JP2007044693A - 洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハWに洗浄処理を行う基板処理装置100であって、CMP装置200によりCMP処理されたウエハWを洗浄するための複数の処理部30,40,50へ基板Wを順次搬送する。処理部30ではウエハWを保持ハンド35a,35bの保持用ローラ80(a〜c)に保持する。周縁部洗浄手段90は下方から昇降駆動手段94により洗浄位置に配置される。保持用ローラ80(a〜c)の回転により回転されるウエハWの表裏は両面洗浄装置34により洗浄され、同時に周縁部は周縁部洗浄手段90のブラシ毛922の側面に押圧され、その下面及び端面が洗浄される。
【選択図】図4
Description
33 保持装置
34 両面洗浄装置
90 周縁部洗浄手段
91 軸部
92 洗浄具
922 ブラシ毛
93 回転駆動部
100 基板処理装置
200 CMP装置
W ウエハ
Claims (8)
- 薄板状の被処理体を処理する洗浄装置において、
前記被処理体の端部を洗浄する略円錐状の傾斜側面を有する洗浄部を有する周縁部洗浄手段と、
前記周縁部洗浄手段を被処理体の端部に当接させる移動手段と、
を有し、
前記周縁部洗浄手段の前記洗浄部は、一体形成されたスポンジ体により形成され、
前記移動手段は被処理体の端部を周縁部洗浄手段の前記スポンジ体により形成された前記傾斜側面に当接させ、
前記スポンジ体に押圧されて基板の端部が洗浄されることを特徴とする洗浄装置。 - 請求項1に記載の洗浄装置において、
前記周縁部洗浄手段を回転させる第1回転駆動部を有することを特徴とする洗浄装置。 - 請求項2に記載の洗浄装置において、
前記被処理体の周縁部を保持しつつ前記被処理体を回転させる第2回転駆動部と、
前記第1回転駆動部と前記第2回転駆動部とを反対方向に回転させる第1制御手段と、
を更に有することを特徴とする洗浄装置。 - 請求項2に記載の洗浄装置において、
前記被処理体の周縁部を保持しつつ前記被処理体を回転させる第2回転駆動部と、
前記第1回転駆動部と前記第2回転駆動部とを同方向に回転させる第1制御手段と、
を更に有することを特徴とする洗浄装置。 - 請求項4に記載の洗浄装置において、
前記第1回転駆動部と前記第2回転駆動部とは、前記周縁部洗浄手段と前記被処理体とを同方向に異なる回転速度で回転させることを特徴とする洗浄装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の洗浄装置において、
前記第1回転駆動部は、前記被処理体の主面に垂直な軸を中心として前記周縁部洗浄手段を回転させることを特徴とする洗浄装置。 - 請求項1から請求項6までのいずれかに記載の洗浄装置において、
前記スポンジ体は、PVAのスポンジ体であることを特徴とする洗浄装置。 - 請求項1から請求項7までのいずれかに記載の洗浄装置において、
前記被処理体は、薄膜が形成された表面を研磨する加工処理がされた基板であることを特徴とする洗浄装置。
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