en) | 2001-09-17 | 2006-04-11 | Euv Llc | Diffractive optical element for extreme ultraviolet wavefront control |
AU2003267004A1 (en) | 2002-08-24 | 2004-04-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Binary blazed diffractive optical element |
EP1447046A1 (en) | 2003-02-14 | 2004-08-18 | Paul Scherrer Institut | Apparatus and method to obtain phase contrast x-ray images |
DE102006015355A1 (de) | 2006-02-01 | 2007-08-09 | Siemens Ag | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006017290B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-06-22 | Siemens Healthcare Gmbh | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur, Röntgen-System und Verfahren zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006015358B4 (de) | 2006-02-01 | 2019-08-22 | Paul Scherer Institut | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen, zugehöriges Röntgen-System sowie Speichermedium und Verfahren zur Erzeugung tomographischer Aufnahmen |
DE102006017291B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-05-24 | Paul Scherer Institut | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen, Röntgensystem mit einem solchen Fokus/Detektor-System sowie zugehöriges Speichermedium und Verfahren |
DE102006015356B4 (de) | 2006-02-01 | 2016-09-22 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren zur Erzeugung projektiver und tomographischer Phasenkontrastaufnahmen mit einem Röntgen-System |
-
2006
- 2006-08-09 DE DE102006037281A patent/DE102006037281A1/de not_active Ceased
-
2007
- 2007-01-30 JP JP2007020097A patent/JP5127249B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-31 US US11/700,139 patent/US7639786B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5812629A (en) * | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
WO2004058070A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-15 | Atsushi Momose | X線撮像装置および撮像方法 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008289878A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Siemens Ag | X線吸収格子 |
JP2009150875A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-07-09 | Csem Centre Suisse D'electronique & De Microtechnique Sa | 干渉計デバイス及び干渉法 |
JP2011512187A (ja) * | 2008-02-14 | 2011-04-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 位相コントラストイメージング用のx線検出器 |
US8576983B2 (en) | 2008-02-14 | 2013-11-05 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray detector for phase contrast imaging |
US8718228B2 (en) | 2008-03-13 | 2014-05-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Phase grating used for X-ray phase imaging, imaging apparatus for X-ray phase contrast image using phase grating, and X-ray computed tomography system |
JP2012516739A (ja) * | 2009-02-05 | 2012-07-26 | パウル・シェラー・インスティトゥート | 格子を用いたシングルステップの低線量x線位相コントラストイメージング |
JP2012521793A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | アクロマティック位相コントラストイメージング |
JP2012527293A (ja) * | 2009-05-19 | 2012-11-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 位相コントラストイメージング用格子 |
JP2018033988A (ja) * | 2009-06-16 | 2018-03-08 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 傾けられた格子及び傾けられた格子の製造方法 |
JP2012530270A (ja) * | 2009-06-16 | 2012-11-29 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 傾けられた格子及び傾けられた格子の製造方法 |
JP2011047748A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Canon Inc | X線用位相格子及びその製造方法 |
US8737561B2 (en) | 2009-08-26 | 2014-05-27 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray phase grating and method for producing the same |
JPWO2011033798A1 (ja) * | 2009-09-16 | 2013-02-07 | コニカミノルタエムジー株式会社 | X線撮影装置、x線画像システム及びx線画像生成方法 |
US8895934B2 (en) | 2010-01-08 | 2014-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Microstructure manufacturing method |
JP2011157622A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-08-18 | Canon Inc | 微細構造体の製造方法 |
JP2013541397A (ja) * | 2010-11-08 | 2013-11-14 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 位相コントラスト撮像に関する格子 |
WO2012073545A1 (en) | 2010-11-29 | 2012-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an x-ray diffraction grating microstructure for imaging apparatus |
JP2014510263A (ja) * | 2011-02-07 | 2014-04-24 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | ダイナミックレンジを増大する微分位相コントラスト撮像 |
US9063055B2 (en) | 2011-09-15 | 2015-06-23 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray imaging apparatus |
JP2018528408A (ja) * | 2015-07-21 | 2018-09-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 位相コントラスト及び/又は暗視野撮像のためのx線検出器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US7639786B2 (en) | 2009-12-29 |
JP5127249B2 (ja) | 2013-01-23 |
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